一维光折变光子晶格的带结构研究

利用双光束干涉在光折变LiNbO_3晶体中写入折射率周期性排列的光子晶格,运用平面波展开法研究这种光折变光子晶格的带结构,并对比不同折射率对比度下的带结构情况。     

光折变缺陷光子晶格的局域光特性研究

以交叉相位法为基础,分别在LiNbO_3:Fe晶体中构造了带有微米量级线缺陷的四方和三角的12μm×12μm光折变光子晶格,并且重点研究了在不同类型和不同的实验条件下的光折变光子晶格中线缺陷的能否局域光的特性。     

大面积小周期(2+1)维光折变光子晶格的制作

对利用光辐照技术在铌酸锂(LiNbO3:Fe)晶体中制作大面积小周期(2+1)维光折变光子晶格进行了详细实验研究。采用波长为532nm激光在晶体中成功地构造了面积为5.7mm2、晶格周期为13μm×13μm的(2+1)维光折变光子晶格。给出了实现大面积、小周期(2+1)维光折变光子晶格制作的实验参数,并对在实验中需要注意的问题进行了详细说明。     

胶合透镜法在LiNbO3：Fe晶体中制作光折变光子晶格

研究了一种制作光折变光子晶格的新方法——胶合透镜法。利用此方法在LiNbO3：Fe晶体中成功的制作了一维和二维光折变光子晶格。同时,对实验现象和实验原理进行分析得到,此种方法不仅可以得到较大面积的干涉区域从而可以制作出较大面积光折变光子晶格,此外这种方法可以实现晶格周期的连续调节,进而可以根据需求制作不同周期的光折变光子晶格。在实验中也验证了这种方法的优点与可行性,这对光子晶格的制作与研究有一定的意义。     

胶合透镜法在LiNbO_3:Fe晶体中制作光折变光子晶格

研究了一种制作光折变光子晶格的新方法——胶合透镜法。利用此方法在LiNbO3∶Fe晶体中成功的制作了一维和二维光折变光子晶格。同时,对实验现象和实验原理进行分析得到,此种方法不仅可以得到较大面积的干涉区域从而可以制作出较大面积光折变光子晶格,此外这种方法可以实现晶格周期的连续调节,进而可以根据需求制作不同周期的光折变光子晶格。在实验中也验证了这种方法的优点与可行性,这对光子晶格的制作与研究有一定的意义。     

片光法构造缺陷态光折变光子晶格

实验上利用四孔的掩膜和柱透镜成功的在LN晶体中构造了不同类型的缺陷态光折变光子晶格,发现当缺陷的写入角度与c轴垂直时,写入的缺陷最好,平行时最差,并描绘了折射率随时间变化曲线,发现写入时间为40分钟时为最佳写入时间。推导了四孔掩膜的电磁场分布并在理论上模拟了四孔掩膜和柱透镜的空间光场分布,验证了此方法的可行性,这对缺陷态光子晶格的研究和应用有一定的意义。     

二维网状光折变光子晶格的构造与研究

利用交叉相位法,辐照两个带有15个孔相互正交的振幅掩膜,成功地在LiNbO3∶Fe晶体中构造了二维网状光折变光子晶格。分析了掩模孔间距、写入时间及入射角度等实验条件对写入光子晶格的影响。分别推导了两个掩膜的空间电磁场分布并在理论上进行了叠加和数值模拟,结果和实验符合的很好,这对光子晶格的应用和研究有一定的意义。     

LiNbO_3:Fe晶体中光写入平面光子晶格折射率调制度的变化规律

研究了利用光折变效应在掺铁铌酸锂(LiNbO3:Fe)晶体中制作平面光子晶格时折射率调制度△n与晶格周期∧的关系。实验结果表明,平面光子晶格折射率调制度△n同晶格周期∧息息相关,当晶格周期达到分裂周期时,折射率调制度分布规律会发生质的变化。     

光诱导光子晶格折射率对比度影响因素的探究

由实验测量得到的不同写入角度下的衍射效率,通过衍射效率与折射率对比度的关系,间接得到了折射率对比度与光子晶格周期的关系.关系表明折射率对比度随晶格周期的变化确实有一极值存在.说明写入不同周期的光子晶格会有不同的折射率对比度.用不同掺铁浓度的晶体实验时发现随着掺铁浓度的增大折射率对比度的最大值也增大,并且最大值的位置向晶格周期人小的方向移动,这与理论计算结果相吻合.因此,在实验与理论上证实了折射率对比度确实与写入的光子晶格的周期和掺铁浓度有关.     

用二次干涉法在LiNbO_3:Fe晶体中构造准周期结构光子晶格

在用干涉法制作一维光子晶格的实验中,我们利用二次干涉的方法在LiNbO3:Fe晶体中成功地制作了2种空间周期的准周期结构光子晶格,并给出了定量的数学描述。这对准周期光折变光子晶格的制作是非常有意义的。     

光折变光子晶格带隙展宽的实验研究

本文利用振幅掩模的傅里叶变换法在LiNbO3:Fe晶体中制作了一维光子晶格,通过连续旋转晶体,由功率探测器测得透射率,绘出Bragg带隙曲线.分析了用两孔振幅掩模制作的光子晶格的带宽、位置,讨论了在孔间距为6mm条件下,振幅掩模孔的数目由3个增加到5个的带隙情况,由实验观察发现了奇特的现象:衍射光的数目由2个增加到4个...     

二维椭圆介质柱光折变光子晶体的制作

对6个点光源进行光学傅里叶变换,在自散焦光折变掺铁铌酸锂晶体中成功制作了具有100余条椭圆柱阵列波导。研究表明,这些阵列波导构成了大带隙的椭圆柱光子晶体。测得沿着椭圆长轴、短轴方向的晶格常数分别26um和15um。     

缺陷光子晶格局限光现象的研究

利用成像法在自散焦LiNbO3:Fe晶体中诱导出了线形缺陷结构的(2+1)维光折变光子晶格,并发现该缺陷晶格对光波具有一定的局域作用。又对三角与四方点阵缺陷晶格的局域光能力作了对比,结果显示三角点阵缺陷晶格的局域光能力要更好一些。最后,根据光子带隙理论对晶格局限光的现象进行了初步的解释。这对光子晶体的进一步研究与应用有一定的意义。     

线状缺陷态光子晶格光学特性的实验研究

利用实验的方法对自散焦LiNbO3∶Fe晶体中构造的缺陷态光子晶格光学性质进行了研究。实验表明影响缺陷态光子晶格光学性质的因素很多,如有无格子、晶格周期的不同,还有缺陷在晶格中的角度和缺陷间晶格列数都对其光学性质有很大的影响。文中同时对实验现象也做了初步的理论解释,这对光子晶格的制作与应用有一定的指导意义。     

掩膜成像法在LiNbO_3:Fe晶体制作缺陷态光子晶格

在用掩膜法制作光子晶格的实验中,我们分别在薄、厚LiNbO3:Fe晶体中成功地制作了带有缺陷的(2+1)维光折变光子晶格且比较了二者的异同,并结合透镜成像的相关理论找出了造成这些异同的因素,又对这些因素做了详细的分析。这对更好的利用掩膜成像法制作光折变光子晶格有一定的指导意义。