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铝合金微弧氧化膜与基体界面区的硬度和弹性模量分布 总被引:10,自引:0,他引:10
用显微力学探针和维氏显微硬度计测定了LY12CZ铝合金微弧氧化膜与基体界面区的显微硬度H和弹性模量E分布,并分析了引起界两侧力学性能差异的原因,结果显示,界面两侧H和E值相差较大,因界面附近,H,E值从界面到膜内部是逐渐增加,界面附近铝合金基体上无明显硬化区,基体未发生重熔,而界面另一侧氧化膜则重熔过,氧化膜的硬度和弹性模量分布同膜的重熔有关。 相似文献
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为了达到改善铝合金表面硬度低、耐磨耐蚀性差的目的,采用脉冲电源微弧氧化技术在硅酸钠电解液中在铝合金表面原位生长陶瓷膜.讨论氧化时间和电流密度对微弧氧化成膜厚度的影响.用数字式覆层测厚仪测量膜厚,扫描电子显微镜和X射线衍射分析膜层显微结构和相组成.结果表明:氧化时间越长,膜层越厚,但是30min以后不再增厚,电流密度越大,膜层越厚;陶瓷层表面有微孔产生,膜层与基体结合紧密,膜层由致密层、过渡层和疏松层组成,致密层厚且致密;氧化膜由γ-Al2O3、mullite莫来石(3Al2O3·2SiO2)和AlO相组成. 相似文献
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铝合金表面微弧氧化工艺条件的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
为了研究了起弧电压、电流密度和氧化时间等参数对铝合金陶瓷膜性能的影响.以LY12铝合金为试验材料,采用MAO240/750微弧氧化设备、TT260测厚仪和AMARY-1000B扫描电子显微镜.结果表明:起弧电压随着Na2SiO3浓度的增加而降低;在相同氧化时间内,随着电流密度的增加,陶瓷膜的厚度也显著地增加,陶瓷膜的致密层的显微硬度也在逐渐地增加,但不是呈线性增加的;在相同电流密度条件下,随着时间的增加,膜层厚度和致密层硬度非线性增加,但致密层所占比例却减小.得出结论:电流密度应该选择在5~20A/dm2的范围内,微弧氧化时间控制在3h以内时比较适宜. 相似文献
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ZL系列铸铝合金的微弧氧化 总被引:21,自引:1,他引:21
对含硅量为 8 %~ 12 %的ZL系列铸铝合金的微弧氧化工艺条件、膜层结构以及成膜过程进行了研究。结果表明 :采用不对称交变电压和在以硅酸钠为主要成分的复合电解液体系中 ,铸铝合金表面可获得一层性能优异的微弧氧化膜层。电子能谱 (EDS)和X射线衍射 (XRD)分析结果表明微弧氧化膜主要由Al,Si和O元素组成 ,膜的相结构主要为 η Al2 O3 ,α Al2 O3 和SiO2 ,并含有γ Al2 O3 和Mg ,W ,Cu等元素的氧化物。扫描电镜 (SEM)分析表明微弧氧化膜由致密层 (内层 )和疏松层 (外层 )构成 ,疏松层表面存在许多气孔 ,而致密层完整光滑 ,具有较高的显微硬度和优异的耐磨耐蚀性能 相似文献
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TiAl合金微弧氧化膜的制备及抗氧化性能研究 总被引:1,自引:0,他引:1
利用微弧氧化的方法在γ-TiAl合金上制备陶瓷膜,探讨了氧化过程中电流密度与成膜速度的关系。利用扫描电镜研究了氧化膜的表面形态和截面结构,结果表明,氧化膜由三层组成,且氧化膜与基体间有良好的冶金结合;物相分析发现氧化膜中含有金红石、Al2TiO5和SiO2非晶成分,并且物相组成和分布与成膜时间及膜的深度无关;氧化膜的硬度随着氧化时间的增加而增加,极大值出现在距离膜基交界面约10μm附近的氧化膜中。1100℃下的高温氧化实验发现微弧氧化处理后样品的氧化速度只有原始基体材料的1/3,微弧氧化处理后提高了TiAl合金的抗氧化性。 相似文献
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为了利用微弧氧化工艺在钛合金表面制备钙磷生物膜层,并确定该工艺电源占空比对膜层性能影响。研究了在恒电流和恒电压下,电源占空比对于膜层厚度、表面粗糙度和钙磷摩尔含量的影响规律。并利用SEM分析了不同占空比对于膜层表面形貌的影响。结果表明,恒压下随占空比增加,膜层厚度和表面粗糙度同时增加,膜层中钙磷含量增加;而恒流模式下,膜层厚度和表面粗糙度增长缓慢且呈先增加后减小趋势,膜层表面形貌、粗糙程度变化不大。故希望获得厚膜层应选择恒压模式,而恒流模式适于表面光滑膜层制备。 相似文献
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LY12铝合金微弧氧化陶瓷膜的纳米压入研究 总被引:11,自引:0,他引:11
