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1.
通过差分方法,对在位错弯结气团模型的基础上推导出来的溶质原子在位错芯区内的纵向扩散方程,进行了数值求解,由此计算出了与P′1峰相应的内耗和横量亏损随温度和振幅的变化曲线.数值计算得到的内耗曲线与以前的实验曲线,无论在外观形态上,还是在移动规律上,都完全一样.这样就从定量上解释了P′1峰 相似文献
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若干年来,我们对于出现在Al-Cu和Al-Mg系中的表现正常和反常振幅效应的坐落在室温附近的内耗峰进行了系统研究,测得的激活能接近于溶质原子在位错管道中扩散的激活能,从而认为内耗峰的基本过程是溶质原子在隹错芯内的扩散,并且提出了根据位错弯结模型的物理图像。在70年代,Windler-Gniewek等根据弦模型对于位错芯内的扩散进行了理论计算,推导出描述内耗行为的数学表达式与我们的实验结果有许多相似之处。本文对于弦模型和弯结模型进行了对比,分析了位错芯内的纵向扩散和横向扩散所引起的内耗的非线性表现以及内耗峰温和峰高随着应变振幅和测量温度而变化的情况,进一步了我们发现的室温非线性内耗峰(非线性滞弹性内耗)是由于溶质原子在位错芯内扩散所引起的。
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在改装了的拉力试验机上,以不同的拉伸速率ε(0.79—18×10-5s-1)进行加、卸载试验,并用中间扭摆和四端电位法同时测量了Ni-49at%Ti合金丝在应力诱导I/C相变过程的内耗Q-1、模量M/M0、电阻率ρ/ρ0和应力-应变曲线。研究了应力循环和应变速率的影响。在Q-1-ε曲线上出现Q-1峰,而在f2-ε曲线上出现与之相对应的模量极小。内耗峰的高度Qp-1和模量亏损值均随ε增大而增大。根据界面动力学模型和内耗的实验数据,计算得应力诱导I/C相变过程界面的动力学关系为V=V*(△G—△GR)m,V*和m为动力学参数,△GR为相变过程中运动相界面所受的阻力,计算得△GR≈1cal/mol。讨论了内耗和模量亏损、软模效应之间的关系。
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用真空葛氏摆,研究了Fe-C+N-P合金系冷加工试样内耗。发现置换式固溶元素磷,强烈减低铁的S-K-K内耗(Q-1)、降低内耗峰温度(Tp)和明显减小其弛豫激活能(H)。在铁中磷的固溶限度以下,内耗峰高度(Qh-1)随合金中磷浓度的三分之二次方(即位错线上磷浓度平方)Cp2/3增加而线性减低。实验结果符合Schoeck理论。本文还讨论了内耗机制,认为它是非螺(包括刃)位错段拖曳Cottrell气团间隙溶质原子移动产生的。位错段运动以弯曲的方式进行。
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报道在超声射流冷却条件下用同步辐射VUV光源研究CH2Br2的振动自电离结构.根据测量的105—123nm范围内母体离子(CH2Br2+)的光电离产率曲线,获得CH2Br2的绝热电离势为10.23±0.01eV.CH2Br2+的最低三个电子激发态,即A(2A2),B(2B1),C(2A1)分别位于10.78±0.01eV,11.20±0.01eV和11.27±0.01eV.在115.01—121.15nm范围内,观察到CH2Br2自电离峰叠加在若干台阶结构上,台阶平均宽度为716.8±40.0cm-1,对应于CH2Br2+(X2B2)中Br-C-Br反对称的伸缩振动(v9),所有的峰均归属为收敛于CH2Br2+(X2B2,v+)振动能级的ns,np和nd自电离Rydberg态.此外,对CH2Br2光解离电离产生离子型自由基CH2Br+(X)的光电离产率曲线的结构也进行了归属
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铝-铜-镓三元系合金相图的室温截面已经用X射线方法测定出来了。室温固相截面包含11个单相(即α, γ2, γ′, δ, ζ1, ζ2, η2, θ, θ′,α铝和镓)相区,14个双相(即α + ζ1, α+ γ2, α + γ′, γ2 + γ′, γ′+ ζ1, γ2+δ, γ′+δ,δ +ζ2, ζ2+η2, η2+θ,η2+ θ′, γ′ + θ′, θ′+ 镓和θ+α铝)相区和9个三相(即α + γ′+ζ1, α+ γ2+ γ′, γ2+ γ′ + δ,γ′ + δ + θ′, δ+ζ2+θ′, ζ2 + η2 + θ′, η2+ θ′ + 镓, η2 +θ + 镓和θ +镓+ α铝)相区。所有单相和三个二元系内室温存在的单相相同,没有新相出现。
