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甘氨酸体系三价铬电沉积工艺研究 总被引:1,自引:0,他引:1
为了研究1种以甘氨酸为络合剂的三价铬镀铬工艺,采用正交试验法确定三价铬电沉积的最佳工艺,即0.6mol/L CrCl3*6H2O,0.6mol/L Gly,50g/L NH4Cl,0.6mol/L AlCl3·H2O,0.5mol/L NaCl,60g/L H3BO3,20g/L NaF,0.1mol/L KBr,适量的润湿剂和去极化剂,pH=1.8,Jk=15A/dm2,θ=20℃,时间15min.并具体讨论了络合比、阴极电流密度、时间、温度等因素对镀层厚度和外观的影响;试验结果证明:在该种工艺下可获得光亮、呈准镜面外观、厚度达8μm 左右的铬镀层;且经镀层性能检测表明:该镀层表面光亮、平整,与基体材料结合良好,具有一定的耐腐蚀性能. 相似文献
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三价铬脉冲电沉积纳米晶Ni-Cr合金工艺 总被引:1,自引:0,他引:1
采用脉冲电沉积方法对三价铬电沉积Ni-Cr合金镀层工艺进行研究,确定并优化三价铬脉冲电沉积Ni-Cr合金的最佳镀液配方及工艺参数。研究镀液中各成分及工艺参数对三价铬脉冲电沉积Ni-Cr合金厚度及合金镀层中铬的影响,利用扫描电镜和电子能谱分析Ni-Cr合金镀层的形貌、微观结构和化学组成。结果表明,镀层厚度和Ni-Cr合金中铬含量在不同浓度的络合剂、稳定剂、乙酸钠及不同的电流密度、温度、pH值、占空比和脉冲频率下都存在极大值,且Ni-Cr合金厚度随合金中铬含量的增加而减少。当铬含量为24%时,镀层的厚度大于10μm,无裂纹,其晶粒为纳米球状晶粒。 相似文献
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Cr(Ⅲ)水溶液电沉积非晶态铬的电化学 总被引:18,自引:0,他引:18
提供了一种由各合剂、稳定剂、添加剂组成的Cr(Ⅲ)水溶液电镀镜面非晶态铬新方法。采用ull槽实验、动电位扫描(LSV)、计时电流(CA)、计时电位(CE)等电化学方法对Cr(Ⅲ)水溶液中电沉积蜚昌态铬的化学机理进行了研究。实验结果表明在-0.96~-1.1V之间生成的蓝膜是光亮非晶态Cr层得以电沉积出来的首要条件。讨论了Cr^2+离子和Cr(Ⅲ)配合离子在同积蜚晶各镀层中的作用以及镜面非晶态铬镀层 相似文献
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三价铬水溶液电镀非晶态铬工艺 总被引:18,自引:2,他引:16
报导了一种Cr3 + 水溶液中电镀非晶态铬新工艺。采用由适当的络合剂、稳定剂、添加剂以及Cr3 + 盐组成的电镀液, 于室温下电沉积出厚度达11 μm 、外观接近镜面的非晶态铬镀层。实验发现, 蓝膜的生成是光亮非晶态Cr 层得以电沉积出来的首要条件。采用X 射线衍射和扫描电子显微镜等方法对铬镀层的结构进行了分析。结果表明, 铬镀层的X 射线衍射图中只有非晶态铬的宽化峰; 扫描电子显微镜结果显示所得Cr 镀层没有针孔, 只有少数细小的裂纹。对Cr3 + 水溶液中电镀Cr 的工艺条件和络合剂、稳定剂、添加剂的作用进行了探讨 相似文献
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利用超声-脉冲复合电沉积法,在三价铬镀液体系中,添加羧酸盐-尿素配合剂和SiC纳米颗粒,制备了Ni-Cr/SiC纳米复合镀层。研究了超声-脉冲工艺参数对SiC纳米粒子复合量、铬含量以及镀层厚度的影响;利用电化学法分析了超声波对基质金属电沉积行为的影响。结果表明,超声-脉冲作用均有利于基质金属铬-镍的电沉积,从而提高镀层厚度及SiC与Cr的含量。利用SEM、XRD、和EDS分别对Ni-Cr/SiC纳米复合镀层的表面形貌、微观结构和相组成等进行表征。结果表明,采用该技术可制备厚度为21.2μm、SiC和Cr含量分别为3.8%和24.68%(质量分数)的Ni-Cr/SiC纳米复合镀层。磨损量和腐蚀曲线测试结果表明,SiC含量高的复合镀层,其耐磨性和耐蚀性更好。 相似文献
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福岛核事故后,核燃料包壳Zr合金的Cr涂层表面改性成为研究热点,熔盐电沉积技术因能有效解决Cr层沉积时的析氢问题而受到关注,鉴于Zr合金在熔盐中易受腐蚀的特点,采用Ni作为过渡层解决Zr合金表面高质量Cr涂层的制备难题。为了系统研究Ni表面Cr涂层的熔盐电沉积工艺,本文在研究Cr涂层生长过程的基础上,研究电流密度、温度及Cr离子浓度对Cr涂层组织结构的影响,优选制备工艺并开展涂层性能测试。结果表明:增大电流密度、降低熔盐温度或减小Cr离子浓度可以细化涂层晶粒,提高涂层致密性和连续性,但同时易引发浓差极化,造成涂层质量恶化。在优选工艺下制得的Cr涂层由〈211〉取向的细等轴晶构成,硬度为(2.47±0.24) GPa,与Ni基体的结合力约为85 N,表面粗糙度为2.6μm。 相似文献