用纳米压入法测定了LY12铝合金微弧氧化陶瓷膜的硬度H和弹性模量E分布,并探讨了陶瓷氧化膜的生长机理。氧化膜的硬度和弹性模量分别为18GPa-32GPa,280GPa-390GPa。靠近膜/基体界面的氧化膜硬度和弹性模量仍然相当高。H和E沿膜深度的分布都存在一个极大值,并同膜内α-Al2O3含量变化是一致的。其形成原因在于微弧区熔融物在膜不同部位冷却速率差异较大。 相似文献
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微弧氧化处理对AA7075铝合金在3.5%NaCl溶液中局部腐蚀行为的影响(英文) 总被引:2,自引:0,他引:2
A.VENUGOPAL Rajiv PANDA Sushant MANWATKAR K.SREEKUMAR L.RAMA KRISHNA G.SUNDARARAJAN 《中国有色金属学会会刊》2012,22(3):700-710
采用微弧氧化法在AA7075铝合金上生成氧化铝膜层,并对氧化铝膜层在3.5%NaCl溶液中的腐蚀和应力腐蚀开裂行为进行测试。采用电化学阻抗谱来研究膜层随浸泡时间的变化,构建合适的等效电路图。对常载荷应力腐蚀开裂测试后的试样进行金相观察。结果表明,微弧氧化膜可以有效避免富Cu、Fe金属间化合物相引发的严重局部腐蚀而导致的合金过早失效。 相似文献
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LY12铝合金表面喷射式微弧氧化工艺研究 总被引:2,自引:0,他引:2
采用小型微弧氧化电源装置和新颖的喷射式阴极,解决传统的浸入式微弧氧化工艺不能用于外场大面积构件局部修复用涂层制备的问题。采用XRD、SEM、EDS等分析手段研究涂层的物相与组织结构。用动电位极化法及盐雾腐蚀试验评价涂层的抗腐蚀性能。结果表明,相同电参数条件下,喷射式微弧氧化电流密度略高于浸入式氧化,生长的涂层厚度稍低于浸入式氧化,喷射式与浸入式微弧氧化涂层生长规律一致。涂层主要由α-Al2O3和γ-Al2O3组成,涂层内层致密,表面多微孔。TAFEL极化曲线与盐雾腐蚀测试均表明,微弧氧化涂层明显改善LY12铝合金抗腐蚀性能。 相似文献
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利用交流脉冲微弧氧化电源在氯化钠和不同浓度硅酸钠电解液中对LY12铝合金进行表面处理,对比研究了样品表面有无预制备膜对微弧氧化起弧及生长过程的影响规律。结果表明:铝合金样品表面形成较高阻抗值的膜层是微弧氧化起弧现象得以发生的必要条件;样品表面获取预制备膜抑制了活性电极放电并为后期电击穿提供一个易"失稳"的界面状态,有利于缩短微弧氧化起弧时间,降低起弧电压,但预制备膜厚度和阻抗值大小对起弧时间和电压影响均较小;样品表面有无预制备膜微弧氧化电压-时间曲线有着相似的变化规律,且预制备膜在后期生长过程中重新参与成膜,在相同能量输出条件下所得陶瓷层厚度明显大于无预制备膜铝合金。 相似文献
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电参数对镁合金微弧氧化膜厚度的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
在自行研制的电解液中,采用四因素三水平正交实验,系统研究频率、占空比、电流密度和终电压对AZ91HP镁合金氧化膜厚度的影响。结果表明,各因素的主次顺序为终电压〉电流密度〉占空比〉频率。终电压对氧化膜厚度影响显著,电流密度对氧化膜厚度有影响但不显著,占空比和频率对氧化膜厚度无显著影响。氧化膜层的耐蚀性并不是仅仅由厚度决定,而是由多种因素综合作用的结果。 相似文献
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Thick and hard ceramic coatings were fabricated on A356 aluminum alloy by using plasma electrolytic oxidation(PEO) technique.The microstructure and phase composition of the PEO coatings were examined by using SEM and XRD method.It is found that the PEO coatings are mainly composed of crystalline α-Al2O3 and mullite.The dry sliding wear test of PEO coatings were carried out on a ring-on-ring wear machine.Results shows that there is hardly no wear loss of polished PEO coatings while the wear rate of uncoated aluminum alloy is 4.3×10-5 mm3·(N·m)-1 at a speed of 0.52 m·s-1 and a load of 40 N. 相似文献