Ta2O5介质膜性能对液体钽电容器性能的影响

叙述了钽电解电容器阳极Ta2O5介质膜的形成过程,分析了电解液闪火与氧化膜击穿的微观过程。利用扫描电子显微镜(SEM)分析了阳极氧化后及产品失效后阳极钽芯表面介质膜的微观结构,并对液钽电容器失效机理进行了探讨。结果表明,介质膜内杂质或缺陷处O2-放电产生的电子发射是电解液闪火和氧化膜击穿的前驱点;在高电场或高温度的作用下,介质膜的场致晶化和热致晶化是液体钽电解电容器失效的主要模式。     

高效液体色谱法的富勒碳分离

高效液体色谱法的富勒碳分离从碳黑中分离和提纯富勒碳，即分离精制工艺，已成为富勒碳相关研究的基础。该工艺主要是使用液体色谱法（Ｌｃ）。对于ＬＣ来说，有利用自然沉析的“柱式色谱分离法”的初步分离法，还有用高性能移动相的高效液体色谱法（ＨＰＬＣ），以实现高...     

电解质对液体钽电容器闪火电压影响的研究

研究了电解质对高压液体钽电容器电性能的影响。通过对液体钽电容 阳极界面处和阴极界面处的电极过程的研究，结合实验发现，阴离子电子发射及电致伸缩作用引起的Ta2O5介质膜强度下降是导致闪火发生的根本原因。该文研究了电解质中的负离子浓度及有机物的含量对液体钽电解电容器闪火电压的影响。     

用于手机背光模组的轮廓渐变V-槽形自由曲面结构的新颖设计

目前，市场上流行的手机背光源的导光板基本上为单面网点(球型微透镜阵列)的结构。文章介绍了一种新型手机用导光板的设计，其采用一面为网点结构，另一面为轮廓渐变的V-槽形结构的自由曲面，以使导光板的配光更加合理。模拟结果显示，导光板照度比单面网点的导光板要高出1倍左右。采用这样的结构，背光模组中至少可以少用一层3M公司的增亮膜(棱镜膜)．倬背光樽组的成本有效降低．     

液体护创膜在激光术后创面的应用观察

目的:本文叙述以新肤佳液体护创膜临床使用于激光术后创面,观察是否能起隔离创面、抗菌及促进伤口愈合作用。方法:激光手术者30例,试验组在常规激光手术后创面涂抹液体护创膜。用药后3、7、14天观察创面外观结痂、分泌物、创缘反应、以及创面愈合时间。观察有无全身及局部副反应发生。结果:试验组中表浅的创面干燥、无感染等副反应出现,愈合时间缩短。较大、较深的创面在术后3天待分泌物明显减少后使用也可达到同样的临床效果。使用液体护创膜后,患者激光手术后创面无需严格避免接触水,对日常生活影响大为减少。30例中有2例因为在术后渗出较多时使用液体护创膜,用药后局部渗出排出受影响,局部表现创面潮红、结厚痂皮,停药去除痂皮后待创面干燥后再用,创面也正常愈合,未见其它局部及全身副反应发生。结论:液体护创膜是一安全、有效的外用创面保护剂,适用于处理激光术后的创面,能安全有效地隔离创面、抗菌并促进伤口愈合作用。     

激光束凝聚态与液体性质相似

“液体”光不能喝，但对它的认识会导致超快光计算机的问世。这是西班牙维哥大学光学教授Humberto Michinel及其在圣提戈大学和瑞典查默斯技术大学同事们的断言。这些科学家让激光束通     

大容量液体钽电容器高温负荷时失效机理研究

对CA35型160 V/47μF液体钽电解电容器进行2 000 h/85℃高温负荷耐久性试验。通过对失效样品的电性能的测试及对样品阳极钽芯表面氧化膜的结构变化的SEM分析,探讨了其失效机理。表明在高温负荷条件下,由于场致晶化和热致晶化的作用,Ta2O5介质膜由无定形态转化为结晶态,介质膜结构发生畸变是引起产品失效的主要原因。     

