Co处理的γ-Fe_2O_3薄膜的界面研究 |
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引用本文: | 丁耀国,林彰达,齐上雪,王荫君,千静芳.Co处理的γ-Fe_2O_3薄膜的界面研究[J].物理学报,1987(12). |
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作者姓名: | 丁耀国 林彰达 齐上雪 王荫君 千静芳 |
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作者单位: | 中国科学院物理研究所
(丁耀国,林彰达,齐上雪,王荫君),电子工业部杭州磁记录设备开发中心(千静芳) |
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摘 要: | 本文中对CoO与Fe_2O_3的界面进行了研究,结果表明,简单的CoO-γ-Fe_2O_3界面对于磁性能基本无影响。分析表明,“复杂的扩散界面”不大可能象以往认为的那样是矫顽力增长的主要原因。矫顽力的增长可能是由掺Co造成的一种体效应而不是界面效应。
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