脉冲电沉积Co-W磁性薄膜

采用脉冲电沉积法制备Co-W 磁性薄膜.研究脉冲周期和占空比对沉积速率,Co-W薄膜的形貌、结构以及磁性能的影响.结果表明:脉冲周期与占空比对薄膜的沉积速率、形貌、结构和磁性能都有较大的影响.随着脉冲周期和占空比的不断增加,沉积速率呈现先增大后减小的趋势;而Co-W薄膜的矫顽力呈现减小的趋势.这主要是由于晶粒尺寸增大的缘故.AFM研究表明:随着占空比增大,薄膜颗粒增大,表面平整度下降,空隙率增加;脉冲周期影响薄膜表面聚集颗粒团;增大脉冲周期,该聚集团会增大.     

机械轴承表面电沉积制备Co-W/ZrO2复合镀层

采用电沉积技术在GCr15轴承钢板表面制备了Co-W/ZrO_2复合镀层,并研究了纳米ZrO_2微粒的质量浓度对镀层性能的影响。研究发现:随着纳米ZrO_2微粒的质量浓度的增加,镀层的沉积速率和厚度增大;加入纳米ZrO_2微粒,有利于细化镀层晶粒,改善镀层的耐磨性;当纳米ZrO_2微粒的质量浓度为12 g/L时,镀层表面均匀、致密,孔隙率低,具有较好的性能。     

磁场下电沉积制备Co-Pt-P磁性薄膜

在磁场下电沉积制备Co-Pt-P磁性薄膜。研究了电流、温度、磁场强度对薄膜性能的影响。结果表明:磁场对镀层的成分、微观结构及磁性能有一定程度的影响。     

节能环保磁场诱导电沉积制备镍钨合金薄膜

为了提高电沉积镍钨合金薄膜的沉积速率和降低能耗,使用了磁场诱导电沉积技术。研究了垂直于电场的磁场对镍钨合金电沉积时的电流、速率以及镀层形貌和结构的影响。结果发现,磁场和电场相互作用产生的磁流体力学效应有利于增大极化电流,提高沉积速率和细化合金晶粒。0.8 T磁场作用下,镍钨合金的沉积电流增加了30%,沉积质量提高了40%。电沉积镍钨合金为Ni₁₇W₃结构。在磁场作用下,镀态镍钨合金的显微硬度明显提升。     

电沉积非晶态合金镀层磁性的控制

磁性元件薄膜化促进了磁性镀层的开发与应用。综述了镀液及镀层成分、电沉积工艺、镀层厚度及热处理对电沉积非晶态镀层性能的影响，以便在实际应用中控制非晶态合金镀层的磁性。     

电沉积制备Ni-Co合金镀层及耐蚀性能研究

为了减弱腐蚀,增强基体的使用寿命,以316L不锈钢片为基体,采用电沉积法制备了Ni-Co合金镀层。使用扫描电镜对镀层的微观形貌进行表征,利用VersaSTAT3电化学工作站测试镀层在3.5%的NaCl溶液中的腐蚀电流密度。研究了不同主盐浓度、镀液温度及电流密度对合金镀层性能的影响规律。结果表明,电镀液中镍盐质量浓度为128 g/L时,钴盐质量浓度为115 g/L,镀液温度为55℃,p H值为4.5,电流密度为1.0 A/dm~2,腐蚀电流密度为6.13×10~(-12)A/cm~2时,所得Ni-Co合金镀层的耐腐蚀效果最佳。     

外加磁场对电沉积的影响

在电沉积过程中,外加磁场对镀液性能和镀层性能产生良好的影响,本文综述了国内对此的研究结果.     

结构钢电沉积Co-W/CeO2复合镀层及其性能研究

选择CeO₂颗粒作为复合相,利用电沉积技术在普通结构钢表面制备出Co-W/CeO₂复合镀层,并研究镀液中CeO₂颗粒浓度对复合镀层的微观形貌、化学成分、结合力、硬度、耐磨性能以及高温抗氧化性能的影响。结果表明：Co-W/CeO₂复合镀层与基体结合牢固,表面分布着类似胞状的晶粒团聚体,其化学成分为Co、W、Ce和O元素。随着镀液中CeO₂颗粒浓度从2 g/L升高到15 g/L,复合镀层的晶粒团聚体尺寸差异先减小后增大,吸附在晶粒团聚体表面及边界处的CeO₂颗粒量先增多后减少,导致复合镀层的硬度、耐磨性能和高温抗氧化性能都呈先增强后下降的趋势。当镀液中CeO₂颗粒浓度为8 g/L时,Co-W/CeO₂复合镀层的晶粒团聚体大小较为均匀,具有良好的致密性,其表面粗糙度仅为0.39μm。该复合镀层的硬度较Co-W合金镀层增大约76 HV,表现出良好的耐磨性能和高温抗氧化性能,摩擦系数和氧化增重量仅为0.43和0.74 mg...     

