激光直写系统中的对准技术应用研究

基于ＩＳＩ－２８０２型激光直写系统原有基片的多图形对准方法，针对衍射光学元件（ＤＯＥ）图形的特点，通过设计合理的对准标记、修改对准识别文件和实验，产生了一套适于ＤＯＥ图形套刻的对准方案。其对准误差小，达到了系统规定指标。并实验研制出了１６位相台阶的ＤＯＥ，取得了良好的效果。     

激光直写系统图形编辑软件

简要描述了一套针对激光直写系统，适用于衍射光学元件和精密码盘及其它图形的图形辅助编辑软件——ＭＡＳＫ软件，简单介绍了其功能和结构。     

ISI-2802激光直写系统简介

ＩＳＩ┐２８０２激光直写系统简介微细加工光学技术国家重点实验室于１９９６年从加拿大引进了国内第一台激光直写系统（又称激光图形发生器），型号为ＩＳＩ－２８０２，生产厂家是ＩｎｔｅｒｔｅｃｈＳｙｓｔｅｍｓＩｎｃ．。１系统主要性能（１）可写范围：１５０ｍｍ...     

全数字化激光直写转台系统

为提高极坐标激光直写设备的性能,设计成全数字化的转台系统,增强了与平台、调焦、 光强系统的同步。提出数字锁相积分、可编程PID控制及变周期稳速判据等概念,并应用于转台控制器设计。配合改进的快速光强调制系统,使极坐标激光直写设备具备制作精确环、任意弧和变宽线条的能力。     

激光直写光刻工艺技术研究

研究了利用激光直写技术制作微细图形的工艺方法，应用ＩＳＩ－２８０２型激光直写系统，通过实验，分析了激光曝光机理以及提高实用分辨力的途径。得到了激光直写系统参数与处理工艺参数之间的匹配关系，实验数据对研究制作各种掩模版、衍射光学元件以及ＡＳＩＣ电路都有应用价值。     

用于激光直写灰度掩模的二元金属薄膜的制备及光学性质

利用磁控溅射方法制备了Zn／Al二元金属薄膜,得出了制备Zn／Al二元金属薄膜的工艺参数。论述了其在激光直写灰度掩模中的应用。     

校正激光直写邻近效应的快速方法

针对激光直写中的邻近效应的特点，提出通过直写曝光数据补偿进行光学邻近效应校正的快速，有效方法，并获得了满意的实验结果。     

飞秒激光直写加工SERS基底及其应用

表面增强拉曼光谱(Surface-enhanced Raman spectroscopy,SERS)是一种高灵敏度、高分辨率的分子识别技术,在多个领域具有非常重要的应用价值。飞秒激光直写作为一种新兴的低成本、高分辨率、高灵活性的微纳加工方法,在制备SERS基底领域得到了广泛的应用。本文重点概述了四种飞秒激光直写制备SERS基底的加工方法,主要包括飞秒激光双光子还原、飞秒激光切割金属、飞秒激光切割-溅射、飞秒激光3D打印。文章简单介绍了各方法制备SERS基底的性能与应用场景,阐述了飞秒激光直写加工在制备SERS基底中的优势,旨在为今后相关研究提供参考。     

消除激光直写系统中声光调制器迟滞现象的方法

激光直写是一种适用于衍射光学器件及掩模加工的方法。利用声光调制器对曝光功率进行精确控制对所制作器件的性能是至关重要的。首先描述了声光调制器的迟滞现象及其对曝光后掩模面图开的不良影响。基于这一分析,提出了一种方法来克服声光调制器迟滞现象所带来的问题。简述了此项技术的设计原理和实现。实际制作的掩模样品图案显示了所述方法的有效性。     

墨水直写、喷墨打印和激光直写技术及其在微电子器件中的应用

直写技术是一种新型微加工技术,其加工过程不需模板并可在亚微米至厘米范围实现材料加工成型。墨水直写、喷墨打印和激光直写作为最常用的直写技术,具有强大的二维、三维成型能力和优异的成型精度,可实现金属、陶瓷、聚合物、水凝胶等复杂构型的程序化构筑,被广泛应用于微电子、组织工程、微流控等领域。阐述了这3种直写技术的构型原理和材料选择,重点介绍了其在微电子器件制造中的应用,讨论了当前研究的难点和热点问题,并对其未来发展趋势进行了展望。     

声光调制器模型辨识及光功率控制系统设计

保证激光直写系统中曝光光功率的稳定和连续可调对所制作的二元器件的性能具有重要意义。利用MABLAB工具对声光调制器的数学模型进行辨识，得到声光调制器的传递函数。并借助于MABLAB的SIMULINK工具箱，设计出控制系统的仿真模型，得到实用的控制系统。实验结果表明AR模型很好地反映了声光调制器的特性，所设计的控制系统响应速度快，控制精度高。     

亚微米i线投影曝光机三维精密定位工件台控制系统研究

主要介绍一种采用双单片机控制的三维精密工件台快速超精定位系统的工作原理及结构组成，并对系统进行理论和实验分析。为了实现高精度的快速定位，本系统采用了独立伺服控制技术以及变结构的ＰＩＤ自适应控制算法，使定位精度达到±０．０８μｍ（３σ）     

二元光学二维激光扫描器设计

提出一种新型的二元光学二维纯位相型激光扫描器。首先利用计算全息图ＣＧＨ的设计方法设计出扫描器的初始结构参数，最后把其看成衍射光学元件（ＤＯＥ）对其进行成象质量优化。设计出一电视制式的二维扫描器，其扫描范围为±１２．５°×（±１０°）（水平×垂直），光斑尺寸约１ｍｒａｄ。     

近场直写静电纺丝电场仿真与路径规划分析

目的由于在静电纺丝过程中射流的鞭动现象会严重影响纺丝的质量,无法实现图案的精准化沉积和高分辨率的喷墨打印,需要探究减小射流鞭动现象的方法。方法首先采用COMSOL Multiphysics多物理耦合场有限元仿真软件,对纺丝过程中有无添加辅助电极情况下的电场场强大小和分布进行模拟分析,随后通过实验进行对比验证,并根据结果设计一套适用于近场直写微纳喷印的纤维薄膜打印数控系统,实现纳米纤维的重复沉积,进行纤维薄膜的打印。结果实验采用质量分数为8%的聚氧化乙烯(PEO)溶液作为纺丝溶液,注射器及喷丝针头容量为2.5 m L,针头外径为0.6 mm,长度为12 mm,注射泵流量设置为0.5?L/min,2台高压电源设置的电压均为1.01 k V。实验结果表明,未添加辅助电极时,纤维容易出现卷曲,而添加辅助电极后,纤维细直不卷曲。结论利用平行辅助电极将工作电场集中在所需范围内,使电场尽可能实现垂直地从喷丝针头到接收基板,能有效减小纺丝射流的鞭动现象给稳定沉积带来的不良影响,可实现聚合物溶液高分辨率的喷墨印刷,能够实现图案的精准化沉积。     

二元光学元件激光直写设备主轴速度调节的一种新方法

介绍了二元光学元件激光直写设备的精密伺服控制系统,分析了主轴伺服系统的结构与控制系统的性能要求,在二元光学元件激光直写设备中,主轴速度调节效果的好坏是决定刻划效率与精度的关键因素之一,本文提出了利用离焦信号的特点,判断出离焦信号的极值点,并计算相邻极值点之间的时间间隔,最终估算出离焦信号频带,并依据离焦信号的频带自动调节主轴速度的新方法。采用此方法可极大地提高刻划效率。