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以Ba(CH3COO)2,Sr(CH3COO)2和Ti(OC4H9)4为原料,以乙二醇甲醚为溶剂,冰乙酸为催化剂,应用溶胶-凝胶技术在Pt/MgO(100)衬底上成功地制备了外延生长B 0.65S0.35TiO3薄膜,XRD和SEM分析结果表明,该薄膜在O2气氛中650℃热处理1h后,其(001)面是沿着Pt(100)和MgO(100)面外延取向生长的,其平均晶粒大小为48.5nm,电性能测试结果表明,当测试频率为10kHz时,其介电常数和损耗因子分别为480和0.02,电滞回线测试结果表明,外延生长Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜的剩余极化为2.8μC/cm^2其矫顽场为52kV/cm。 相似文献
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随着微机电系统(MEMS)产业的快速发展,铁电薄膜材料作为微机电器件的重要组成部分而愈受重视。锆钛酸铅(PZT)薄膜具有优越的压电性、热释电性及光电性等性能,在微电子、压电、光学及半导体等领域展现了巨大的应用潜力。因此,高性能PZT薄膜的制备技术及制备工艺一直备受关注。其中,溶胶凝胶法因具有易于控制成分,所需设备成本低及制备薄膜的均匀性好等优点而被广泛用于PZT薄膜制作中。该文在溶胶凝胶法基本原理及制作工艺的基础上,着重分析了溶胶凝胶法制备PZT薄膜的研究现状,总结了当前溶胶凝胶法的技术特点,并指出了研究中存在的不足及未来的潜在改进方向。 相似文献
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溶胶-凝胶法制备掺铌的SrTiO_3薄膜 总被引:9,自引:0,他引:9
采用溶胶 -凝胶法 ,用醋酸锶、钛酸丁酯、乙醇铌作为前驱体 ,用旋涂法制备掺铌钛酸锶多晶薄膜。用醋酸作为醋酸锶溶剂 ,并用丙三醇作为辅助溶剂 ,溶胶浓度及黏度均可在较大范围内调节。经 6 0 0℃热处理后薄膜转化为钙钛矿结构 ,扫描俄歇电子显微镜所做表面形貌与元素分析表明薄膜均匀、无裂纹、表面光滑、晶粒细小。 相似文献
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ITO薄膜的溶胶-凝胶法制备 总被引:2,自引:0,他引:2
介绍了几种用溶胶 凝胶法制备ITO薄膜的工艺方法 ,用其中一种无机的方法成功制备了ITO透明导电膜。当薄膜厚度为 30 0nm左右时 ,所得ITO薄膜在可见光区域内的平均透过率在 85 %以上 ,电阻率最低可达 0 .1 5Ω·cm。 相似文献
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采用溶胶-凝胶法在Si(111)和Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备Ba4Nd9.33Ti18O54(BNT)介质薄膜,采用X线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究了不同退火温度对薄膜结构和表面形貌的影响。结果表明当薄膜在950℃下退火2h后具有较好结晶质量的钨青铜结构,所得到的薄膜表面较为疏松;通过掺入质量分数为2%B2O3-2SiO2,可进一步将BNT薄膜的晶化温度降至900℃,且结构致密。介电性能测试表明,1 MHz频率下BNST薄膜的介电常数为45,介电损耗为1.1%,30V偏压下漏电流密度为4.13×10-6 A/cm2。 相似文献
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本文采用低氟溶胶-凝胶法在(001)取向LaAlO3(LAO)的单晶衬底上制备了YBa2Cu3O7-δ (YBCO)薄膜。利用X-射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)对薄膜的微观结构进行了表征分析,并用标准四探针技术对薄膜进行了超导电性能测试。实验结果表明,在湿度足够大的热处理气氛中制备的YBCO薄膜较在湿度相对较小的处理气氛中制备的薄膜具有更好的c轴生长织构和超导性能。根据经典的形核理论、化学反应热力学原理并结合所得到的实验结果,我们解释了在一定湿度条件下YBCO薄膜的结晶和生长机制。研究表明残留在YBCO薄膜中的第二相会引起晶格畸变,进而诱发a轴取向YBCO晶粒的形成,且热处理气氛中水蒸汽的含量对制备具有c轴取向且超导性能较好的YBCO薄膜有十分重要的作用。 相似文献
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采用溶胶-凝胶法在石英玻璃衬底上制备出均匀透明的无定形PbTiO3薄膜,并对其 光学性质进行了详细的研究,发现其折射率的波形符合经典的Cauchy函数。由半导体理论计算得到无定形的PbTiO3薄膜的光学禁带宽度为3.84eV.FTIR透射光 谱研究表明无定形PbTiO3薄膜在中红外波段没有吸收峰出现,对于在550℃下 快速热退火得到的PbTiO3薄膜,通过远红外反射光谱测量,观察到了6个约外活性声子膜。 相似文献
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化学溶液法制备的Ba0.9Sr0.1TiO3薄膜的结构及光学特性研究 总被引:7,自引:0,他引:7
采用高度稀释的前驱体溶液在LaNiO3(LNO)薄膜上沉积了Ba0.9Sr0.1TiO3(BST)薄膜。X-射线衍射分析表明BST薄膜呈高度的(100)择优取向。原子力显微镜测量发现制备的BST薄膜具有大的晶粒尺寸80-200nm。用椭偏光谱仪测量了光子能量为0.7-3.4eV范围内BST薄膜的椭偏光谱,用Cauchy模型描述BST薄膜的光学性质,获得了BST薄膜的光学常数谱和禁带宽度Eg=3.36eV。 相似文献
