菲涅尔衍射光刻 |
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引用本文: | 蒋忠君,何伟,陈经纬,罗丹洋,杨帆,蒋凯,王亮.菲涅尔衍射光刻[J].物理学报,2023(1):134-141. |
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作者姓名: | 蒋忠君 何伟 陈经纬 罗丹洋 杨帆 蒋凯 王亮 |
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作者单位: | 中国科学技术大学物理学院光学与光学工程系 |
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基金项目: | 安徽省重点研究与开发计划(批准号:202004A05020077)资助的课题~~; |
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摘 要: | 通过合理选取等间距采样点的数目,利用快速傅里叶变换算法解释了有限通光光阑产生的“内密外疏”菲涅尔衍射条纹.基于菲涅尔衍射,在静态曝光、动态扫描条件下分别实现了约190 nm最小特征尺寸图形制备,以及约350 nm线宽线条直写.菲涅尔衍射光刻无需复杂的光学透镜组合,无需任何微纳衍射光学元件,且具有较大的聚焦容差.该方法有望成为一种新型的,低成本、高灵活度的亚波长图形制备手段.
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关 键 词: | 菲涅尔衍射 扩束系统 纳米光刻 直写光刻 |
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