共查询到20条相似文献,搜索用时 0 毫秒
1.
GexC1—x薄膜在红外增透保护模系设计和制备中的应用 总被引:6,自引:0,他引:6
用磁控反应溅射(RS)法制备出GexC1-x薄膜,它的折射率可在1.6~4.0之间变化,设计出没厚度的GexC1-x均匀增透膜 非均匀增透膜系,并在ZnS基片上制备出GexC1-x均匀增膜系,设计结果表明,均匀膜系实现某-波段范围内增透,非均匀膜系能实现宽波段增透;当厚度增加时,均匀增透膜系的透过率曲线变得急剧振荡,非均匀膜系的透过率曲线变得更为平滑,且向长波段扩展,实现结果表明,在8~11.5μ 相似文献
2.
3.
4.
5.
GexC1—x非均匀增透保护膜系的设计和制备 总被引:1,自引:0,他引:1
用射频磁控反应溅射法(RS)制备出GexC1-x薄膜,其折射率可以在1.7-4.0之间变化。设计出单层GexC1-x非均匀增透保护膜和含有GexC1-x非均匀膜的多层增透保护膜系,并在ZnS基片上制备出GexC1-x单层非均匀增透保护膜。设计和实验结果表明,NnS衬底上制备的非均匀膜实现了宽波段的增透,在5000-850cm^-1波数范围内,平均透过率从67.19%提高到78.70%,比未镀膜净增加11.51%。 相似文献
6.
7.
系统地研究了MgF2衬底上类金刚石薄膜的折射率和生长速率与淀积工艺之间的关系,在MgF2衬底上成功地设计并制备了红外增透和保护膜。理论与实验研究表明,类金刚石薄膜使MgF2的红外透过率提高3%以上是完全可靠的,但起红外增透和保护是作用的统一性问题仍有待进一步研究。 相似文献
8.
9.
10.
11.
12.
低真空射频反应溅射Al2O3薄膜 总被引:5,自引:0,他引:5
用射频反应溅射法在硅片上制备Al2O3薄膜,在10Pa的低真空中和以适当比例混合的氩气和氧气中反应溅射以使薄膜充气氧化并保持一定的沉积速率,从而得到了理想配比和折射率为1.60 ̄1.65的Al2O3非晶薄膜。 相似文献
13.
本文利用XRD,RBS,AES,SEM和电学测量技术系统地研究了反应溅射制备的TiWyNx薄膜的组份,结构和扩散势垒特性,实验结构表明,膜的组份,结构和特性受溅射时N2流量影响和溅射功率的影响,这种TiWyNx膜经550℃30分钟退火后,仍能有效防止Al-Si扩散,从而改善了A1-TiWyNx/CoSi2/Si浅结接触的热稳定性。 相似文献
14.
15.
本文综述了红外增透薄膜研究的一些新进展,其中包括宽带增透薄膜的多种设计和制备方法及具有优异性能的增透膜新材料的研究。 相似文献
16.
17.
磁控反应溅射氧化镍薄膜电致变色特性的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
本文介绍了直流磁控反应溅射制备的氧化镍薄膜。研究了所沉积的氧化镍薄膜的电致变色性能、响应速度、开路记忆能力及循环寿命。实验结果表明:氧化镍薄膜初始态透射率和电化学测试方法与条件的选择对其电致变色性能有较大的影响。 相似文献
18.
19.
从微观粒子的相互作用和输运出发,探讨靶溅射过程中的基元化学物理步骤,计算了溅射速率和离子能量分布,为深入研究溅射薄膜的生长速率和靶中毒奠定基础。 相似文献