偏压对多弧离子镀TiN膜层的影响

主要运用多弧离子镀技术研究了偏压对不锈钢基片上镀制的ＴｉＮ膜层的影响，运用扫描电子显微镜，Ｘ－射线衍射仪和附着力测定仪研究了膜表面的钛滴，针也，膜的的取向和临界载荷等性能。结果表明：低偏压下膜表面的针孔密度较小，高偏压下钛滴趋于细化。划痕试验表明：在１５０－２００Ｖ偏压下膜层的临界载荷最佳。     

离子镀TiN膜耐孔蚀性研究

采用电化学测试技术,研究了TiN膜对不锈钢在海水中的孔蚀行为的影响。结果表明,离子镀使孔蚀电位提高,改善和提高了抗孔蚀性能。其主要原因是TiN膜层的化学效应和亚稳相氮化物的形成。     

用稀土钇提高离子镀TiN膜层与基体结合力的研究

研究了不同含量稀土钇对离子镀ＴｉＮ膜与基体结合力的影响，结果表明，加入稀土钇后，大大提高ＴｉＮ膜与基体的结合力，并使膜层内ＴｉＮ相增加，此外，稀土钇能明显提高镀膜过程中钛料蒸发率，在相同镀膜内，能使ＴｉＮ膜层加厚。     

TiN离子镀技术在刀具上的应用

本文简要阐明刀具的磨损模型和刀具表面的重要性。指出TiN膜层使刀具表面改性而提高了服役性能和扩大其应用范围。并介绍了膜层新材料和离子镀应用前景。     

不同底层TiN离子镀复合涂层的研究

在合适的表面处理底层上进行ＴｉＮ离子镀，不但可以提高复合涂层的耐磨耐蚀性，而且能够改善其与基体间的结合强度，本研究拓展了离子镀的应用领域。     

多弧离子镀TiN低温涂层的研究

研究了在多弧离子镀设备中，在低温（３５０℃以下）沉积的ＴｉＮ涂层的特点，性能及应用。经Ｘ射线衍射分析和扫描观察电子探针等测定，低温ＴｉＮ涂层具有单相ＴｉＮ结构，涂层表面有粒度大小不一的颗粒，断口呈细密纤维形貌。低温ＴｉＮ涂层有良好的耐磨性和使用性能。     

离了镀TiN膜层的抗蚀性研究

本文对比研究了４５钢和１Ｃｒ１８Ｎｉ９Ｔｉ钢两种不同基本材料镀ＴｉＮ膜与未镀ＴｉＮ膜试样的抗盐水腐蚀性能，结果表明，在基材上沉积致密的ＴｉＮ膜层能十分有效地提高抗腐蚀性，并指出在膜层存在针孔时，将使抗腐蚀性降低，而用这种影响与基材有关。     

离子镀TiN膜对不锈钢在海水中缝隙腐蚀行为的影响

采用空心阴极离子镀技术在304不锈钢上沉积TiN膜.应用电化学测试技术,研究了TiN膜在海水中缝隙腐蚀行为的影响结果表明,离子镀使ER提高,改善和提高抗缝隙腐蚀性能.其原因是,TiN膜的化学效应所致.     

热处理对PI基板铜薄膜金属化TiN阻挡层的影响

聚酰业胺(PI)材料具有介电常数低，分解温度高及化学稳定性好等优点，是很有前途的电子封装材料。Cu具有低的电阻和高的抗电迁移能力，足PI基板金属化的首选材料。采用物理气相沉积(PVD)方法在PI基板上沉积Cu薄膜，利用TiN陶瓷薄膜阻挡Cu向PI基板内部扩散。研究热处理条件下TiN陶瓷薄膜阻挡层的阻挡效果、Cu膜电阻变化以及Cu膜的结合强度，俄歇谱图分析表明TiN可以有效地阻挡Cu向PI内的扩散。300℃热处理消除了Cu膜内应力，提高了Cu膜的结合强度。     

用多弧离子镀膜机镀氮化钛

在研制的大弧源多弧离子镀膜机内进行了沉积氮化钛工艺试验，研究了源施加磁控与否氮分压基板偏压和形成氮化钛时工件温度等工艺参数，对氮化钛涂层微观组织和性能的影响。     

几种沉积氮化钛涂层的新技术

介绍了几种沉积氮化钛涂层的技术。利用辅助磁场消除多弧离子镀沉积氮化钛膜层中的熔滴,细化膜层组织;安装平面大弧源和柱状弧源的多弧离子镀膜机,使多弧离子镀膜机结构简化,操作简单,采用非平衡磁控溅射源扩展了镀膜室内等离子体范围,有利于磁控溅射沉积氮化钛超硬涂层。     

