微机监控光学膜厚方法的实验研究

作者设计和制作了膜厚自动监控系统。利用该系统能准确控制λ/4膜层的极值厚度,其误差<3％。该方法快速、有效、成本低廉,易于推广应用。实验结果表明,研究方法是成功的。     

光学镀膜近红外膜厚监控的信号压噪

在光学真空镀膜膜厚监控过程中,近红外波段信号弱、外界干扰大、信噪比低,难于检测监控。运用相干检测、锁相放大原理,在光学真空镀膜机可见光波段监控系统的基础上,自行研制锁相放大器和改装近红外探头,成功地实现了近红外信号的压噪、放大、滤波和检测监控。     

稳定的窄带干涉滤光片

滤光片通带中心波长λｏ稳定性,是使用过程中最重要的性能参数。该文从膜材料的“微孔度”出发,实验筛选出两种“微孔度”最小的膜科、用以组成窄带干涉滤光片。研配一种新的完全中性的光学胶,它不与滤光片膜层发生任何化学反应。再辅以其其它工艺措施,成功制作出高稳定度的滤光片。滤光片存放３年,其λｏ未发生漂移。这些滤光片已用于激光测距等多种军事工程,它们的长期稳定性在战备环境中得到进一步验证。此外,该文还提出了     

DWDM窄带滤光片用高精度光学膜厚仪

随着信息技术的发展对高密度波分复用（ＤＷＤＭ）滤光片的需要越来越大。而高精度性能的光学薄膜膜厚监控系统是制备ＤＷＤＭ滤光片的关键,文中论述了所建立的制备用１００ＧＨｚ～５０ＧＨｚ ＤＷＤＭ滤光片的高精度高性能的光学膜膜厚监控系统。该系统的波长分辨力的０．１ｎｍ,重复性精度为&#177;０．０５ｎｍ,信噪比与温度漂移特性分别&#177;０．０１％和０．０５％／ｈ。还论述了该系统的实际实验结果。     

光学薄膜在线宽光谱膜厚控制仪

本文介绍了一种高性能的实时宽光谱膜厚控制仪的设计与制作,详细介绍了该系统的工作方式及设计思想.实验表明该系统可以用于光学薄膜在线实时监控和光学薄膜光谱特性检测,并可能基于该系统开发薄膜自动控制系统.     

DW DM窄带滤光片用高精度光学膜厚仪

随着信息技术的发展对高密度波分复用（ＤＷＤＭ）滤光片的需要越来越大。而高精度高性能的光学薄膜膜厚监控系统是制备ＤＷＤＭ 滤光片的关键。文中论述了所建立的制备用于１００ＧＨｚ～５０ＧＨｚ ＤＷＤＭ 滤光片的高精度高性能的光学薄膜膜厚监控系统。该系统的波长分辨力为０．１ｎｍ ,重复性精度为±０．０５ｎｍ 。信噪比与温度漂移特性分别为±０．０１％ 和０．０５％ ／ｈ。还论述了该系统的实际实验结果。     

HOM系列高精度光学膜厚监控系统的研制

叙述了新研制的适用于 DWDM窄带滤光片成膜控制的高精度光学膜厚监控系统。该系统在光谱带宽 0 .1 nm条件下 ,暗噪声小于± 0 .0 0 5 % ,性能优于目前的报道。使用它已成功地实现了 1 0 0 GHz,5 0 GHz DWDM窄带滤光片全自动成膜监腔。由其派生出的HOM系列的其他类型光学膜厚监控系统 ,可适用于不同的优质膜的过程控制     

HOM系列高精度光学膜厚监控系统的研制

叙述了新研制的适用于DWDM窄带滤光片成膜控制的高精度光学膜厚监控系统.该系统在光谱带宽0.1nm条件下,暗噪声小于±0.005%,性能优于目前的报道.使用它已成功地实现了100GHz,50GHzDWDM窄带滤光片全自动成膜监腔.由其派生出的HOM系列的其他类型光学膜厚监控系统,可适用于不同的优质膜的过程控制.     

HOM系列高精度光学膜厚监控系统的研制

叙述了新研制的适用于DWDM窄带滤光片成膜控制的高精度光学膜厚监控系统.该系统在光谱带宽0.1nm条件下,暗噪声小于&#177;0.005%,性能优于目前的报道.使用它已成功地实现了100GHz,50GHzDWDM窄带滤光片全自动成膜监腔.由其派生出的HOM系列的其他类型光学膜厚监控系统,可适用于不同的优质膜的过程控制.     

