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介绍了一种16位高速D/A转换器的电路设计、工艺制作和测试结果。该电路为高性能数字/模拟混合电路,工作电压士5.0V,转换速率≥30MSPS,建立时间50ns,增益误差士8%FSR,积分非线性误差LSB,并行输入类型,电流工作模式,功耗500mW,采用2.0μm BiCMOS工艺制作。该工艺包括减压薄外延、高压氧化等平面隔离、可修调SiCr电阻、双层金属布线、12次离子注入、21次光刻。NPN晶体管特征频率fT为4.0GHz;CMOS管的栅氧化层为30nm,耐压为12.0V。 相似文献
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高速A/D转换器的研究进展及发展趋势 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了高速高精度A/D转换器技术的发展情况、A/D转换器的关键指标和关键技术考虑;阐述了高速高精度A/D转换器的结构和工艺特点;讨论了高速高精度A/D转换器的发展趋势. 相似文献
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一种用于高速14位A/D转换器的采样/保持电路 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了一种采用0.35 μm CMOS工艺的开关电容结构采样/保持电路.电路采用差分单位增益结构,通过时序控制,降低了沟道注入电荷的影响;采用折叠共源共栅增益增强结构放大器,获得了要求的增益和带宽.经过电路模拟仿真,采样/保持电路在80 MSPS、输入信号(Vpp)为2 V、电源电压3 V时,最大谐波失真为-90 dB.该电路应用于一款80 MSPS 14位流水线结构A/D转换器.测试结果显示:A/D转换器的DNL为0.8/-0.9 LSB,INL为3.1/-3.7 LSB,SNR为70.2 dB,SFDR为89.3 dB. 相似文献
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通过对电子战设备的概略描述,指出了电子战设备的发展与电子元器件的局长紧密相关。先进的元器件河以使电子设备的体积、重量大幅度下降。介绍了高速A/D、D/A转换器在电子战中的应用,指出了电子战对数据转换器发展的需求。 相似文献
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随着半导体技术的进步,对A/D、D/A转换器的性能提出了更高的要求,用于制作A/D、D/A转换器的工艺技术也在不断改进.文章介绍了目前用于制作A/D、D/A转换器的主流工艺技术;结合相关产品,对比分析了各种工艺的优缺点,并对A/D、D/A转换器工艺技术的发展趋势进行了展望. 相似文献
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介绍了一种通用高速高精度数字/模拟转换器(DAC)的电路原理。着重阐述了内部基准源,权电流发生网络和电流开关的设计原理及电路结构。该DAC采用高压-浅结双极工艺和激光修调薄膜电阻技术制作,具有12位的高分辨率,小于1/2LSB的积分线性误差和微分线性误差的高精度,小于250ns稳定时间的高速度,以及灵活的外接方式。 相似文献
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介绍了一种12位高速、低失真数字/模拟转换器(DAC)的设计原理及其电路结构;着重阐述了去毛刺技术及其应用。采用2μm等平面隔离互补双极工艺模型参数进行了Cadence仿真。结果表明,该12位DAC在高达60MHz数据更新率下具有低于100pV·s的毛刺脉冲面积。 相似文献
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本文设计了用于14bit逐次逼近型模数转换器(SAR ADC)的DAC电路。针对该DAC,介绍一种全差分分段电容阵列结构以缩小DAC的版图面积;高二位权电容采用热码控制,用以改善高位电容在转换时跳变的尖峰以及DAC的单调性;对电容阵列采用数字校准技术,减小电容阵列存在的失配,以提高SAR ADC精度。校准前,SAR ADC的INL达到10LSB,DNL达到4LSB;与校准前相比,校准后,INL〈0.5LSB,DNL〈0.6LSB。仿真结果表明,本DAC设计极大改善SAR ADC的性能,已达到设计要求。 相似文献