低耗液体材料微波复介电常数的准确测试技术

本文提出了一种低耗液体材料微波复介电常数测试技术，利用一腔多模的ＴＥＯｍｎ高Ｑ圆柱测试腔，可对低耗液体材料的ε′γ和ｔａｎδ进行准确地测量．测试ε′γ的不确定度为±０．５％，ｔａｎδ的不确定度为±５．８％，且在一定频带范围内考察了ε′γ和ｔａｎδ３随频率变化特性。该技术测试简便、迅速、自动化程度高，可适用于多种低耗液体材料的测试。     

激光光学演示仪导光液体介质的改进

已广泛应用在物理教学中的激光光学演示仪可以显示光线在均匀介质中的传播规律，但目前存在的问题是尚未找到一种理想的导光液体介质。该介质要求含有大量的微粒质点，并且长期悬浮不沉，以增强对光的散射作用，使光路清晰可见。但目前所采用的液体质点悬浮时间短，沉淀后附在仪器壁上有阻光作用，并巨由于液体中无质点散射，造成光路模糊不清、演示效果变差。     

磁性液体强化扬声器音圈散热的实验研究

实验将封有聚α-烯烃合成油基磁性液体的两玻璃管放置于磁场中,研制了磁性液体在均匀磁场中瞬态双热线导热 系数的实验测量装置,测试发现磁性液体的导热系数在均匀磁场中随磁场强度的增大而显著增大.研制了恒压法在线实时 检测扬声器音圈温升的测量装置,评价了在同一工况下空气和磁性液体对扬声器音圈温升的影响,测量发现磁性液体能显著 ...     

基于选频技术的高效高均匀性微波加热

近年来,微波加热以其高效性和内部加热等优点在各领域得到广泛应用。然而,微波加热的不均匀性限制了其大规模工业应用的发展。高均匀性和高效率是微波加热领域研究的重点。效率低会造成能源的浪费,而不均匀加热会导致加热品质差、甚至热失控等现象。本文提出一种双端口选频加热方法,通过在腔体中内置两个正交极化天线方式进行馈电。并且利用扫频来分析各频点的加热效率以及不同频率对加热效果的影响。最后选择性地对其中高效率的频点进行选频加热,使其在维持加热高效率的前提下提高加热的均匀性。     

直拉重掺硼硅单晶的碱腐蚀特性研究

直拉重掺硅硼单晶作为重要的外延衬底材料,具有其优越的特性。由于其硬度大,杂质含量高．在抛光片的加工过程中表现出腐蚀速率慢、表面均匀性差等特点,不利于硅片腐蚀减薄和抛光清洗等。研究了直拉重掺硅硼单晶的碱性腐蚀速率随腐蚀液温度和浓度变化趋势,从直拉重掺硅硼单晶化学反应的微观角度解释了这种变化规律,在此基础上,研究了不同的添加剂对腐蚀速率和表面均匀性的影响,从理论和实验两方面证实了,在腐蚀液中加入碱性氧化剂有利于腐蚀速率的提高,并能有效改善硅片的表面均匀性。     

高厚径比微小孔镀层均匀性改善研究

文章针对我公司垂直电镀线电镀高厚径比微小孔产品镀层均匀性不佳的状况,通过一系列实验分析,增加电镀前的处理方式提高了高厚径比微小孔产品的贯孔率,在阳极增加挡板,以及在浮架侧面进行开孔等改造措施,改善了电镀均匀性,使其均匀程度得到了提高。这有着较大的现实意义。     

衍射光学元件制作中的基片涂胶方法

在基片上涂布一层厚度均匀的光刻胶层,是衍射光学元件制作中的一个重要步骤。介绍了目前用于衍射光学元件制作的两种主要涂胶方法———提拉法和旋转法,分析了这两种方法的特点和影响胶层厚度的主要因素,尤其是对其均匀性的影响,并提出了获得均匀胶厚的途径。对于提拉涂胶,选择粘度较高的光刻胶溶液与合适的提拉速度将有助于减小Marangoni流动和Van derWaals力对膜厚均匀性的影响;对于旋转涂胶,可以通过密封基片所在空间,或者通过气流控制器使基片上方空气流动处于层流状态来获得均匀一致的溶剂挥发速率,从而提高胶层的均匀性。     

