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| Ti/Al/Ti干法刻蚀工艺中BCl_3气体作用研究 | |
| 作者姓名： | 李淳东 李知勋 陈兵 刘杰 吴国特 苗占成 |
| 作者单位： | 重庆京东方显示技术有限公司 |
| 摘 要： | 随着显示技术的发展,Ti/Al/Ti材料需求的厚度越来越厚,布线越来越窄。目前LTPS显示技术中常规的设计为Ti/Al/Ti材料衬底使用无机膜,后续柔性OLED显示技术新设计中Ti/Al/Ti衬底开始逐渐使用有机膜(聚酰亚胺等),Ti/Al/Ti干法刻蚀工艺面临的挑战越来越大。本文主要研究在常规Ti/Al/Ti干法刻蚀工艺中,BCl_3气体对Ti/Al/Ti侧面形态的影响以及对光刻胶刻蚀速率的影响,实验结果表明:随着BCl_3气体流量的增加,Ti/Al/Ti侧面保护膜的厚度越来越薄,对PR胶的刻蚀速率越来越小。本文研究结果便于更好地应对后续Ti/Al/Ti干法刻蚀衬底为有机膜的新工艺。 |
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