硝酸钠在Zn—SiO2高速电镀中的作用

实验采用循环电镀装置及硫酸盐体系，在镀液ＰＨ值和温度、镀液流速和阴极电流密度保持一的条件下，研究硝酸钠对ＺｎＳｉＯ２复合电镀的作用。在我们的实验范围内，当镀液中硝酸钠浓度超过０．５ｇ／Ｌ时，镀层ＳｉＯ２含量随它的增加而上升，相应复合镀层的颜色由灰色逐渐变为黑灰色。在高速电镀条件下，ＮａＮＯ３能提高ＳｉＯ２共析度。     

Zn-SiO2复合镀中氢的侵入及镀后逸出行为

对酸性硫酸盐体系Ｚｎ－ＳｉＯ２复合镀过程中氢侵入基体,在镀层中的包容及放置过程中基体内氢的逸出行为研究表明：Ｚｎ－ＳｉＯ２复合镀层比纯锌镀层包容的氢多,氢的渗透也更容易;随镀层中ＳｕＩ２含量的增加,镀样氢含量也增加,而基体中的氢含量在镀层中ＳｉＯ２达到一定量后便趋于稳定;由于氢在Ｚｎ－ＳｉＯ２镀层中容易迁移,经相同放置时间后,Ｚｎ－ＳｉＯ２复合镀样基体氢含量低于纯锌镀样。缺口试样恒应变速率拉伸实验     

Zn－Al_2O_3和Zn－SiO_2复合镀层的研制

详细叙述了Ｚｎ－Ａｌ２Ｏ３和Ｚｎ－ＳｉＯ２复合镀层的制做方法，提出了复合镀液中所用微粒子和净化处理方法。对复合镀层的耐腐蚀性和结合力进行了测定，得出了耐腐蚀性和结合力均较好的Ｚｎ－Ａｌ２Ｏ３和Ｚｎ－ＳｉＯ２复合镀层中粒子的含量范围等有用的数据。     

Zn—Al2O3和Zn—SiO2复合镀层的研制

详细叙述了Ｚｎ－Ａｌ２Ｏ３和Ｚｎ－ＳｉＯ２复合镀层的制做方法，提出了复合镀液中所用微粒子和净化处理方法。对复合镀层的耐腐蚀性和结合力进行了测定，得出了耐腐蚀性和结合力均较好的Ｚｎ－Ａｌ２Ｏ３和Ｚｎ－ＳｉＯ２复合镀层中粒子的含量范围等有用的数据。     

电镀Ni—S合金的析出过程及非晶态结构的形成

研究了在含有硫代硫酸钠（Ｎａ２ＳＯ３）的镀液中电镀Ｎｉ－Ｓ非昌态合金的条件。结果表明，Ｎｉ－Ｓ合金镀膜随着电流密度，镀液中Ｎａ２Ｓ２Ｏ３的含量，镀液ＰＨ值的变化而变化，但镀膜结构则由镀膜中硫含量所决定。根据Ｘ射线衍射分析，含硫量为１５－３０ａｔ％的镀层具有非晶态结构，此外还对Ｎｉ－Ｓ合金镀膜的形成过程及电镀条件与镀膜形成的关系进行了研究。     

电镀Ni－S合金的析出过程及非晶态结构的形成

研究了在含有硫代硫酸钠（Ｎａ２Ｓ２Ｏ３）的镀液中电镀Ｎｉ－Ｓ非晶态合金的条件。结果表明，Ｎｉ－Ｓ合金镀膜的成分随着电流密度、镀液中Ｎａ２Ｓ２Ｏ３的含量、镀液ｐＨ值的变化而变化，但镀膜结构则由镀膜中硫含量所决定。根据Ｘ射线衍射分析，含硫量为１５－３０ａｔ％的镀层具有非晶态结构。此外还对Ｎｉ－Ｓ合金镀膜的形成过程及电镀条件与镀膜形成的关系进行了研究。     