MAIP镀TiN薄膜结构形貌的研究

本文用多弧离子镀膜(MAIP)技术在高速钢基片表面镀TiN后,用XRD和SEM对膜层组织结构、形貌进行了分析。结果显示,在高速钢基片表面的为TiN薄膜,该TiN膜致密,但在薄膜表面有少量白色大颗粒和黑点。能谱分析显示,白亮的大颗粒成分与普通膜面几乎相同,大黑点是直通基体的针孔,小黑点是盲孔。结论:这些大颗粒降低了薄膜表面粗糙度,对薄膜的耐磨性产生不利影响,而且针孔的存在,对膜层的耐蚀性有不利影响。     

低能Si离子注入对TiN硬质薄膜性能的影响

采用低能MEVVA离子源技术对由磁过滤阴极真空弧沉积的TiN硬质膜进行了Si离子注入.采用场发射扫描电子显微镜、纳米硬度测试等方法,研究了基体离子注入剂量对薄膜性能的影响.结果表明,Si离子注入能在薄膜表面形成均匀细小的纳米颗粒.使基体及薄膜硬度从33 GPa提高到56 GPa,弹性模量从360 GPa提高到750 GPa.对薄膜进行多(4)次注入,硬度和弹性模量的提高并不显著,但对基体离子注入充分,薄膜的整体硬度和吸收塑性变形能的能力均有显著提高.     

TiN附着膜的应力-应变关系

利用等离子体辅助化学气相沉积法(PACVD)在60Mn钢基片上沉积2．5μm厚的TiN膜．借助X射线应力分析技术和微拉伸设备，测量该附着膜纵向(加载方向)应力和横向应力及外载应变，进而求其等效应力-等效单轴应变关系，并由此算得它的条件屈服点σ0．1和σ0．2分别为4．2和4．4GPa，加工硬化指数为0．36．用纳米压痕仪测得其硬度为25GPa，弹性模量为420GPa．TiN膜在拉伸过程中发生了塑性变形．     

化学气相沉积TiN薄膜组织性能研究

研究了用化学相沉积方法在钢基体表面形成TiN薄膜的组织和性能结果表明，由于钢中的铁和碳向膜层中扩散，膜层的组织中存在有少量的α—Fe，而且薄膜的硬度与钢的含碳量有不可忽视的关系。     

工艺参数对离子束辅助沉积TiN薄膜性能的影响

为进一步提高牙科材料的生物相容性、耐磨性和耐腐蚀性能,将离子束辅助沉积制备TiN纳米薄膜技术引入到铁铬钼牙科材料的研究中,在Fe-Cr-Mo合金基体上制备了TiN薄膜.测定了表面膜层的显微硬度,在模拟口腔环境的溶液中,采用电化学方法,对经不同工艺参数沉积TiN薄膜的牙科用Fe-Cr-Mo合金的耐蚀性进行测试,并以未进行表面镀膜的Fe-Cr-Mo合金为对照.结果表明:经TiN镀膜处理的Fe-Cr-Mo软磁合金硬度明显增加,在口腔环境中的耐腐蚀性较未经表面镀膜处理的有明显提高.工艺参数不同,硬度增加的程度不同,耐蚀性差别也较大,当氮气流量为1.5mL/min,溅射时间为4h时,得到的膜厚为2μm,此时TiN膜硬度最高,在口腔溶液中耐腐蚀性最好.     

NiTi合金基TiN薄膜的血液相容性和耐腐蚀性研究

采用电弧离子镀法在NiTi形状记忆合金表面制备了TiN薄膜，利用X射线衍射、扫描电子显微镜和原子力显微镜研究了TiN薄膜的相组成及表面特性；在生物体外，研究比较了镀膜和未镀膜的NiTi合金的血液相容性和耐腐蚀性。结果表明：TiN薄膜提高了NiTi合金的血液相容性，并使Ni离子的释放率约降低了1个数量级，有效地提高了NiTi合金的耐腐蚀性。薄膜越厚性能提高的效果越显著。     

等离子体化学气相沉积TiN膜的研究

采用直流等离子体化学气相沉积技术,在高速钢、Si(100)和Si(111)基体上沉积TiN膜,并对膜的晶体结构、表面形貌、断口结构、显微硬度、氯含量等进行了测定和分析,部分样品进行了二次离子质谱(SIMS)、Auger谱(AES)和X光光电子谱(ESCA)等分析.试验表明:在不同基材上沉积的TiN膜,只要沉积参数相同,膜的结构和性能都相同.在沉积温度500℃左右,TiN膜的生长方式有一转变,即可能是由层生长转变为岛状生长.直流PCVD法生成的TiN膜,其N:Ti≈1:1,有强的(200)织构,膜与基体间有较宽的共混区,因而结合强度高和耐磨性好,适于用作耐磨镀层.