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利用低压MOCVD工艺分别在(001)取向的LaAlO3,SrTiO3和重掺杂硅单晶衬底上制备PbTiO3铁电薄膜,并通过X射线衍射谱对薄膜的微结构进行分析.X射线θ-2θ扫描显示硅衬底上得到了PbTiO3多晶薄膜,另两种衬底上得到了择优取向的PbTiO3薄膜.LaAlO3衬底上的PbTiO3薄膜有a和c两个取向,也就是薄膜中存在着90°畴结构,而生长在SrTiO3衬底上的PbTiO3薄膜中只存在c方向的择优取向.由于薄膜的尺度效应,发现c轴晶格常数与块材相比均缩短.X射线的φ扫描验证了后两类薄膜的外延特性,利用同步辐射的高强度和高能量分辨率用摇摆曲线方法研究了这两种外延薄膜的品质,进一步证明了SrTiO3衬底上的PbTiO3薄膜的单畴特性.利用重掺杂的硅衬底作底电极,测量显示直接生长于硅衬底上的PbTiO3多晶薄膜具有良好的铁电性能
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研究了Gd1-xCaxBa2Cu3O7-y(0.0≤X≤0.20)高温超导体在常压和高压下的超导电性在1-300K温度范围内,利用Bridgman对顶砧获得压力达9.0GPa,测量了(X=0.10,0.15,0.20)样品的dTc/dp分别为7.68,7.8和4.46K/GPa。发现Tc的压力导数随着ca2+含量的增加而下降,分析了氧含量对Tc和dTc/dP的影响.利用常压下晶格参数精修值和阳离子与氧离子间距随压力的改变,说明CuO2面在超导电性上的作用,用CuO2面之间耦合解释Tc(P)曲线的非线性关系。
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用第一原理的LDF-LMTO-ASA超元胞法,模拟由X射线吸收谱精细结构测定的BaBiO3中,Bi有两种价态Bi3+和Bi5+及与之相应的两种不同键长的Bi—O八面体,以及K掺杂对晶体结构的影响.计算了Ba4Bi4O12,(Ba3K)Bi4O12,(BaK)Bi2O6,(BaK3)Bi4O12,K2Bi2O6(简记为(404),(314),(112),(134),(022))五种“样本”的电子结构.结果表明,(404)和(314)分别为Eg=1.6eV及Eg=1.5eV的半导体,其它“样本”为金属.总能的分析表明(134)是不稳定的,故溶解极限为x=0.5.以“取样”方式按伯努利分布确定任意组分各“样本”的概率,进而计算了(Ba1-xKx)BiO3电子结构随组分的变化.最后用逾渗模型说明了超导转变温度Tc在x=0.25附近的突变
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在线性增加磁场的条件下,用变频倒扭摆测量了配比成份为(Bi0.8Pb0.2)SrCaCu2Oy的试样在超导态时磁化过程中的低频内耗。测量温度为95K,试样处于零电阻状态,所用频率为0.5-5Hz.在内耗-场强H曲线上观测到内耗峰,它有如下特点:1)峰高随加场速率H的增大而增大,但随测量频率的增大而降低;2)峰值处的场强为4-6mT;3)当H由非零值突然改变至零时,磁化过程特征内耗消失;4)试样处于正常态时,上述特征内耗消失。认为超导体在磁化过程中的上述特征内耗是量子磁通的运动所引起来的。
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本文利用脉冲紫外激光(UV)选择激发氨分子到?1A″2电子激发态的两个最低振动能级ν′2=0和ν′2=1(ν2振动),然后检测新生态H原子的飞行谱(TOF),研究了氨分子的光碎片动力学。光谱证实了最近所测的离解能D00(H-NH2)=4.645eV;绝大多数生成的NH2(X2B1)基处于非振动激发,但是具有围绕a惯性轴的高度转动激发。通过NH3(?)的ν′2=1光离解产生的NH2(X)基具有较高的内部激发,并且显示了在N=Ka转动能级上的反转布居。
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在对Logistic映象数值计算的基础上,我们分析了一维单峰映象的逆轨道结构,证明了不同参数处逆轨道总数N(n)随求逆次数n而变化的递推公式。借此解析地求得了在倍周期区中h(f)≡0;在U序列RLR21的m=3+2l周期点上h(f)=logαmp,其中αmp为方程αm-2αm-2-1=0的最大实根;在2j-1常和2j带交界处hj(f)=(1/2)jlog2,由此可得聚点μ∞处拓扑熵的标度指数t=0.449806…。在此基础上,我们还求得了混沌区的周期窗口,U序列RLaRb所对应的各点处的拓扑熵,以及hR*Q(f)=(1/2)hQ(f)的关系。证明是在M.S.S.规则和“*”乘法则的基础上进行的。所以本文的结果对一维单峰映象是普适的。
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