高电流密度下Zn－Ni合金电镀工艺

在１０～３０Ａ／ｄｍ~２电流密度范围内对硫酸盐体系锌－镍合金电沉积的规律进行了研究，确定了准动态锌－镍合金电镀工艺。锌－镍合金电沉积是异常共沉积。［ＮｉＳＯ＿４·６Ｈ＿２Ｏ］／［ＮｉＳＯ＿４·６Ｈ＿２Ｏ十ＺｎＳＯ＿４·７Ｈ＿２Ｏ］浓度比增加使镀层中镍含量增大；电流密度增加使镀层中镍含量下降。准动态锌－镍合金电镀工艺阴极电流效率为９５％，电沉积速度为３８ｇ／ｍ￣２·ｍｉｎ；镀得的镀层外观为青白色带有金属光泽的良好镀层，组织细密，镍含量１１％～１３％，属于单一γ相结构；镀层结合力合格，耐蚀性是镀锌层的４．５倍。     

用选择性螯合滴定法测定铋

用ＢＡＬ（２，３－二巯基丙醇）作释放剂，以选择性螯合滴定法测定镀层和镀液中的铋。用ＥＤＴＡ螯合Ｂｉ＾３＋和其他阳离子后，加入ＢＡＬ分解Ｂｉ－ＥＤＴＡ螯合物，释放出的ＥＤＴＡ用Ｚｎ＾２＋标准溶液返滴定。实验表明，各种阳离子都不干扰测定。该法已成功地用于锡铋铈合金镀层和镀液中的铋含量的测定。     

锌镍合金镀层盐雾腐蚀行为的研究

研究了锌镍合金电层的盐雾腐蚀行为，结果表明，１２％－１６％Ｎｉ镀层不仅５％红锈出现时间长，红锈扩展慢，而出现腐蚀增重。ＳＥＭ、ＥＰＭＡ、ＡＥＳ和ＸＲＤ分析表明，锌镍合镀层的高耐蚀性和腐蚀增重与生成粘附力强、绝缘性好的腐蚀产物ＺｎＣｌ２．４Ｚｎ（ＯＨ）２和２ＺｎＣＯ３．３Ｚｎ（ＯＨ）２有关，腐蚀产物还密积堵塞了镀层在腐蚀过程生成的大量微裂纹。     

复合电沉积Ni－W－Al_2O_3工艺

研究了共沉积Ｎｉ－Ｗ－Ａｌ２Ｏ３复合镀层工艺，讨论了镀液中Ａｌ２Ｏ３微粒悬浮量、电镀温度、阴极电流密度及搅拌速度对镀层中Ａｌ２Ｏ３含量的影响。结果表明，选择适当的工艺参数，可以获得粒子分布均匀的Ｎｉ－Ｗ－Ａｌ２Ｏ３耐磨复合镀层。     

复合电沉积Ni—W—Al2O3工艺

研究了共沉积Ｎｉ－Ｗ－Ａｌ２Ｏ３复合镀层工艺，讨论了镀液中Ａｌ２Ｏ３微粒悬浮量，电镀温度、阴极电流密度及搅速度对镀层中Ａｌ２Ｏ３含量的影响。结果表明，选择适当的工艺参数，可以获得粒子分布均匀的Ｎｉ－Ｗ－ｌ２Ｏ３耐磨复合镀层。     

高电流密度下Zn—Ni合金电镀工艺

在１０～３０Ａ／ｄｍ＾２电流密度范围内对硫酸盐体系锌－镍合金电沉积的规律进行了研究，确定了准动态锌－镍合金电镀工艺。锌－镍合金电沉积是异常共沉积。［ＮｉＳＯ４·６Ｈ２Ｏ］／［ＮｉＳＯ４·６Ｈ２Ｏ＋ＺｎＳＯ４·７Ｈ２Ｏ］浓度比增加使镀层中镍含量增大；电流密度增加使镀层中镍含量下降。准动态锌－镍合金电镀工艺阴极电流效率为９５％，电沉积速度为３８ｇ／ｍ＾２·ｍｉｎ；镀得的镀层外观为青白色带有金属光泽的良     

电镀枪黑色锡镍合金

研究了电镀枪黑色锡镍事金ＸＳＮ焦磷酸盐镀液的性能，结果表明，控制液中ＳｎＣｌ２．２Ｈ２Ｏ／ＮｉＣｌ２．６Ｈ２Ｏ浓度比。可获得不同色调和光亮范围的镀层。在电沉积过程中，ＸＳＮ－２对Ｎｉ起极化作用，对Ｓｎ起去极化作用，使Ｓｎ和Ｎｉ的沉积电位接近，易于沉积高Ｓｎ含量的Ｓｎ－Ｘｉ合金。沉积速度主要取决于镀液中Ｓｎ和Ｎｉ金属离子的总浓度，适当增加金属离子总浓度。有利于提高沉积速度。     

