Mo／SiO2软X射线多层膜反射镜的界面分析

用Ｘ射线衍射的动力学理论对磁控溅射法制备的Ｍｏ／ＳｉＯ２多层膜低角Ｘ射线衍射谱进行拟合，定量分析了膜层的周期结构和界面粗糙度。同时，用Ａｕｇｅｒ电子能谱证实了多层膜成分的周期性以及比较明晰的层界面，随样品厚度的增加，界面粗糙度增加。     

Co/Pt多层膜X射线小角衍射分析

对Ｃｏ／Ｐｔ多层膜进行Ｘ射线小角衍射分析,测量出多层膜的周期厚度,解释多层膜小角衍射主峰之间出现次峰的现象,并确立了次峰个数与膜周期数之间的关系。     

Co／Pt多层膜D射线小角衍射分析

对Ｃｏ／Ｐｔ多层膜进行Ｘ射线小角衍射分析,测量出多层膜的周期厚度和解释多层膜小角衍射主峰之间出现次峰的现象,并确立次峰个数与膜周期数之间的关系。     

低温热处理CoN／CN软X射线多层膜的界面互扩散研究

在４７３－５２３Ｋ的低温退火条件下,通过对ＣｏＮ／ＣＮ软Ｘ射线多层膜一级调制峰强度增强的定量观测,研究了ＣｏＮ／ＣＮ软Ｘ射线多层膜的界面互扩散行为,产测得低至１０＾－２５ｍ６２ｓ＾－１的有效扩散系数。通过和Ｃｏ／Ｃ多层膜的结果相比较,发现Ｎ掺杂使ＣｏＮ／ＣＮ软Ｘ射线多层膜的界面互扩散行为明显不同于Ｃｏ／Ｃ多层膜,并具有如下特点：（１）有儿扩散系数和宏观扩散系数较小;（３）扩散激活能较大;（３）临床     

非理想软X射线光学多层膜的掠入射镜向反射率

对实际软X射线光学多层膜中普遍存在的主要非理想因素（层厚漂移、界面粗糙度和界面扩散）进行了定理描述,基于动力学光学理论,计算了上述非理想因素对软X射线光学多层膜的掠入射镜向反射率的影响。结果表明：层厚的随机漂移使反射率、尤其是高级反射率降低;累积层厚漂移破坏了多层膜的长程有序性,使反射峰展宽;界面扩散和界面粗糙度使反射率降低,对高级反射率的影响更甚,但二者并不破坏多层膜的长程有序性,所以反射峰的宽度不变;界面扩散和界面粗糙度对反射率影响的机制不同;在界面扩散宽度和界面粗糙度相等的情况下,界面粗糙度使反射率下降显著,用模拟退火Monte-Carlo方法对Co/C软X射线光学多层膜进行了结构评价。该方法避免复杂的求导运算,在软X射线光学多层膜的结构评价中具有较强的实用性。     

外延膜的高分辨X射线衍射分析

广泛应用于半导体、铁电和光电材料中的外延结构特征以及应变和缺陷会影响外延膜的物理/化学性能。高分辨X射线衍射是对外延结构进行无损准确表征的关键技术。本文从高分辨X射线衍射与外延结构倒易空间的关系出发,重点阐述高分辨X射线衍射与普通X射线衍射的联系与区别,以强调高分辨X射线衍射特征。以铁电外延膜与衬底结构高分辨X射线衍射为例,系统分析它们的高分辨X射线衍射斑特征,包括共格生长、非共格生长、倾斜生长下衍射斑特征,以及外延膜的尺寸、外延膜的倾斜扭转和外延膜的应变对衍射斑的影响等。结合Si_1-xGe_x(x=0.1)等外延膜结构的具体分析阐述如何通过高分辨X射线衍射谱来获取外延膜结构参数,包括外延膜晶格常数、晶格错配度以及厚度和超晶格等信息。本文还系统介绍了高分辨X射线衍射中的倒易平面图的作法,以及相关的理论和实验方法,并据此获得了PbTiO₃外延膜的应力状态、畴结构、相变等结构信息。     