电沉积法制备纳米晶Ni-Co合金镀层

在氨基磺酸盐镀液体系中,采用电沉积法制备了纳米晶镍镀层和四种纳米晶Ni-Co合金镀层,采用FESEM、EDS和XRD表征了镀层的表面形貌、成分和晶体结构。结果表明,镍镀层和四种Ni-Co镀层的晶体结构都是简单面心立方结构;与镍镀层相比,Ni-Co合金镀层的平均晶粒尺寸减小,且当镀层钴含量为41.3%时,Ni-Co合金的平均晶粒尺寸最小为14.6 nm。在一定范围内,钴含量的增加有利于改善Ni-Co合金镀层的表面质量以及实现晶粒细化。     

电沉积钴-钨合金薄膜的磁性能及其测量方法

采用电沉积技术在纯铜片上制备了钴-钨合金薄膜,并研究了钴-钨合金薄膜的磁性能与其厚度、结构及表面形貌等的关系。结果表明:钴钨电沉积属于诱导共沉积,钨在钴表面氢原子的催化作用下与钴发生共沉积。钴-钨合金薄膜的厚度约为6μm,属于Co₃W四面体结构,其表面由典型瘤状颗粒构成。钴-钨合金薄膜垂直方向的磁性能优于平行方向的磁性能,最大矫顽力为74.42 kA/m。     

电沉积三元铁基非晶磁性合金薄膜的研究进展

叙述了电沉积三元铁基非晶磁性合金薄膜的工艺条件,包括Fe-Ni-S、Fe-Ni-Cr、Fe-Ni-W、Fe-Co-Ni及Fe-P-B等五种典型合金薄膜。介绍了铁基非晶磁性合金薄膜的耐蚀性、耐磨性、热稳定性以及磁学等功能性能,指出了未来铁基非晶磁性合金薄膜的研究方向。     

平行磁场作用下电沉积Co-Ni-Mn-P磁性薄膜

在平行磁场作用下电沉积Co-Ni-Mn-P磁性薄膜。研究了平行磁场对电沉积过程及薄膜性能的影响。研究发现:施加平行磁场,有利于提高离子的传质速率,从而提高沉积效率。平行磁场作用下电沉积制备的Co-Ni-Mn-P磁性薄膜呈现出"枝晶状"结构,矫顽力和比饱和磁化强度更高。     

交变磁场下脉冲电沉积镍-钴纳米合金镀层

在脉冲电沉积镍-钴纳米合金镀层的过程中引入与电场方向垂直的外加交变磁场。采用扫描电镜和X射线衍射仪观察并分析镀层的表面形貌和微观结构,并用显微硬度计测试镀层的显微硬度。结果表明:外加交变磁场的引入可使镀层晶粒细化,镀层表面平整、致密,镀层的显微硬度呈先增大后减小的趋势。     

任意可调Zn-Co合金镀层的电沉积

The effects of pulse parameters on the cobalt content, surface morphologies and grain size of Zn-Co alloy deposits were studied using a pulse plating technique with a square-wave current containing reverse pulse. Average current density and reverse anodic current density amongst the variables investigated have very strong effects on the cobalt content in the Zn-Co alloy deposits. Grain size, surface appearance and internal stress in the deposit were improved significantly by introducing the reverse current. Varieties of Zn-Co alloy compositionally modulated multilayer (CMM) coatings with large differences in cobalt contents for different sublayers were electrodeposited by designing corresponding waveforms using a computer-aided pulse plater and characterized in terms of surface morphologies. Cross-sectional morphologies of the Zn-Co alloy CMM coatings, examined using field emission gun scanning electron microscopy (FEGSEM), confirmed the layered structure.     

平行强磁场对电沉积镍-铁合金膜显微组织的影响(一)匀强磁场实验研究部分

在与电流平行的匀强磁场下电沉积制备镍-铁膜,并分析其显微组织。研究发现:匀强磁场可以细化树枝晶主轴,抑制粗大二次枝晶的生长,更强磁场(12 T)下主轴晶呈现出断裂趋势;强磁场使电沉积样品晶粒发生择优取向;磁致对流效应对镍-铁合金膜成分没有明显影响。     

磁场辅助射流电沉积Ni-SiC纳米复合镀层耐蚀性的研究

采用磁场辅助射流电沉积方法在45^#钢表面制备了Ni-SiC纳米复合镀层,并研究了镀层的表面形貌、耐蚀性及物相组成。结果表明:当电流密度为4 A/dm²时,镀层的腐蚀失重最小为3.2 mg/cm²;当磁场强度超过0.8 T后,镀层的腐蚀失重基本保持不变;当喷射速率达到3 m/s时,镀层的腐蚀失重最小为3.5 mg/cm²。经SEM分析可知,当磁场强度达到0.8 T时,腐蚀产物最少,晶间腐蚀较轻。由极化曲线及电化学阻抗谱分析可知,当磁场强度达到0.8 T时,镀层的耐蚀性最好。由XRD分析证实了Ni、SiC两相的存在,并且随着磁场强度的增加,衍射峰变矮、变宽,说明镀层晶粒细化,改善了镀层的耐蚀性。     

电沉积制备钴-钼合金薄膜及其耐蚀性的研究

采用电沉积方法制备了钴-钼合金薄膜,并研究了钼酸钠的浓度对薄膜耐蚀性的影响。研究发现,钴-钼合金薄膜具有一种典型的Co3Mo四面体结构。适当提高镀液中钼酸钠的浓度,有利于提高薄膜中钼的质量分数及薄膜的耐蚀性。但当镀液中钼酸钠的浓度过高时,会阻碍钴的电沉积,促进析氢过程,MoO2的析出使得薄膜表面的粗糙度和孔隙率增大,薄膜的耐蚀性变差。