高温真空钎焊设备的研制

主要介绍了真空钎焊的发展和高温合金钎焊的工艺特点。根据Inconel 718高温合金钎焊的工艺要求,高温真空钎焊设备应具有高真空度和低泄漏率、高控温精度、高温度均匀性、一定的加热速率和冷却速率等工艺性能。详细阐述了高温真空设备的结构特点和主要关键技术,包括加热室内温度的均匀性、真空度和压升率以及较高的自动化程度等。     

Evaluation and optimization of large area III-V epitaxial thickness uniformity using a Fabry-Perot microcavity test structure

We report a technique for simply and conveniently measuring epilayer thickness uniformity to 0.5% over an entire wafer. The technique requires epitaxial growth of a Fabry-Perot microcavity test structure. Mapping is performed by measuring the wavelength-dependent optical reflectivity at different points on the wafer and then fitting the reflectivity data to deduce the thickness uniformity. The mapping technique was used to determine the optimal growth conditions in a vertical rotating disk reactor that resulted in better than ±1% uniformity over a 2 inch wafer. The high precision of the optical reflectivity mapping technique can provide information not easily obtained with other techniques. For example, we show that the presence of wafer flat adversely affects the thickness uniformity.     

湿法刻蚀FI CD均一性的影响因素及提高刻蚀均一性的研究

随着高分辨率产品导入,TFT-LCD阵列段各项参数范围越来越小,工艺要求更为严格,为了更好地管控湿法刻蚀各项参数,本文以湿法刻蚀FI CD(Final Inspection Critical Dimension)均一性的影响因素及如何提高FI CD均一性为目的进行研究。首先,通过对湿法刻蚀设备参数(主要包括刻蚀液温度、流量、压力、浓度、Nozzle Sliding、Oscillation Speed、刻蚀时间等)进行试验,验证各项参数对FI CD均一性的影响。其次,对沉积工序、曝光工序以及产品设计等进行试验,获悉影响因素并进行改善。通过对湿法刻蚀设备自身参数的调整,如减少设备温度、流量、压力波动,使参数保持相对稳定状态,可有效改善湿法刻蚀FI CD均一性,FI CD的均一性可从1.0降低至0.5。通过对湿法刻蚀设备参数进行试验并做相应调整,湿法刻蚀FI CD均一性改善效果显著。     

High threshold uniformity, millimeter-wavep+-GaInAs/n-AlInAs/GaInAs JHEMTs

High threshold voltage uniformity p⁺-GaInAs/n-AlInAs/GaInAs millimeter-wave junction-modulated HEMT's are reported. Devices with 0.2 μm gatelength exhibit a standard deviation in threshold voltage of 13.7 mV across a 1×1.5 in² wafer. The uniformity is achieved in devices which exhibit high DC transconductance (520 mS/mm), high unity-gain cut-off frequencies: f_T (105 GHz) and f_max (exceeding 200 GHz), and low minimum noise figure (0.45 dB) with high associated gain (14.5 dB) at 12 GHz     

基于图像处理技术的激光直写导光板网点设计

为了快速高效地设计出输出表面照度均匀的导光板,采用了基于灰度图像处理技术的导光板网点设计方法,并利用TracePro光学模拟软件对2个LED单边入射的模型进行了理论分析和模拟验证,取得了模拟导光板表面照度值.结果表明,此方法设计的导光板输出照度均匀度可达86.7%,符合国际照明委员会(CIE)标准,经局部修改后均匀度可进一步提高到91.9%.该方法能够有效地设计出表面照度均匀的导光板.     

航天积分球面均匀性检测的研究

航天积分球发光面辐亮度均匀性的测量历来是一个难题,如何精确地、无干扰地测量出它的面均匀性,是人们一直在研究的课题.为了准确地测出我国减灾卫星的HJY20-1-A卫星超光谱成像仪星上定标积分球的面均匀性,中国科学院安徽光机所研制了一套测量小口径积分球面均匀性的检测系统,该系统使用透镜成像进行间接检测,采用计算机控制扫描,对高精度标准探测器采集的数据进行分析处理,从而得到该积分球的面均匀性,并用此系统对航天积分球进行了测量,得出该航天积分球的面均匀性小于0.5%,测量误差小于万分之五,该系统具有较高的精度和重复性.