ZrO2膜中的应力

用射频溅射制备了ZrO     

ZrO_2在陶瓷工业中的应用

ＺｒＯ２已应用于陶瓷色料、颜料、耐火材料、分散作和研磨介质、加热管及氧气探测器、陶瓷添加剂等。本文介绍了ＺｒＯ２材料的典型性能以及不同种类的ＺｒＯ２材料在陶瓷工业中的用途。指出一种新的潜在的陶瓷材料是基于ＺｒＯ２－Ａｌ２Ｏ３系统     

超细ZrO_2中锆的测定

根据经高温灼烧制得的超细氧化锆的性质,作者经研究试验,以NaOH固体作熔剂,在银坩埚中熔化分解,水浸取、酸化、微热即得澄清的试样溶液,可用EDTA配位滴定法准确测定锆含量。从而发现了一种新的分解ZrO_2的方法。该方法稳定可靠,易掌握。     

ZrO_2增韧Al_2O_3－硼化物陶瓷性能研究

本文对原料配方研制的ＺｒＯ_２增韧Ａｌ_２Ｏ_３－硼化物陶瓷进行性能测试，并进行分析研究，得出了该陶瓷所具有的性能结论。     

ZrO_2纤维-ZrO_2微粉-Si_3N_4基陶瓷复合材料的研究

采用高速搅拌、超声分散的湿法混合工艺制备出无规则取向ZrO2短纤维热压Si3N1陶瓷复合材料。对复合材料的强度及韧性进行了研究，采用TEM技术对材料的微观结构进行了分析。     

ZrO_2-CaO-BN复合材料的研制

对目前使用的浸入式水口进行了分析。分析了ＺｒＯ２ＣａＯＢＮ 复合材料的热力学可行性。用热压烧结合成该复合材料。用ＸＲＤ 对其作了相分析,结果与热力学分析一致。     

四方ZrO_2的X射线衍射鉴定特征及定量分析中的几个问题

单斜ＺｒＯ２中加入不同的稳定剂如ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＣｅＯ、ＣａＯ等，经过一定的工艺处理能转化成室温下存在的四方ＺｒＯ２。由于各种稳定剂的质量吸收系数不同，对Ｘ射线定量分析结果带来一定的差异。本文探讨了常用的几种稳定剂如ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＣａＯ对定量分析的影响；并应用经验公式和标准曲线、外标法三种定量方法进行比较；并指出稳定剂不同、工艺条件不同、定量方法上也应有所选择，否则会给定量分析带来较大误差。     

SiO_2和ZrO_2晶型对钒-硅酸锆生成的影响

利用预烧法研究了不同ＳｉＯ２和ＺｒＯ２晶型对钒—硅酸锆生成的影响,样品用ＸＲＤ进行了表征并根据衍射峰强度估算了硅酸错的生成份数。结果发现方石英具有较强的反应能力,有促进反应生成硅酸锆的作用。由本次实验结果无法比较不同ＺｒＯ２晶型的反应能力。     

Sn－Ni－ZrO_2复合电镀的研究

以Ｓｎ－Ｎｉ合金电镀为基础，复合ＺｒＯ_２微粒，从而使Ｓｎ－Ｎｉ合金镀层的耐磨、机械强度性能大幅度提高。研究了复合电镀工艺最佳条件和影响镀层因素，并在理论上进行探讨。还通过ｘ衍射手段，证明在Ｓｎ－Ｎｉ合金镀层中引入ＺｒＯ_２微粒，不会改变镀层的结构。     

氟锆酸铵中ZrO_2的快速测定

研究了在ＨＮＯ３介质中ＥＤＴＡ快速测定氟锆酸铵中ＺｒＯ２的方法。对于高纯样品采用返滴定法测定,对于含有杂质的样品采用直接滴定法。上述方法所测结果与重量法结果相近,方法简单、快速。     

ZrO_2溅射膜的柱状生长机制

气相沉积ZrO2 膜常为柱状结构 ,要更好地控制ZrO2 膜性能 ,需要研究ZrO2 膜中柱状结构的形成和演化规律 .在射频溅射条件下沉积了ZrO2 膜 ,发现该膜的柱状晶具有 { 111}面织构 ,其底层可能还有等轴晶 .提出以下柱状晶形成机制 :在光滑 (玻璃 )基片上形成的柱状晶源自于在基片表面形成的具有 { 111}面织构的最初晶核 ;在较为粗糙 (多晶Al2 O3)基片表面上形成的柱状晶源自于〈111〉晶向与沉积物质流方向一致的晶核择优生长及随后对其它取向的小晶核的吞噬而形成的晶核群 .基片表面粗糙时 ,由于柱状晶核经过晶核筛选产生 ,柱状晶底部可能有等轴晶层 ;若温度较低 ,出现等轴晶层可能性更大     

ZrO2—Y2O3ZrO2—MgO赝二元系相平衡的研究

用双亚点阵模型处理了ZrO_2-Y_2O_3、ZrO_2-MgO系统中的体心立方ZrO_2基固溶体相。用正态分布函数和样条函数相结合的方法,由部分相图数据优化了上述赝二元系中各相的相互作用参数,并用优化的相互作用参数及本工作估计的各氧化物的点阵稳定性参数计算了上述赝二元系相图。此外,还用DTA和X射线衍射方法测定了赝二元系在1300℃以下的固态相关系。计算结果与实验结果符合。     

BET理论在ZrO2粉体微观表征中的应用

采用催化化学领域常用的固体BET比表面分析，结合电镜、颗粒分析等手段，对不同ZrO2粉体的晶粒大小、形貌、团聚状况及烧结性进行了分析和探讨，并从N2吸附、脱附的各种曲线来表现其微观形态。     

低压条件下纳米氧化锆的水热结晶合成

本文采用水热结晶法研究了在较低压力下纳米氧化锆粉体的制备和性质。制备出了结晶完整、分散性良好、粒度约为十几纳米的超细氧化锆粉体。用XRD、TEM等测试方法对晶相组成、晶粒粒度、晶貌特征等与水热结晶温度及保温时间的关系进行了研究。并对单斜相氧化锆和四方相氧化锆的晶粒形成过程进行了讨论。     

助烧剂Y2O3对ZrO2（Y—TZP）—Si3N4系统中ZrO2相组成的影响

本文研究了助烧剂Ｙ２Ｏ３对ＧＰＳＺｒＯ２（３ｍｏｌ％Ｙ－ＴＺＰ）－Ｓｉ３Ｎ４系统中ＺｒＯ２相结构的影响。研究结果表明：ＺｒＯ２（Ｙ－ＴＺＰ）－Ｓｉ３Ｎ４系统中不添加Ｙ２Ｏ３助烧剂,ＺｒＯ２相组成主要以ｍ－ＺｒＯ２形式存在,并有少量氮稳定ＺｒＯ２;ＺｒＯ２（Ｙ－ＴＺＰ）－Ｓｉ３Ｎ４系统中添加５ｗｔ％Ｙ２Ｏ３助烧剂,ＺｒＯ２相组成为ｃ－ＺｒＯ２、不能相变的过稳定ｔ－ＺｒＯ２。     

晶粒度对ZrO2薄膜相结构的影响

ＺｒＯ２薄膜由射频反应溅射法生成。靶材为高纯Ｚｒ。利用透射电镜与背散射分析研究了薄膜的微观结构、相和化学剂量比与溅射氧分压和基片温度之间的关系。当薄膜在不同的条件下沉积时，获得不同晶粒度的三个相－非晶相、立方相和单斜相。Ｏ／Ｚｒ比对相结构几乎没影响。