YBCO厚膜用立方织构Ni基带的X射线衍射研究

用冷轧和再结晶退火技术制备了ＹＢＣＯ超导厚膜用的立方织构Ｎｉ基带。并且对所制备的立方织构Ｎｉ基带进行了Ｘ射线衍射研究。提出并讨论了Ｎｉ基带立方织构质量评价实验中容量出现的问题。     

Co相变的X射线衍射研究

用高温Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）方法研究纯Ｃｏ相变的动态行为。结果表明：４２５℃以上它以ｆｃｃ（β－Ｃｏ）形式存在，在无应变条件下大部分β－Ｃ可以保持至室温，常温下研磨，则β－Ｃｏ将转变成ｈｃｐ结构的ａ－Ｃｏ，说明在β－Ｃｏ相变的过程中，应力是重要的诱发因素。     

高温X射线衍射在材料研究中的应用

作者测定了由全单斜(m)相组成的氧化锆,ZrO_2-MgO在1500-1550℃合成的(M-PSZ)及在1700～1750℃烧成的全立方(C)氧化锆试样,在室温至1190℃的相变化;铁钾催化剂中催化相的生成温度;硅锌矿釉熔体中硅锌矿的结晶速度。结果表明;氧化锆在加热和冷却过程中的相变化为:m-ZrO_2(ss)t(四方相)—ZrO_2(ss)。 M-PSZ和立方氧化锆试样被加热到1000℃左右,C-ZrO_2(ss)开始转化为m-ZrO_2(ss),并脱溶出MgO,在1100～1190℃m-ZrO_2(ss)又转化为t-ZrO_2;冷却到850～400℃再由t-ZrO_2(ss)变成m-ZrO_2(ss),最后,在常温下的相组成90％以上是m-ZrO_2(ss),少量的(C t)-ZrO_2(ss)和脱溶出来的MgO。铁钾催化剂中的催化相(KFeO_2)在250℃开始生成,650℃结晶完整,到950℃仍然不变,但冷却到室温并放置一夜后,KFeO_2相全部消失。为研究硅锌矿的结晶动力学,根据在等温下衍射强度与时间关系的变化曲线,计算出釉熔体中硅锌矿的结晶是非热因成核机理和扩散控制一维方向生长共同作用导致的。     

Co相变的X射线衍射研究

用高温Ｘ射线衍时（ＸＲＤ）方法研究纯Ｃｏ相变的动态行为．结果表明：４２５℃以上它以ｆｃｃ（β─Ｃｏ）形式存在，在无应变条件下大部分β─Ｃｏ可以保持至室温，常温下研磨，则β─Ｃｏ将转变成ｈｃｐ结构的α─Ｃｏ，说明在β─Ｃｏ向α─Ｃｏ相变的过程中，应力是重要的诱发因素．     

MAGNETIC PERFORMANCE TRANSITION IN Fe/Tb MULTILAYERS INDUCED BY INTERFACE ROUGHNESS

1. IntroductionIn the past decade, metastable phaJses have been fOund in various multilayers when thedeposited nonequilibrium phases have same crystal structure as the substrate. On suitablesubstrate and under moderate environments it is possible to induce growth of metastablephases. An example is the epitaxial growtli of fcc Fe on fcc Cu substrate where bothelements have close atomic .i...Il'2]. Since the substrate has same crystal structure asthe nonequilibrium phase, the lower interface e…     

Fe-Si合金系熔体结构的X射线衍射研究

利用X射线衍射仪，在1550℃研究了从纯Fe到纯Si共14个成分的合金熔体的结构，所选取合金包括某些在固态时的金属间化合物或有序固溶体，成分间隔大约为10％Si(原子分数)．通过对结构因子第一峰高度、位置及其半高宽、偶相关函数第一峰位置、径向分布函数第一峰形状以及配位数等随成分变化的分析，认为Fe-Si合金系的熔体结构在整个成分范围内可以分成4个区间。它们的边界分别为纯Fe，Fe0.754Si0.246，Fe0.50Si0.50，Fe0.282Si0.718和纯Si，在边界合金的两边，结构呈现明显差别．液态Feo．50Sio．50合金的结构保留了一些金属间化合物FeSi的特征。当Si含量大于50．0％时，Fe-Si合金熔体中开始出现Si-Si共价键．对其他研究者所使用的模型和结论进行了讨论．     

