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菲涅尔衍射光刻
引用本文:蒋忠君,何伟,陈经纬,罗丹洋,杨帆,蒋凯,王亮.菲涅尔衍射光刻[J].物理学报,2023(1):134-141.
作者姓名:蒋忠君  何伟  陈经纬  罗丹洋  杨帆  蒋凯  王亮
作者单位:中国科学技术大学物理学院光学与光学工程系
基金项目:安徽省重点研究与开发计划(批准号:202004A05020077)资助的课题~~;
摘    要:通过合理选取等间距采样点的数目,利用快速傅里叶变换算法解释了有限通光光阑产生的“内密外疏”菲涅尔衍射条纹.基于菲涅尔衍射,在静态曝光、动态扫描条件下分别实现了约190 nm最小特征尺寸图形制备,以及约350 nm线宽线条直写.菲涅尔衍射光刻无需复杂的光学透镜组合,无需任何微纳衍射光学元件,且具有较大的聚焦容差.该方法有望成为一种新型的,低成本、高灵活度的亚波长图形制备手段.

关 键 词:菲涅尔衍射  扩束系统  纳米光刻  直写光刻
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