厚铜回流线圈蚀刻改进

回流圈是电源类PCB中常见的设计,它代替了原始变压器中电路绕匝的作用,通入电流后,与嵌入式的磁芯共同形成交变的电磁场。基于电源类PCB本身的特点以及功能性方面的要求,此类产品一般铜厚均超过102.9 m,部分产品甚至达到171.5 m~205.7 m,同时,线圈位置的线宽/间距设计较小。由于蚀刻过程中的水池效应,线圈位置的药液流动及交换情况本身就非常困难,加之铜厚及线宽/间距等方面的影响,使得此类产品在实际加工过程中,面临着欠蚀及线细等诸多的问题。以目前我厂加工的一款产品为例,其内层铜厚为205.7 m,外层铜厚为102.9 m,在外层线路部分设计有线圈,线圈位置客户原始设计的线宽/间距为0.2 mm/0.2 mm,加工难度相当大。文章中,通过一定的实验设计,对于此类产品从设计及制程的管控方面,探索新的尝试,希望能够对于大家有所启发。     

真空蚀刻技术：一项改良的超细线路蚀刻技术

蚀刻过程是PCB生产过程中基本步骤之一，简单的讲就是基底铜被抗蚀层覆盖．没有被抗蚀层保护的铜与蚀刻剂发生反应，从而被咬蚀掉．最终形成设计线路图形和焊盘的过程，当然．蚀刻原理用几句话就可以轻而易举地描述，但实际上蚀刻技术的实现还是颇具有挑战性，特别是在生产徽细线路时，很小的线宽公差要求，不允许蚀刻过程存在任何差错．因此蚀刻结果要恰到好处，不能变宽。也不能过蚀。     

厚铜板可靠性保证的控制方法研究

厚铜板这些年来一直是许多成长中PCB厂家一直跃跃欲试的一类产品。然而对于厚铜板,尤其是铜厚到205.7μm甚至511.4μm的产品而言,产品的可靠性是关键点,只有做到稳定的控制厚铜板的耐压性能,以及合适的线阻和电感等等性能,才能获得客户的认可并能为客户提供高质量的厚铜板。从设计和制作方面讨论如何控制好厚铜板的热可靠性、耐电压性能以及做好电阻,电感的控制。     

厚铜板盲孔缺胶改善探讨

随着模块电源的不断开发与发展,厚铜印制板的生产越来越受到业界的关注和重视。由于表铜较厚,在钻孔/层压/蚀刻/阻焊等制程均有区别于普通PCB加工的工艺控制和难点,且随着布线密度的增加,厚铜板采用盲埋孔设计工艺的比例也越来越高,这进一步加大了工艺加工难度。文章就厚铜板盲孔缺胶问题展开了一系列分析和探讨,并通过工艺优化进行了有效改善,大大提高了生产品质及一次良品率。     

碱性蚀刻的不良分析和改善

蚀刻工艺是印制线路板制作过程中一个非常重要的步骤,怎样提高蚀刻均匀性,降低蚀刻报废,非常的重要。设计方面:不同厚度的底铜做相应的补偿;设备方面:要从喷咀类型、喷咀方向、喷咀到板距离、蚀刻抽风量、蚀刻液的喷淋压力、防卡板上控制;药水和工艺方面:要从配制子液、蚀刻母液的氯铜比、蚀刻液温度、蚀刻液PH值等进行控制;检验方面:要从首末件的确认上控制批量蚀刻不良的流出。     

PCB外层电路的蚀刻工艺

在印制电路加工中，氨性蚀刻是一个较为精细和复杂的化学反应过程，却又是一项易于进行的工作。只要工艺上达至调通，就可以进行连续性的生产，但关键是开机以后就必需保持连续的工作状态，不适宜断断续续地生产。蚀刻工艺对设备状态的依赖性极大故必需时刻使设备保持在良好的状态。目前无论使用     

厚铜板阻焊起泡原因分析及改善

目前厚铜印制板的应用越来越多,使其在阻焊印刷过程中工艺参数管控与板面清洁工作就显得尤为重要.本文主要分析厚铜板油墨起泡的原因及探究改善措施;分析线路毛边长度、油墨粘度、阻焊印刷参数、静电对油墨起泡的影响后,通过新增二流体补充蚀刻、管控油墨粘度、静置加吸真空、调整印刷室湿度,针对性改善油墨起泡.     

