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晶片传输系统中切边探测和预对准技术 总被引:4,自引:0,他引:4
杨兴平 《电子工业专用设备》2003,32(1):43-47
介绍投影光刻机设备的晶片传输系统中切边探测和晶片预对准技术。 相似文献
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分析了硅片预对准设备的工作原理、流程及计算方法,并在实验数据的基础上详细讨论了各种方法的优缺点。 相似文献
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Nikon光刻机对准系统概述及模型分析 总被引:1,自引:0,他引:1
对准系统是光刻机中最精密复杂的部分,掌握对准原理是设计和使用光刻机的关键之一。阐述Nikon步进投影光刻机(Stepper)的对准机制,详细介绍目前应用于Nikon步进光刻机硅片对准的三种对准方式:LSA、FIA、LIA,比较它们的优缺点。并结合数学模型对影响Nikon对准模型信号强度进行分析,为提高对准精度提供了依据,对实际应用有一定的指导作用。 相似文献
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作为微细加工技术之一的高分辨率光刻技术--同步辐射X射线光刻(XRL)可应用于100nm及100nm节点以下分辨率光刻,高精度对准技术对XRL至关重要,直接影响到后续器件的生产质量。目前国内的XRL对准系统主要采用CCD相机和显微物镜采集图像,经过计算机图像处理程序进行自动对准;图像边缘分辨是图像处理部分的关键,直接决定了对准精度。针对3种不同的图像边缘增强方法进行了掩模和硅片识别精度以及对准精度的研究,并且初步设计了几种对准标记。 相似文献
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分步投影光刻机对准系统应用与研究 总被引:2,自引:0,他引:2
吴成功 《电子工业专用设备》2004,33(9):58-62
分步投影光刻设备对准系统是由嵌在工作台上的一组基准标记、一套离轴对准系统和一套掩模对准系统组成。当工作台上的基准标记运行到投影镜头下面时,通过掩模对准系统在预定范围内扫描测量标记位置值。当工作台上的基准标记或硅片上的标记运行到离轴对准系统测量光束下面时,用系统扫描可以测量出标记的坐标值。即可通过测量值计算出每个曝光场的中心坐标值。通过EGA对准数据,可计算出硅片的平移偏移量、旋转量、比例量和正交性量的补偿值。 相似文献
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系统误差校正中的时间对准问题研究 总被引:3,自引:0,他引:3
在雷达组网系统中,为了能迅速而准确地进行误差校正,必须对用于误差校正的数据进行快捷而有效的空时对准。提出在单目标和多目标情况下的时间对准方法,并用最小二乘法对时间对准后的雷达数据进行误差校正仿真,实验结果证明了该算法的有效性。 相似文献
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V. Dragoi P. Lindner H. Kirehberger P. Kettner 《电子工业专用设备》2007,36(1):31-36
新型MEMS应用领域的发展为现有的制造技术带来了很大的挑战,并促使了满足新加工要求的制造能力的发展。根据目前MEMS制造中普遍采用的不同的晶圆键合方法及其主要工艺参数要求,开发了一种新型的晶圆键合技术。 相似文献
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罗正全 《电子工业专用设备》2000,29(4):30-34
传输片、预对准、调平及预调焦系统是分步重复投影光刻机的重要组成部分 ,其精度和运行可靠性对分步重复投影光刻机的整机性能指标将产生重大影响。介绍了 0 8~ 1 μm分步重复投影光刻机传输片、预对准、调平及预调焦控制系统的组成及控制软件 ;分析了预对准、机械手上片、调平及预调焦的精度和运行可靠性 ,并给出了研制结果。 相似文献
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介绍了晶片映射系统及其原理。该系统修正了机械手采用传统方式自动取片时执行效率低、料片状态无纠错功能的弊端,并详细论述了该系统的实现细节及算法。 相似文献
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木马是一类具有隐藏性、自发性的恶意程序,目的多为控制用户电脑以窃取信息。首先简单介绍了木马程序的设计原理和木马的主要工作流程,木马客户端和服务端之间的通信过程。在此基础之上,介绍了几种目前主流的木马免杀技术,主要包括特征免杀、加花指令免杀、加壳免杀及内存免杀等。然后介绍了利用远程线程注入的方法进行木马注入DLL程序,从而达到木马进程隐藏的目的。最后综述了木马防治的基本方法。 相似文献
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强流氧离子注入机装卸片控制系统 总被引:1,自引:1,他引:0
介绍了一种用于强流氧离子注入机的装卸片控制系统,控制系统采用多轴运动控制器实现了多个电机的协同运动,解决了晶圆在传送过程中的中心偏差校正和角度校正的问题,并最终实现了晶圆的全自动传送。 相似文献
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概略地介绍了在电子束曝光机上使用的自动输片系统的要求及其组成;较详细地叙述了自动输片控制系统的硬件组成及软件设计;最后给出了运行和检测结果。 相似文献
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王学军 《电子工业专用设备》2005,34(11):41-43,58
随着数字化技术在诸多领域的迅猛发展,使得控制技术的发展更趋于数字化,对复杂设备的控制便显得尤为明显,针对DJ-801硅片倒角机控制系统,阐述了其具体控制方式及实现方法。 相似文献