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磁性金属多层膜中的巨磁电阻效应 总被引:6,自引:0,他引:6
在许多磁性金属多层膜系统中都存在巨磁电阻效应,这些系统是由厚度为几个纳米的磁层与非磁层交替重叠构成,出现巨磁电阻效应的必要条件是系统的磁化状态能被外加磁场所改变。该效应的物理是传导电子在界面处或磁层内的所谓自旋相关散射,层间耦合随隔离层厚度变化而振荡的现象,在隔离层为非磁过渡金属和贵金属的系统中普遍存在,自旋阀多层结构在信息存储技术中磁电阻“读出”头方面极具应用前景。 相似文献
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金属磁性多层膜的新颖特性──巨磁电阻效应 总被引:4,自引:0,他引:4
磁性和非磁性层交替重构成的金属磁性多层膜常具有巨磁电阻效应,其中每层膜约几个纳米厚。出现巨磁电阻效应的基本条件是:在外磁场下相邻磁层磁化强度取向发生对变化。巨磁电阻效应的物理起源是,其自旋与局域磁化强度平行和反平行的电子受到的散射不同,散射的不同既要嗵来自获射中收的特性,又可能源于两种自旋电子的能态密度的差异。由于信息存储技术中磁电阻“读出”磁头有巨大的应用前景,巨磁电阻效应引起了人们的极大兴趣。 相似文献
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介绍了金属磁性多层膜的微结构和磁结构的研究进展,简要综述了磁性多层膜的结构与巨磁电阻(GMR)之间的关系 相似文献
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自旋阀巨磁电阻材料具有工作磁场小、灵敏度高、频率特性好、信噪比高等优点,成为新一代高密度读出磁头的首选材料,在计算机信息存贮和高灵敏传感器方面有着广阔的应用前景. 相似文献
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第是 金属磁性多层膜的结构及其对巨磁电阻效应的影响 总被引:3,自引:0,他引:3
介绍了金属磁性多层膜的微结构和磁结构的研究进展,简要综述了磁性多层膜的结构与巨磁电阻(GMR)之间的关系。 相似文献
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重点介绍含有铁磁纳米微颗粒系统中的巨磁电阻效应,例如颗粒膜、快淬纳米复相固体等巨磁电阻效应与铁磁组成、颗粒尺寸、形状的依赖性. 相似文献
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用巨磁电阻材料构成磁电子学新器件,已开始在信息存储领域成功地获得了应用.文章介绍了用于计算机硬磁盘驱动器的巨磁电阻磁头和巨磁电阻随机存储器,描述了它的工作原理、性能特点及发展趋势.指出巨磁电阻材料在传感器方面的应用也令人瞩目,有着广阔的市场前景. 相似文献
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自旋阀巨磁电阻具有工作磁场小,灵敏度高、频率特生好、信噪比高等优点,成为新一代高度密度读出砂的首选材料,在计算机信息存贮和高灵敏传感器方面有着广阔的应用前景。 相似文献
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简要回顾了利用量子隧道效应测定铁磁金属传导电子自旋极化率的研究历史,综述了自旋极化电子隧穿产应导致的“铁磁金属/非磁绝缘体/铁磁金属”三层平面型隧道结中的巨磁电阻效应以及“铁磁金属/非磁绝缘体”颗粒膜系统中的隧穿类型巨磁电阻效应的研究进展。 相似文献
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用射频溅射法制备了Fe71.5Cu1Cr2.5V4Si12B9单层膜和结构为(F/S)3/M/(F/S)3的多层膜,在制备过程中加72kA/m的纵向磁场.研究表明在制备过程中加磁场明显改善了材料的软磁性能,降低了材料的矫顽力.将样品经不同温度退火热处理后,发现经230℃退火1.5h的单层膜和多层膜具有最佳的软磁性能和最大的磁阻抗效应,单层膜最大横向磁阻抗比为37.5%,多层膜最大横向磁阻抗比高达277%.通过比较单层和多层膜磁阻抗效应随频率和磁场的变化,发现多层膜具有较低的磁阻抗效应的临界频率和峰值特征频率,和较大的磁阻抗变化率,而且有较低的横向磁阻抗效应的饱和场.
关键词:
铁基合金
多层膜
巨磁阻抗效应 相似文献
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研究了结构为 (FM/SiO2)3/Ag/(SiO2/FM)3 多层膜的巨磁阻抗(GMI)效应(这里的F M≡FeCuCrVSiB).多层膜采用射频溅射法沉积在单晶Si衬底上,沉积过程中,沿膜面长方 向施加约72kA/m的磁场,然后在不同的温度下对样品进行了退火处理.结果表明,该多层膜 样品即使在沉积态便具有相当好的软磁性能和GMI效应,在7MHz的频率下,最大纵向和横向 巨磁阻抗比分别为45%和44%.在230℃下经90min退火处理后的样品具有最佳的GMI效应,在85MHz的频率下,最大纵向和横向巨磁阻抗比分别达到251%和277%.与磁性层总厚度相同的FeCuCrVSiB/Ag/FeCuCrVSiB三层膜相比较,在这种多层结构中出现的GMI效应更强.
关键词:
多层膜
巨磁阻抗效应
趋肤效应
有效磁导率 相似文献