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用激光分子束外延方法在SrTiO3(100)基底上外延生长了BaNbxTi 1-xO3(0.01≤x≤0.03)导电薄膜.原子力显微镜测得BaNb0.3Ti 0.7O3薄膜表面均方根粗糙度在2μm×2μm范围内为2.4*!,达到原子尺度光滑.霍 尔测量表明BaNbxTi1-xO3薄膜为n型导电薄膜;在室温下,BaNb0 .02Ti0.98O3、BaNb0.2Ti0.8O3和BaNb0.3Ti0.7O 3薄膜的电阻率分别为2.43×10-4Ω*cm、1.98×10-4Ω*cm和1.297×10 -4Ω*cm,载流子浓度分别为5.9×1021cm-1、6.37×1021cm- 1和9.9 ×1021cm-1. 相似文献
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用射频(RF)溅射法在镀LaNiO3(LNO)底电极的Si片上沉积PbZr0.52 Ti0.48 O3(PZT)铁电薄膜,沉积过程中基底温度为370℃,然后在大气环境中对沉积的PZT薄膜样品进行快速热退火处理(650℃,5min).用电感耦合等离子体发射光谱(ICP-AES)测量其组分,X射线衍射(XRD)分析PZT薄膜的结晶结构和取向,扫描电子显微镜(SEM)分析薄膜的表面形貌和微结果,RT66A标准铁电综合测试系统分析Pt/PZT/LNO电容器的铁电与介电特性,结果表明,PZT薄膜的组分、结构和性能都与溅射沉积功率有关. 相似文献
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用化学溶液沉积法分别在Si(100)和石英玻璃衬底上成功制备了一系列Bi4-xLaxTi3O12(BLT)铁电薄膜;用X-射线衍射仪测量了不同退火温度和不同掺镧量的BLT薄膜的结晶情况,结果显示随着退火温度的升高BLT薄膜结晶越来越好,镧的掺入并不改变钛酸铋薄膜的钙钛矿结构;用椭偏光谱仪对不同退火温度的BLT薄膜进行了椭偏光谱测量,分析得到了薄膜的光学常数谱;用激光显微拉曼光谱仪对不同掺镧量的BLT薄膜进行激光拉曼谱测量,得到了BLT薄膜振动模式随掺镧量的变化. 相似文献
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化学溶液分解法制备的Bi2Ti2O7薄膜的红外光学性质研究 总被引:1,自引:1,他引:1
采用化学溶液分解法在n-GaAs(100)衬底上制备了Bi2 Ti2 O7薄膜.利用红外椭圆偏振光谱仪测量了波长为:2.8-12.5μm范围内Bi2 Ti2 O7薄膜的椭偏光谱,采用Lorentz-Drude色散模型拟合获得Bi2 Ti2 O7薄膜的红外介电常数,并进一步计算得到折射率n、消光系数κ和吸收系数α,拟合计算得到Bi2 Ti2 O7薄膜的厚度为139.2nm. 相似文献
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采用金属有机化学液相沉积法在Si衬底上制备了La0.Sr0.5CoO3(LSCO)导电金属氧化物薄膜,采用溶胶-凝胶法在LSCO导电金属氧化物薄膜上沉积了PbZr0.5Ti0.5O3(PZT)铁电薄膜,X-射线测量结果表明在700℃的退火温度下制备的PZT/LSCO铁电多层薄膜呈(110)取向的钙钛矿结构,谢乐公式估算铁电薄膜的晶粒尺寸为50-80nm,原子力显微镜观察结果显示:薄膜表面平整,均方根粗糙度(RMS)小于5nm,用拉曼光谱测量表明PZT薄膜呈拉曼活性,椭圆偏振光谱仪用来表征薄膜在400-1700nm波长范围的光学性质,用洛仑兹模型来描述PZT和LSCO薄膜的光学性质,获得PZT和LSCO薄膜的折射率,消光系数等光学常数谱。 相似文献
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用化学溶液沉积法在Si衬底上制备了La0.5Sr0.5CoO 3(LSCO)导电薄膜.X-射线衍射结果表明退火温度600℃可以使LSCO薄膜晶化,薄膜没 有明显的择优取向并呈单一的钙钛矿相.原子力显微镜研究结果表明LSCO薄膜表面平整、无 裂纹及晶粒尺寸较大.用椭偏光谱仪测量了波长300~1700nm范围内LSCO薄膜的椭偏光谱.用适当的拟合模型进行拟合,获得了LSCO 薄膜的光学常数(包括折射率,消光系数,吸收系数等)谱. 相似文献
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采用Sol-Gel方法,通过快速热处理,在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备出Pb(Zrx,Ti1-x)O3成分梯度薄膜.经俄歇微探针能谱仪(AES)对制备的"上梯度"薄膜进行了成分深度分析,结果证实其成分梯度的存在.经XRD分析表明,制备的梯度薄膜为四方结构和三方结构的复合结构,但其晶面存在一定的结构畸变.经介电频谱测试表明,梯度薄膜的介电常数比每个单元的介电常数都大,但介电损耗相近.在10 kHz时,上、下梯度薄膜的介电常数分别为206和219.经不同偏压下电滞回线的测试表明,上、下梯度薄膜均表现出良好的铁电性质,其剩余极化强度Pr分别为24.3和26.8 μC·cm-2.经热释电性能测试表明,热释电系数随着温度的升高逐渐增加,室温下上、下梯度薄膜的热释电系数分别为5.78和4.61×10-8 C·cm-2K-1,高于每个单元的热释电系数. 相似文献