热显影卤化银彩色照相材料

概述了热显影卤化银彩色照相材料的发展过程,介绍了这种照相材料的构成、成像原理以及所用主要有机材料的结构类型。     

Lith显影的诱导期条件

Lith效应的产生要求严格的显影诱导期条件。Lith显影的诱导期条件要靠显影促进和显影抑制两种作用的结合来实现。半醌的显影促进作用缩短了显影颗粒邻近的载有较大潜影颗粒的显影诱导期,使颗粒间显影诱导期分布变窄。显影中心钝化现象的发生延长了载有较小潜影颗粒的显影诱导期,导致了表现显影诱导期对曝光量的依赖关系。Lith效应是两种作用在不同曝光区以不同程度发生的平衡结果。     

PQ型显影体系的电化学研究

通过改变PQ型系列显影液的组分和浓度,使该系列显影液的显影特性从Lith型逐渐演变到超加合型。用循环伏安法对系列显影液中的对苯二酚氧化还原过程进行测量。证明了该系列显影过程所遵循的机理从Yule提出的Lith机理转变到Levenson的再生机理。电化学测量结果与Van Veelen的照相性能测定结果相一致。     

显影抑制机理─—电化学探讨

显影抑制机理─—电化学探讨陈四海，季素雪，任新民（中国科学院感光化学研究所，北京１００１０１）关键词显影抑制机理，电化学，抑制剂显影抑制一直是人们感兴趣的问题，它不仅对降低显影灰雾，而且对获得高反差也有一定的作用。然而，显影抑制过程中的许多现象远远没...     

彩色负片中显影抑制释放型成色剂之效应

与成色剂掺合的显影抑制释放剂近几年来已成为改进彩色负片清晰度,对比度和颗粒度的主要技术手段之一。本文概述其对潜像的机制和效应,并旁及诸种厂牌新一代彩卷的性能。     

无显影气相光刻机理研究

无显影气外光废是我国首先发现的一项干法腐蚀技术。通过对其机理的不断研究发现,添加在光刻胶中的添加剂促进ＨＦ气体在高温下得到活性氟阴离子是刻蚀反应得以发生的首要条件和关键;曝光后成膜物结构变化地添加在其中的小分子诱蚀剂的栅栏作用是在曝光区形成反差的条件;图形的高分辨率与高纵宽比也得到了合理的解释。在机理研究的过程中,新的无显的气相光刻的方法（如高分子诱蚀剂及超强酸作为诱蚀剂的方法）得以发展及研究。     

卤化银微晶体灰雾显影的研究

本文研究了卤化银乳剂经硫、金化学敏化后在Ｄ－１９ｂ和ＣＤ－４为显影剂的显影液中的灰雾显影。实验结果表明，经硫、金敏化的乳剂在Ｄ－１９ｂ显影液中灰雾显影所产生的密度均比在ＣＤ－４显影液中灰雾显影所产生的密度大。在Ｄ－１９ｂ显影液中一些硫敏化乳剂比金敏化乳剂灰雾显影密度大，但这些硫敏化乳剂在ＣＤ－４显影液中的灰雾显影密度却比同一金敏化乳剂的灰雾显影密度小，这些实验结果与硫、金敏化的两种乳剂分别在Ｄ－１     

亚硫酸盐对彩色成像过程的影响

研究了彩色显影液中亚硫酸钠对含内偶青成色剂的卤化银单层片的彩色成像过程的各化学反应、青染料影像的有害吸收以及染料云形态的影响,结果表明亚硫酸钠能(1)提高银影像的形成速度;(2)降低成色剂的表观偶合效率;(3)增加青染料影像的有害吸收;(4)使染料云缩小并且使染料云的分布变窄。     

高反差显影机理

在前文中,我们从高反差与乳剂颗粒群体的还原方式以及与乳剂颗粒间显影诱导期分布的关系出发分析了Lith显影的特点。Lith显影只是高反差显影的一点特例。由于Lith显影液保存性不好,实际上人们常用的是一些其它提高反差的方法,例如在乳