中频对靶磁控溅射合成TiN/Ti多层膜

利用新型中频对靶磁控溅射技术合成了一系列TiN／Ti多层膜．考察了不同Ti间隔层对多层膜硬度和结合力的影响,分析了膜表面大颗粒和坑的形成机理;利用正交实验法和方差分析探讨了靶电流、气体压力和基体偏压对薄膜表面缺陷密度的影响,对工艺参数进行了优化．结果表明,靶电流对缺陷密度的影响最大,气体压力次之,基体偏压对缺陷密度影响最小;当靶电流I=20A、气体压力ρ（Ar＋N2）=0．31Pa、基体偏压Vbias=-16m--300V和Ti间隔层厚度x-=0．12μm时,制备出硬度HV0．2N=2250、膜基间结合力（临界载荷）Lc=48N和表面缺陷密度ρs=58mm^-2的高质量TiN／Ti多层膜．     

A SOLUTION OF MINIMUM NORM FOR QUANTITATIVE PHASE ANALYSIS BY STANDARDLESS X-RAY DIFFRACTION

A new expression of quantitative phase analysis by standardless X-ray diffraction has beenderived using intensity matrix of vector modulus.The criterion of standardless X-raydiffraction analysis was suggested,so as to separate the diffraction pattern of every phasefrom that of sample.The optimal solution could be obtained by the least squares regression.     

无标X射线衍射定量相分析的极小范数解SCIEI

本文用X射线衍射矢量模强度矩阵来建立无标相分析表达式,提出了无标分析的判定标准,并从样品的衍射图谱中分离出各相的衍射图谱,采用最小二乘回归法求其最优解。     

A SOLUTION OF MINIMUM NORM FOR QUANTITATIVE PHASE ANALYSIS BY STANDARDLESS X-RAY DIFFRACTION

A new expression of quantitative phase analysis by standardless X-ray diffraction has beenderived using intensity matrix of vector modulus,The criterion of standardless X-raydiffraction analysis was suggested,so as to separate the diffraction pattern of every phasefrom that of sample.The optimal solution could be obtained by the least squares regression.     

AN EXTERNAL STANDARD METHOD OF QUANTITATIVE PHASE ANALYSIS OF THE SAMPLE CONTAINING AN AMORPHOUS PHASE BY X—RAY DIFFRACTION

A new method of the quantitative phase analysis of sample containing an amorphous phase or a standardless phase br X-ray diffration is proposed in the paper.The addtion of a reference phase or some analvtical phase to the analvzed sample is not required in this method and the experimintal results are satis factory..     

X射线衍射线形Fourier变换

采用计算机辅助实验技术，研究X射线衍射线开在仪器宽化修正过程中Fourier系数变化的规律及其影响，结果表明，只要实测线形接近Gauss 分布，Fourier变换就会导致弯勾效应；Forier变换可引起真实线形的尾部波动及大于实际值的宽化，引入边界条件可予以消除，Kα双线形经过Fourier变换后，Fourier纱数与真实Fourier系数存在着一定的差异。通过真实线形的Fourier变换可以修正。     

SIDEBANDS OF X-RAY DIFFRACTION IN AGE-HARDENED Cu-Ti ALLOY

ＳＩＤＥＢＡＮＤＳＯＦＸ－ＲＡＹＤＩＦＦＲＡＣＴＩＯＮＩＮＡＧＥ－ＨＡＲＤＥＮＥＤＣｕ－ＴｉＡＬＬＯＹ￥ＷｅｉＹｉｎｇｈｕｉ；ＷａｎｇＸｉａｏｔｉａｎ（ＳｃｈｏｏｌｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，Ｘｉ＇ａｎＪｉａｏｔ...