EM系列光刻机维修技术

介绍了ＥＭ系列光刻机（俄产）的多发故障,如真空传感器及间隙设定单位故障及其维修方法,同时提出对设备的一些保养措施。     

JB系列光刻机的原理及维修技术

简述了 JB系列光刻机的基本工作原理以及常见故障的分析和维修 ,同时给出了设备的日常维护保养措施。     

JB系列光刻机的原理及维修技术

简述了ＪＢ系列光刻机的基本工作原理以及常见故障的分析和维修,同时给出了设备的日常维护保养措施。     

PLA—501F光刻机间隙设定单元故障分析

<正> 近年来,我国半导体器件行业大量引进了Canon公司生产的PLA—501F光刻机。由于该机具有高度的实用性和可靠性,故备受操作者喜爱。我所在86年引进了两台,从今年1至6月我对这两台光刻机的故障作了统计,列表如下: 从表中看出,该机的故障大部分发生在间隙设定单元。它占总故障的57.1％。而且有些故障是重复出现。因此,本文对该光刻机的心脏部件——GAP单元的故障作一系统分析,以供参考。 间隙设定的工作原理 图1为GAP单元结构简图。间隙设定程序如下: 1.上料。机器处于原始状态,硅片被机械手送至承片台上并被真空吸住。     

SSB500系列步进投影光刻机

国家重点新产品:SSB500步进投影光刻机上海微电子装备有限公司(SMEE)主要致力于量产型IC制造、先进封装、3D-TSV、MEMS、OLED-TFT制造等领域的投影光刻机系列产品的研发、制造及销售,公司目前拥有600系列IC前道扫描光刻     

EM10C透射电镜十年故障维修工作小结

我校EM10C电子显微镜(德国OPTON公司产品,德国大众汽车厂基金会赠送)自1982年10月安装以来已经使用了10年。10年来在我校的科研、教学中发挥了很大的作用,是我校使用效率最高的大型精密仪器之一。总结10年来的使用情况,可以认为该仪性能可靠,使用方便。自然,10年使用中曾多次发生故障,现将部分故障的现象、原因及处理方法小结如下,以供同行参考。①低真空测量管(Pirani管)开路。故障现象:无论预抽真空时间多长,也无法使主阀开启。即使低真空事实上已经达到要求,因检测不到真空的变化,预抽真空程序不可能继续进行。处理:更换真空规。     

BG-101J分步光刻机在四十五所研制成功

<正> 一种新型分步重复直接投影光刻机(DSW)——BG—101J分步光刻机最近在机电部第45研究所研制成功。北京半导体器件三厂对该机进行了考核验收,认为其主要技术指标全部达到设计要求,对该机的指标     

URE-2000系列紫外深度光刻机

中国科学院光电技术研究所,是中国科学院在西南地区规模最大的研究所．2001年整体进入中国科学院知识创新工程。     

掩模光刻机中找平控制研究

基片与掩模版(或找平版)找平技术是掩模光刻机中的一个关键技术,找平的结果直接决定了光刻机的分辨率精度。找平的目的就是要实现掩模版平面和基片平面的平行,实现基片与掩模版在移动到设定的一个微小间隙后,基片上的各点到掩模版的距离相同,从而保证基片上图形的一致性,提高设备的分辨率。找平过程的控制主要在对找平的判断、压力采集反馈、找平压力的控制等方面。     

微直流伺服电机在光刻机中的应用研究

从实际应用出发,介绍了微直流伺服电机在光刻机中的选型分析。根据具体负载要求,确定所需电机相应的参数,从而得到能满足驱动需求的最优化的电机。     

接触接近式曝光机曝光方式浅析及实例

不同的曝光方式适应不同的曝光工艺,对接触接近式曝光机的曝光方式进行了研究,分析了不同曝光方式适用的场合。并给出了一个通过改进曝光方式实现曝光工艺的成功实例,进一步证明了将产品生产工艺知识融入到半导体设备设计研发过程中的必要性。     

STEPPER通用测试掩模的设计及使用

介绍了一种ＳＴＥＰＰＥＲ通用测试掩模（ＵＴＭ）的设计构成及各测试元素图形的作用。在此基础上，分析了电子束制作ＵＴＭ的误差，并阐述了ＵＴＭ的测试方法、数据处理及其对ＳＴＥＰＰＥＲ性能的影响。     

应用传统紫外光刻机进行紫外压印

基于紫外光固化的紫外纳米压印技术可在常温常压条件下实现纳米结构批量复制,具有高分辨率、高效率和低成本的优点。通过对紫外纳米压印原理和工艺的分析,制备了石英玻璃模板,实现了在商用紫外固化聚合物OG154上的紫外纳米压印,转移复制了具有100nm特征的5cm×5cm面积的纳米结构图形。同时,介绍了如何利用传统紫外光刻机的套刻对准系统进行紫外纳米压印和套刻对准的方法。     

VLSI版图验证算法的固化研究

ＶＬＳＩ电路芯片集成度的不断增加，使得设计趋于复杂化，这就对版图验证工具的处理能力与性能提出了进一步的要求，运用特殊的硬件将版图验证的某些算法固化，利用其中内在的并行性来获得处理速度的提高是一类非常有效的方法，本文提出了一种用于在版图验证算法中得到广泛运用的线扫描算法中边排序操作的硬件实现。并且在ＦＰＧＡ上进行了验证，整个系统实现于一块ＰＣ机的扩展卡上，测试的结果表明，对于排序的操作，硬件实现的速     

掩模ROM码点的反向提取

本文介绍了基于掩模ROM的计算机图象，通过测量定位、计算机辅助判定、多幅比较及ROM代码提取的过程，实现掩模ROM码点的反向提取，并涉及应用编辑中的具体实现方法。     

掩模材料与新颖的衬底方案关键问题及新的良机

通过对掩模衬底材料和掩模加工工艺利用硬性分界条件可满足45nm及以下技术节点的掩模要求。此外类似于折射指数、平整度、成分、均匀性和应力等衬底材料的固有特性严重地影响到掩模加工性能和光刻性能。评述了45nm及以下技术节点对空白材料,掩模及晶片层面的要求。指出了对于关键问题及出现的问题的可仿效实施的方法,最后研究了集成用于高效光掩模工厂的掩模材料的实际情况分析。     

全自动光刻机的同步控制方法

对于一种包含多个相对独立又彼此干涉机构的全自动光刻机,设计合理的控制方法才能使各个机构高效而稳定地协同工作。按照机械结构将设备划分为4个控制对象,采用同步控制方法使这4个对象实现并行工作。这种控制方法相对于顺序执行工艺流程的方式,极大地提高了设备的运行效率。而且,这种同步控制方法也可适用于具有类似控制要求的其他设备。