共查询到16条相似文献,搜索用时 62 毫秒
1.
2.
3.
4.
研究了Sn作Cu位元素替代的YBa2Cu3-xSnxOy超导体系(x=0-1.5)的正电子寿命谱,计算了局域电子密度和缺陷浓度的变化,发现了存在于高浓度替代区域(x=0.8-1.0)的正电子湮没特征,讨论了对超导电性的影响以及相应的物理机制。 相似文献
5.
6.
讨论了光激励发光材料BaFxCl2-x:Eu^2+中的缺陷与正电子湮没寿命的关系,通过实验给出随着x值的改变即F/Cl比值的变化对形成F色心的影响,并且给出了x值与F色心的种类与浓度的关系。 相似文献
7.
8.
利用脉冲低能正电子束系统测量了脉冲激光沉积法,磁控溅射法和多源共蒸法制备的高浊转眼上延薄膜YBaCu3O7-x的低能正电子寿命谱,结果表明,除块材中普遍存在的正电子浅捕获中心,还大量含有块材中缺乏的正电子深捕获中心,并且其尺度随温度的降低而长大。脉冲激光沉积法制备高温超导外延薄膜YBa2Cu3O7-x的正电子寿命和沉积条件(衬底温度及空气分压)的关系研究表明,这种深捕获缺陷的种类与沉积条件有关,而 相似文献
9.
10.
11.
12.
对快速激冷(冷速>180K·s-1)99N82O-B2O3熔盐、B2O3、SiO2、V2O5和Na2O-TiO2熔盐的正电子湮没寿命谱作了测定。结果表明:非过渡金同氧化物的光学碱度A与相应的正电子寿命谱第一组分τ1有很好的线性关系A=0.173τ-1+0.060.据此求得过渡金属氧化物ZnO、TiO2和V2O5的A实验值分别为1.00、0.63和075。 相似文献
13.
云母钛珠光颜料的正电子寿命谱研究 总被引:1,自引:0,他引:1
用正电子湮没技术测量了云母钛珠光颜料的正电子寿命和强度与煅烧温度,包覆量等的关系,并与X射线衍射,透射电镜等方法进行了比较。 相似文献
14.
采用X射线衍射和正电子湮没多普勒展宽测量相结合,研究了纳米晶态材料Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9的结构随退火温度的变化。实验结果表明:急冷非品样品在480℃开始明显晶化,基体中析出体心立方结构的α-Fe(Si)固溶体。随着退火温度的升高,非晶漫射峰不断减弱,而晶态相的衍射谱逐渐增强。进一步计算对衍射谱的分离,给出了品化分数和非晶相平均原子间距随退火温度的变化规律。正电子湮没实验证实了约550℃退火时样品内出现以Nb、B原子为主的晶界非晶相,S参数随退火温度的变化与非晶相平均原子间距随退火温度的变化规律一致。 相似文献
15.
用 1.15GeV的氩离子在室温下对二氧化硅玻璃样品进行了辐照 ,并通过正电子寿命测量技术研究了辐照后材料微观结构的变化。结果表明 ,在未辐照二氧化硅玻璃中有近 81%的正电子是以正电子素的形式湮灭的 ;根据o -Ps的撞击湮灭寿命确定出未辐照样品的自由体积分布在0 .0 2— 0 .13nm3的区域里 ,平均自由体积半径约为 2 .5nm。辐照后材料的自由体积分布函数变窄 ,峰位下移 ,显示样品经辐照后有密度增大的现象。随着剂量的增大 ,第二正电子寿命成分的强度逐渐增加 ,而相应于o -Ps的寿命成分的强度逐渐减小 ,这被认为是由于辐照产生的电离电子在自由体积中漫游 ,使正电子与这些漫游电子发生湮灭的几率增大 ,从而减小了正电子素的形成几率。 相似文献