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开发了一种环保型三价铬彩色钝化工艺,通过实验研究了钝化液成分及钝化工艺对钝化膜耐腐蚀性能和外观的影响。结果显示:钕铁硼镀锌件通过三价铬彩色钝化可以获得致密的钝化膜,钝化膜具有优良的耐腐蚀性能,能够耐盐雾腐蚀96h。 相似文献
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目的解决现有氯化盐体系和硫酸盐体系三价铬电镀存在的问题。方法以甲酸铬为主盐,甲酸铵、尿素和苹果酸为络合剂,通过Hull槽试验和方槽试验,研究铬离子、甲酸铵、尿素、苹果酸的浓度以及镀液pH值、镀液温度、电镀时间等工艺参数对黄铜表面三价铬镀层形貌、沉积速率和光亮范围的影响。结果甲酸铵和尿素分别与Cr3+形成活性络合物,苹果酸具有pH值的缓冲作用。最佳的工艺条件为:Cr3+浓度0.4 mol/L,甲酸铵浓度0.5 mol/L,尿素浓度0.2 mol/L,苹果酸浓度0.05 mol/L,镀液pH值3.5,镀液温度25~30℃。结论该甲酸盐三价铬电镀工艺具有较宽的光亮范围,镀层孔隙率低,光亮致密,沉积速率较高,与铜基体结合良好,结构为混晶态。在室温、电流密度为15 A/dm2的条件下电镀5min,镀铬层厚度即可达到1.78μm,满足装饰性镀铬层的要求。 相似文献
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分析了铝合金三价铬钝化液的钝化机制,研究了复合盐钝化剂用量、钝化处理时间和温度对钝化膜质量的影响。结果表明,经铝合金三价铬钝化液钝化后的试样,其抗腐蚀性能优于铬酸钝化液,可在常温下进行处理,且处理时间较短,有利于减轻铬酸钝化液中六价铬离子对环境的影响。 相似文献
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The paper reports work on the electrodeposition of decorative chromium coatings from solutions of trivalent chromium compounds. Work on aqueous sulphate-based electrolytes showed that pH maintenance was the critical factor governing the production of sound decorative deposits. Wholly aqueous solutions could not be stabilized by buffers of the usual kind. Dimethylamido buffers were found to stabilize the pH of chromic chloride solutions at an acceptable value for plating. A solution based on aqueous chromic chloride containing 40% v/v of of dimethylformamide (DMF), one of these buffers, has been developed and possesses excellent plating characteristics. 相似文献
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回顾了三价铬电镀的发展历程,介绍了硫酸盐体系三价铬电镀装饰铬的新工艺。新工艺镀铬速度增加到0.057~0.077μm/min,并且速度不随时间而变化。镀液性能稳定,操作简单,便于维护。镀层质量优良,色泽美观,厚度能够达到0.3μm以上。中性盐雾试验、恒定湿热试验、冷热冲击试验、人造汗液测试、抗化学污染测试均能满足行业标准的要求。新工艺性能优越,能够更好地满足广大客户的要求。 相似文献
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分析了一种高效、环保压铸锌合金用三价铬钝化液的主要成分及其操作工艺条件,优化了钝化液工作的参数,包括钝化液pH值、钝化温度和钝化时间的影响.研究结果表明,经三价铬钝化液处理后的锌合金,其钝化膜层均匀,色泽白亮、略显淡蓝色,耐中性盐雾腐蚀时间超过96h;该三价铬钝化液不仅有利于减轻原六价铬钝化液中六价铬对环境的污染,而且价格便宜、操作工艺简单. 相似文献
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