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本文论述了多晶薄膜在玻璃基片上淀积的原理及主要影响因素,阐明了膜膜淀积的总速率是由玻璃基片的表面反应速率和反应剂分子扩散到玻璃表面的扩散速率决定的。硅烷浓度,玻璃板运动速率等因素也是重要影响参考。 相似文献
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类金刚石膜的结构与性能研究 总被引:8,自引:2,他引:8
用激光Raman谱和XRD谱对用直流-射频等离子体化学气相沉积法制备的类金刚石膜的结构进行了分析,并研究了工艺参数对膜的沉积速率,内应力和直流电阻率的影响,结果表明,类金刚石膜是由sp^2和sp^3键组成的非晶态碳膜,当负偏压高于300V时,膜中sp^3/sp^2键的比值随负偏压的升高而降低,类金刚膜的沉积速率与负偏压Vb的成正比,膜内存在1~4.7GPa的压应力,随负偏压的升高而降低,膜的电阻率 相似文献
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液相沉积类金刚石膜的沉积机理研究 总被引:2,自引:0,他引:2
根据电化学的相关理论,提出了钛合金表面液相沉积DLC膜的反应机理,给出了可能电极过程,认为膜是通过甲基阳离子的亲电取代反应而不断生长。讨论了氢原子对金刚石结构的稳定作用,并解释了实验条件对膜结构和性能的影响。 相似文献
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类金刚石膜的实用化现状与今后展望 总被引:3,自引:0,他引:3
DLC膜是一种类似金刚石的非晶碳膜,具有优异的摩擦学性能,被应用于有高耐磨性和低摩擦要求的机械零件.已开发出多种DLC膜沉积工艺.近年来,DLC膜可在多种材料上沉积,应用范围正在扩大.在承受高负荷的摩擦学领域,DLC膜现可应用于切削刀具.DLC膜可应用于易被热能损伤的橡胶或高分子基体.从保护地球环境的观点出发,应开发可用于汽车部件的DLC膜以改善燃油经济性.此外,除了摩擦学用途外,还开发出诸如高分子材料阻气层的新应用.本章对DLC膜的新用途和新研究作了评述. 相似文献
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本文使用热丝CVD法着重研究了基底表面的处理、工作气压、碳化物的含量、基底温度、灯丝温度以及基底与灯丝间距离等对金刚石膜生长速度所产生的影响,并在以上研究的基础上采取措施,使热丝CVD法生长金刚石膜的速度提高了4倍。 相似文献
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热丝CVD法高速生长金刚石膜研究 总被引:2,自引:0,他引:2
使用热丝CVD研究了碳源种类,氧气含量,灯丝温度,基底与灯丝间距离及异常辉光放电等对金刚石膜生长速度的影响,在此研究的基础上,优化工艺参数,使热丝CVD法生长金刚石膜的速度提高到20μm/h。 相似文献
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继续以前亚麻仁油—马来酸树脂的电极淀积研究,现叙述紫胶从水体系的淀积。在异戊醇和胺的帮助作用下,紫胶溶解和分散。已得出结论:以适当溶解和分散的紫胶水溶液体系,在软钢上制成粘附的淀积物是可能的。电压高于临界值,通过电流时,紫胶分散体系产生热效应而受热。已经发现;加入0.2—0.5%巯基苯并噻唑,可以克服在电压高于临界值时溶液的热效应。 相似文献
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探讨了液相沉积法制备类金刚石的新工艺,并采用XPS,Raman光谱和SEM等对所得膜的结构进行表征,证实所得的是类金刚石膜。液相沉积得到的类金刚石膜与钛合金基材之间具有较强的结合强度,并具有较低的摩擦系数和一定的耐磨损能力。 相似文献
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荷能粒子在类金刚石膜形成中的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
类金刚石膜由于其优异性能和广泛应用已引起越来越多的研究兴趣。尽管各种化学和等离子体辅助CVD和PVD技术已用来沉积类金刚石膜(DLC膜),但其形成机理仍不清楚。本文通过分析荷能离子的作用,应用热峰效应和离子刻蚀效应来解释DLC膜的形成。 相似文献