首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
     

导模法生长高质量氧化镓单晶的研究
引用本文:贾志泰,穆文祥,尹延如,张健,陶绪堂.导模法生长高质量氧化镓单晶的研究[J].人工晶体学报,2017,46(2):193-196.
作者姓名:贾志泰  穆文祥  尹延如  张健  陶绪堂
作者单位:山东大学晶体材料国家重点实验室,济南250100;中山大学光电材料与技术国家重点实验室,广州510275;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100
基金项目:山东大学青年学者未来计划(2015WLJH36),光电材料与技术国家重点实验室开放课题(OEMT-2015-KF-06)
摘    要:使用导模法生长了宽度25 mm,长度100 mm的氧化镓(β-Ga2O3)单晶.晶体外观完整、无色、无开裂,粉末XRD测试证明所获得的晶体为β相,晶体摇摆曲线半峰宽为93.6",峰形对称,说明晶体质量良好.测试了未掺杂晶体的紫外透过光谱,并推算了晶体的禁带宽度为4.77 eV.此外,还重点讨论了晶体放肩时的工艺参数对晶体质量的影响.

关 键 词:氧化镓单晶  导模法  禁带宽度  
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《人工晶体学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《人工晶体学报》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号