PI吸潮对LCD功耗电流的影响

从实验出发，分析并研究了国产ＫＰＩ－３００和日本ＮＩＳＳＡＮＰＩＳＥ－２１７０在生产使用过程中驱动与由于停留和摩擦后清洗造成的ＰＩ不对ＬＣＤ功耗电流的影响，并提出了消除这些影响的方法。     

高强度激光对光学薄膜的破坏

在薄膜破坏中起主要作用的是个别的脉冲尖峰。分析了薄膜结构对薄膜受破坏的影响,以及SiO_2保护膜在提高ZrO_2/SiO_2膜的抗激光强度中的作用。     

准分子激光对光学薄膜的损伤

本文报道了XeCl准分子激光对光学薄膜的损伤阈值、损伤形貌和多脉冲激光的损伤。研究了激光预辐照处理对薄膜损伤的影响。     

重复率激光对光学薄膜的破坏

实验研究了在不同波长、不同脉宽激光作用下，光学薄膜破坏的重复率效应并结合理论分析和在破坏过程中的光热监测，探讨了光学薄膜累积破坏的机理。     

光学薄膜的特性

本文讨论介质薄膜的各种特性,计有折射率、吸收率、光的散射、结构、微观结构、密度、气体吸收、化学组分、均匀性、附着性、硬度、机械应力及环境影响。     

光学薄膜的监控

在淀积薄膜过程中,为了镀制出合乎要求的膜层,要对光学薄膜参数加以测量和控制。监控技术通常都是把薄膜的厚度当做最重要的参数。本文简要评述目前流行的各种监控原理并对比了它们的优缺点。结果表明:这些方法很少能够对付折射率的误差,它不象对付厚度误差那样简单,要想严格地控制膜层材料参数,必须充分利用目前监控方法中的最新成就。     

光学薄膜技术在反激光致盲中的作用

激光致盲技术日益发展,反激光致盲的研究工作必须充分重视。本文主要讨论光学薄膜技术在抗激光致盲中的作用,并从分析薄膜激光损伤机理角度,提出几点提高光学薄膜的抗激光加固的建议。     

光学薄膜的损耗

对光学薄膜的表面散射、体散射和吸收这三个损耗因素进行系统的分析和计算,并在它们都存在的条件下,计算了光学薄膜的反射率、透过率和损耗率.由于计算程序考虑了各种因素对光学薄膜的影响,所以计算模型和计算方法比一般的方法有更多的普遍性.文中给出11层ZnS/MgF_2反射膜和21层TiO_2/SiO_2反射膜的计算结果.     

强激光对光学薄膜的损伤机理

以光学薄膜在强激光照射下损伤机理的研究为目的，从实验和理论结构探讨了影响损伤阈值的因素及薄膜的损伤机理，从而提出了如何选择高阈值的薄膜的建议。     

光学薄膜结构对薄膜性质的影响

本文想从薄膜的几个物理特性出发,旨在说明光学薄膜的稳定性和可靠性。填充密度 1970年有人用横断面电子显微技术揭开了多层膜内部结构的秘密,这对薄膜研究是个重大突破。现已知道,常规热蒸发的光学薄膜几乎都以柱状结构生长,柱体半径一般为10～30微米。这种结构的实质是柱体之间存在善空隙。填充密度P就是用来表征膜中空隙的程度或膜层密度的物理量,它定义为     

532nm激光对光学薄膜的损伤

本文报导了532nm激光对光学薄膜的激光损伤和多脉冲损伤的积累效应,研究了激光预辐照对光学薄膜损伤阈值的影响.     

重复率脉冲激光作用下光学薄膜的激光损伤研究

利用介质薄膜中包裹物的热理论模型,结合S.Papernov等利用电子束蒸发技术在熔融石英上沉积含Au包裹物的HfO2薄膜实验,定出了Au的吸收截面.以包裹物Au为例计算了脉冲激光作用下不同包裹物半径对损伤阈值的影响,分析了重复率脉冲激光作用下薄膜损伤阚值的变化及重复频率与激光损伤阈值的关系.     

光学薄膜的微观结构

光学薄膜的微观结构是具有很大内表面积和空隙体积的明显的柱状体结构。这种结构对膜层的光学和机械性能有很大影响,并导致光学涂层在制备过程及其以后的特性难以控制。本文评述了微观结构及其对膜层性质的影响,对微观结构起因提出了新的见解。     

光学薄膜的各向异性折射率

本文从光学薄膜的实际结构出发,根据电磁场理论,给出了光学薄膜折射率与光线传播方向的关系。     

光学薄膜的吸水现象

引言和理论蒸镀膜的光学特性受吸水影响很大,吸水量的多少影响到薄膜动态性能。有关测量真空室进气前后光学特性变化的报告很多,其中都用填充密度作为说明这种动态影响的一个参数。研究表明,如MgF_2和ZnS及Na_3AIF_6这些材料的单层膜,具有柱状和气孔(由底层到上表面)组成的结构。但是,特别是在光学多层膜的情况下,如对ZnS和MgF_2或Na_3AIF_6制的窄带滤光片来说,填充密度并不能完全说明其特性。在此主要就内表面面积和气孔大小的分布,     

光学薄膜的各向异性折射率

本文从光学薄膜的实际结构出发,根据电磁场理论,给出了光学薄膜折射率与光线传播方向的关系。文中计算了不同填充密度下的高低折射率薄膜的各向异性折射率,对结果进行了分析和讨论     

光学薄膜研究的评述

现在,薄膜状光学材料性能一般都比块状材料要差,光学薄膜的主要问题就在这里。本文将概述使薄膜不同于通常块状材料的一些基本特性。我们仅限于讨论真空蒸发的薄膜和包括对这种基本工艺过程的改进的一些评论。     

光学薄膜的市场动向

美国光学镀膜实验室公司（OCLI)生产真空沉积光学薄膜，自称是世界上同行中最大的公司。但在去年10月31日截止的财年中其总收入下降27%，说明这种膜层行情已陷入困境。