化学复合镀Ni—P—Si3N4工艺及其性能研究

通过对化学复合镀Ｎｉ－Ｐ－Ｓｉ３Ｎ４粒子共析量以及镀液稳定性等的研究，获得了制取含Ｓｉ３Ｎ４粒子量高且镀液稳定性好的工艺方法，并讨论了化学复合镀Ｎｉ－Ｐ－Ｓｉ３Ｎ５镀层的耐蚀性能和表面结构。     

表面活性剂对Ni-P-SiC化学复合镀层性能的影响

采用化学复合镀技术制备Ｎｉ－Ｐ－ＳｉＣ复合镀层,研究了３种表面活性剂对镀层的硬度及耐磨性能的影响。结果表明：采用阳离子表面活性剂与非离子表面活性剂进行复配,所得镀层性能优于单独使用一种表面活性剂;复合镀层的磷含量大于８％,属非晶态结构,ＳｉＣ含量达４％,硬度达９００ＨＶ,耐磨性为电镀纯镍的５～６倍。     

化学镀Ni—P—PTFE复合镀层沉积工艺研究

对化学镀Ｎｉ－Ｐ－ＰＴＦＥ复合镀层工艺进行了较全面的研究。详细测定和评述了表面活性剂浓度，ＰＴＦＥ浓度与镀层中ＰＴＦＥ粒子含量及镀速的关系，以及基础镀液性质和操作条件对复合镀的影响。提出了一种具有实用价值的化学镀Ｎｉ－Ｐ－ＰＴＦＥ复合镀层工艺技术。镀液稳定，镀层质量优良，镀层中ＰＴＦＥ含量达２５￣３０ｖｏｌ％。     

Ni／ZrO2复合镀层电沉积行为与耐高温氧化性能的研究

通过电化学试验,高温氧化试验、扫描电镜及Ｘ－射线衍射,研究了电沉ｉ／ＺｒＯ２复合镀层的电化学行为和添加微粒对镍镀层高温抗氧化性能和组织结构的影响,研究结果表,在瓦特镀液中加入ＺｒＯ２微粒使电镀时阴极电流密度明显降低,阴极电位与时间、阴极电流对时间的关系曲线趋势不大,但Ｉ－ｔ曲线抖动和加快;高温氧化试验结果表明,ＺｒＯ２微可以使复合镀层的高温抗氧化能力明显提高;Ｎｉ／ＺｒＯ２复合镀层与瓦特镍镀层的高     

α－Al_2O_3／Cu复合电沉积工艺的研究

研究了新的复合材料制备技术──复合电沉积法制备α－Ａｌ＿２Ｏ＿３／Ｃｕ颗粒复合材料的工艺。对镀液成分、镀液中Ａｌ＿２Ｏ＿３含量、添加剂、搅拌速度、搅拌方式和施镀时间等工艺因素进行了摸索，并在此基础上研究了不同共沉积条件对复合镀层中α－Ａｌ＿２Ｏ＿３含量的影响。为获得具有较高体积份数的Ａｌ＿２Ｏ＿３增强铜基复合材料提供理论和实验依据。     

电沉积锌—磷合金阴极行为的研究

用线性电势扫描法和镀层组分的分光光度分析法研究了电沉积Ｚｎ－Ｎｉ－Ｐ合金时的阴极行为及镀层各组分百分含量的变化。实验结果表明：在Ｚｎ－Ｐ合金镀液中引入Ｎｉ＾２＋之后催化了磷的析出，在实验范围内，其催化作用是随着镀液中Ｎｉ＾２＋浓度的增加而增加，本讨论了Ｎｉ＾２＋催化磷析出的可能途径。     

电沉积Ni-Mo-P-SiC复合镀层

采用适宜的镀液组成和工艺条件,能够得到黑色、反光率低的Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ－ＳｉＣ复合镀层。用ＥＤＡＸ测试镀层的化学成分,检测了镀层与基体的结合力、镀层的耐蚀性。结果表明：复合镀层具有较好的耐蚀性和较高的结合力。