厚铜印制板镀金工艺导线蚀刻后的凹槽填充研究

文章主要阐述一种具有厚铜和镀金插头双面板,由外置工艺导线蚀刻后产生方形凹槽,需要采用绝缘油墨填充在凹槽内。对此凹槽填充工艺进行了研究验证,在不增加原有工艺流程及成本的基础上,探索并导入一种凹槽印刷新工艺流程,以满足客户对外观之要求。     

温度对钨蚀刻的影响

运用ＳＦ６运行的表面波持续磁等离子体反应器研究基片温度（从Ｔｓ＝＋２０℃到Ｔｓ＝－４５℃）对钨材蚀刻性（蚀刻率及有向性）的影响。根据蚀刻性与氟原子浓度及离子流密度的关系，我们发觉当基片温度与ＳＦ６气压降低时，离子协助下的蚀刻现象比自发的化学蚀刻更为显著，在没有外部磁化的情况下，强的蚀刻有向性同时伴随有较强的亚微米均匀性（０．２～１μｍ）我们研究的结果显示出在基片温度（当其降低时，障碍自发的化学反应     

电镀铜厚差异对线宽的影响大小

本文针对电镀不均造成精细线路制作困难的问题,试验分析了不同电镀铜厚、不同最小间距板的线宽过蚀量,推算确定了不同电镀铜厚差异下的线宽大小差异值;并能根据线宽差异值反推出电镀铜厚差异的控制范围,为相关的生产指导和品质判定提供有价值、方便快捷的方法。     

铜蚀刻废液制备氧化铜

PCB行业主要存在酸性和碱性两种废液,当前对蚀刻废液的处理方法有许多种,其中沉淀法是经济的处理方法,而且去除铜率高。通过加入试剂,将废液中的铜离子转变成氢氧化铜沉淀,然后加热煅烧,得到最终产品氧化铜。分别采用单独对酸和两种废液混合二种方式制取氧化铜;讨论了酸度对沉铜量的影响,结果表明,铜离子沉淀的最佳pH分别为9和4.5,沉淀最佳的分解温度和时间分别为500℃和30 min。探讨了水洗量和次数对杂质的去除影响,分别得到水洗三次,纯净水两次为最佳结果。     

Microtrenching effect of SiC ICP etching in SF6/O2 plasma

Inductively coupled plasma (ICP) etching of single crystal 6H-silicon carbide (SIC) is investigated using oxygen (O2)-added sulfur hexafluoride (SF6) plasmas. The relations between the microtrenching effect and ICP coil power, the composition of the etch gases and different bias voltages are discussed. Experimental results show that the microtrench is caused by the formation of a SiFxOy layer, which has a greater tendency to charge than SiC, after the addition of O2. The microtrenching effect tends to increase as the ICP coil power and bias voltage increase. In addition, the angular distribution of the incident ions and radicals also affects the shape of the microtrench.     

SF6/O2气氛中SiC ICP刻蚀的微沟槽效应

本文采用SF6 + O2作为刻蚀气体,对单晶6H-SiC 材料的感应耦合等离子体( ICP) 刻蚀工艺进行了研究。着重分析了ICP 功率、偏置电压、气体混合比等工艺参数对微沟槽效应的影响。结果表明,O2的加入对于微沟槽的形成起到了极其重要的作用,微沟槽是加入氧气后形成的SiFxOy中间层的充电造成的。ICP功率与偏置电压的增大会增强微沟槽效应,进一步促进微沟槽的形成,另外入射离子的角度分布也会影响微沟槽的形成.     

浅谈多层埋／盲孔厚铜板的厚度控制

简要概述了带有埋/盲孔厚铜箔多层印制板制作过程中的厚度控制要点和方法。     

微晶磷铜阳极在高端PCB制造中的应用

介绍PCB制造过程中使用的酸性硫酸盐镀铜阳极的特点;普通磷铜阳极、微晶磷铜阳极材料的组织结构和电化学极化情况;以及微晶磷铜阳极在高端PCB制造中的优点和应用。     

高层厚孔铜产品制作流程优化探讨

探究一种针对孔铜为70μm产品的制作方法,以优化流程,实现孔铜控制在70μm以上,蚀刻底铜控制在75μm以下,以减低相对孤立、细小线路的制作对蚀刻带来的难度。主要针对以下几类实现方式：镀孔＋正片,假负片,负片＋图镀,负片过程进行总结评估,最终确定负片＋图镀为适合我司的最佳流程,同时,产品各指标性能符合客户要求。     

化学腐蚀法研究蓝宝石单晶中的位错缺陷

采用化学腐蚀-金相显微镜法和SEM法观察了CZ法生长的直径50mm的蓝宝石单晶中的位错缺陷.发现位错分布状况为中心较低、边缘较高,密度大约为104～10 5cm-2.在不同温度不同的试剂以及不同的腐蚀时间进行对比结果发现,用KOH腐蚀剂在290℃下腐蚀15min时,显示的位错最为清晰、准确,效果最佳.     

汽车用厚铜多层板的工程设计与制程控制

近年来汽车用PCB订单需求迅猛,文章立足于PCB厚铜板在生产过程中最易发生的品质问题,重点阐述了与此密切相关的工程资料设计(板材选用、拼板设计及其线路设计等)及生产控制要点(层压、蚀刻、感光丝印等),有效改善了此类多层板的品质。