基于LabVIEW的宽光谱膜厚监控系统的研制

介绍了一种基于LabV IEW的光学镀膜宽光谱综合监控系统。阐述了光学镀膜宽光谱监控的原理和高级图像编程语言(LabV IEW)在此系统中的应用;监控系统可以用于光学薄膜在线实时监控和光学薄膜的光谱特性检测。     

薄膜滤光片淀积过程实时光学监控系统

介绍了一种薄膜制造实时光学监控系统,对监控系统的组成及各个模块的功能和工作原理进行分析。系统由计算机对信号进行采集、分析和判断,根据膜层的不同特点采取相应的监控方式,可以对各种规整和非规整膜系进行监控,自动开闭蒸发源挡板。     

基于固体腔的超窄带F—P干涉滤光片

介绍了一种利用熔融石英作为间隔层来实现F-P超窄带干涉滤光片的设计原理与方法。并制备了半宽2nm,透射率约90%的滤光片。该滤光片间隔层的干涉级次很高,能有效压缩带宽,实现超窄带滤波,不但极大提高了峰值透射率,而且温度稳定性好。     

同步辐射与光学薄膜

介绍同步辐射光源及光学薄膜在其中的应用。     

ITO/Ag光子晶体薄膜的制备及性能

考虑材料的电磁屏蔽特性和可见光透过的矛盾,设计了以铝/氧化铟锡(Ag/ITO)为周期的光子晶体薄膜以实现电磁屏蔽和可见光透过的兼容。首先根据电磁屏蔽和可视的双重需求,优化了光子晶体的组份并对其性能进行了研究。接着采用磁控溅射方法制备了以Ag/ITO为周期的光子晶体薄膜,并对光子晶体薄膜的屏蔽和可见光透光率进行了测试和分析。实验结果表明:这种光子晶体薄膜在金属Ag总膜厚大于可见光趋肤深度而远小于微波波段趋肤深度时,在可见光波段的最高透光率高达55%,而在微波x频率段的屏蔽性能最高可达65dB。通过结构设计,使薄膜的可见光透光率曲线与人眼的敏感曲线相吻合。随着每个周期Ag膜层的厚度增加,方阻相应降低,微波屏蔽性能相应提高。随着周期数的增加,薄膜的可见光透光率没有相应降低、屏蔽性能没有相应提高。设计的光子晶体薄膜在30 MHz~18GHz较宽波段的屏蔽性能均大于40dB。这种设计方法为材料的电磁屏蔽和可见光透明兼容开辟了一条新的技术途径。     

高反膜的镀制实践与探索

光学薄膜的厚度对光学元件的性能有决定性的影响,因此精确控制膜厚就成为了关键。分析了石英晶体监控法,介绍了IC/5镀膜自动控制仪。利用IC/5镀膜自动控制仪在现有镀膜机组上镀制出了高性能的高反膜。实验表明所镀膜层的光机性能优异,在光通信和激光器领域具有广阔的应用前景。     

光学薄膜技术在光通信技术中的应用

介绍了光纤通信系统中用薄膜技术制成的光定向耦合器 ,波分复用器等原理及制作方法。叙述了用薄膜滤光片技术改善 EDFA的传输特性。     

Study on superprism effect in the multilayer optical thin film stack

1Introduction Superprismeffectisaspecialphenomenon existinginphotoniccrystals(PCs)[12].Nowa days,manyresearchesdemonstratethatPCs possessanomalousdispersionandanisotropy propertiesnearthebandgap,leadPCsachieve hugedispersion[34].For1Dmultilayerstacks,whichownpeculiarproperties,canactasPCs,moreandmorepeoplechoosethisstructureto investigatesuperprismeffect[56].Wehaveused thesimpleststacks periodichighreflectance coatingsarrangedbyonly20layerstoachieve22μmofspatialdispersionbefore.Weselected…     

PECVD制备光学氮化硅薄膜均匀性分析研究

采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术制备的光学薄膜,其均匀性受到多种工艺参数的影响,在这些参数中,一类是沉积过程的工艺参数;另一类则是设备结构参数,设备结构参数决定着反应腔室内气流分布、以及电场分布等。通过改变沉积过程的工艺参数和一组正交试验,分析各个工艺参数对均匀性的影响,从而改善氮化硅薄膜均匀性。     

使用Pb_(1-x)Ge_xTe材料提高红外薄膜光学器件温度稳定性

提高薄膜光学器件温度稳定性的一条途径是根据光学薄膜器件的稳定性理论 ,选择两种具有相反折射率温度系数的材料组成膜系 ,使材料随温度变化引起的位相变化相互抵消。但很难找到折射率温度系数可以完全相互抵消的两种材料 ,因此有必要找到一种折射率温度系数可以调节的材料。研究表明 :红外长波材料 Pb1-x Gex Te的折射率温度系数可以随 Ge组分 x的改变而改变。研究结果证明使用 Pb1-x Gex Te材料 ,薄膜光学器件温度稳定性得到了很大的提高。