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在化学机械抛光(CMP)过程中,温度是影响晶片最终抛光效果的主要因素之一,采用合理的温度控制方法,把温度控制在一定的范围内才能满足化学机械抛光的工艺要求。通过化学机械抛光机理分析阐述了抛光过程中热量产生的根源,介绍了一种温度控制系统的设计原理,并通过抛光实验验证并说明了温度控制的必要性。 相似文献
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W片的二向色性角β与诱导时间和温度的实验规律 总被引:2,自引:0,他引:2
作为“Weigert效应”研究的基础性工作,本文提出以人造光代替日光,严格控制诱导条件,对特定的预制板采用不同的诱导时间与温度制作W片。实验结果结出了二向色性角β在特定辐照度下随诱导时间和温度而改变的实验规律,得到了高达34.47°的β角。 相似文献
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介绍了运用MICROMAX-Ⅱ集散控制系统对电炉温度进行控制的硬件配置及组态方法.该系统采用PID回路调节法,其稳态误差为±1℃左右,调整时间比一般控制方法短;在设定温度值为800℃时,超调量为6℃左右.系统抗于扰能力强,管理方便. 相似文献
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基于模糊控制的计算机控制实验平台的设计 总被引:1,自引:0,他引:1
为加强计算机控制实验和自动控制理论实验的结合,提高教学实验水平,选择工业生产和科学实验中的重要物理量温度作为被控制量,而模糊控制是目前应用较为广泛、设计简单且在温度控制中取得了较好的控制效果的控制方法,为此开发了基于模糊控制的计算机控制实验平台。论文设计了基于PC机一单片机的分布式温度实时控制系统,根据温度控制系统的特点,给出了温度控制系统模糊控制器的实现方法,实验平台具有硬件透明、软件开放等特点,且模糊规则修改灵活方便,适合于学生实验使用。 相似文献
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针对300 mm单晶片清洗设备,设计开发了一套化学药液温度控制系统。由于化学药液传输系统具有大惯性、大时滞、非线性的特点,采用Smith预估法设计了一种温度控制算法;并基于可编程计算机控制器(PCC)设计实现了化学药液温度控制系统。介绍了该控制系统的硬件组成和控制算法设计,实验结果表明该温度控制系统能够满足清洗工艺需求。该系统现已成功应用于自主研发的300 mm、65 nm铜互连单片清洗设备。 相似文献
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将空气中烧成的镍导体用于散热制冷片制作工艺中,可降低成本,提高合格率。通过实验得到的最佳值为:镍导体中4号玻璃(SiO2>30,B2O3>10,PbO<55,TiO2少许)的含量4.5%,化学镀镍时间50min,方阻47.5mΩ/□,附着力8.1N/mm2。 相似文献
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设计并开发出用于DNA聚合酶链式反应(PCR)的微流体芯片温度控制系统。采用具有光学透明的PDMS和ITO导电玻璃,设计制作了温度可控全透明PDMS微流体芯片。系统由硬件电路搭建和控制软件编程共同实现。温度信号由AD590采集,经过CD4051BE选通,传送给ATmega16L,单片机通过比较温度采集值与设置值,得到控制指令,并控制驱动电路。实验结果表明,该系统完全满足设计要求,温度控制精度高,系统体积小,便于PCR扩增实验。 相似文献
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本文设计了以单片机8031为核心的温度程序控制仪,并介绍它的原理,结构及功能,实验表明这种温度程序控制仪能够满足PTCR烧结过程中温度控制的要求,而且操作简单,便于维护。 相似文献
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本文介绍的电风扇温度自控装置,可以按预定的温度自动开启和关闭,当温度高于预定的温度时,电风扇自动启动,这样可使室内保持一定的温度,从而克服了普通电风扇定时不定温的缺点。该装置电路如图1所示。只要在普通电风扇上安装这套电路,便可实现温度自控的目的。具有电路简单,方便制作的特点。 相似文献
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在光电应用领域中,有很多红外热像仪对温度控制的精确性和稳定性有很高的要求.采用ADN8831温控芯片设计了一个高精度高性能的温度控制系统.实验测试结果表明,该系统完全符合光电领域对温度稳定性的要求,控制精度达到了0.01℃. 相似文献
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一种可获得高稳定度的温控电路沈才忠(浙江省计量测试技木研究所,杭州.310013)恒温干燥箱、生化培养箱、恒温液体班等试验设备是化学分析、检测工作中必不可少的。对于各种试验设备,就其性能而言,箱(槽)体内的温度稳定度是一个重要的技术指标。影响温度稳定... 相似文献
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光纤通信系统正不断向高速、大容量发展,稳定的光收发电路成为保证系统工作的关键,针对系统的发展要求,总结了高速光收发电路的制作特点;研究设计了2.5Gb/s光收发电路,并将其应用在激光器和接收设备动态特性的测试实验。 相似文献