| 高气压高功率条件下MPCVD法制备金刚石单晶 |
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| 引用本文： | 史玉芬,周学芹,李坤,刘小利.高气压高功率条件下MPCVD法制备金刚石单晶[J].人工晶体学报,2015,44(4):967-971. |
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| 作者姓名： | 史玉芬 周学芹 李坤 刘小利 |
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| 作者单位： | 常州大学材料科学与工程学院,常州213164;常州宝颐金刚石科技有限公司,常州213022;常州大学材料科学与工程学院,常州,213164;常州宝颐金刚石科技有限公司,常州,213022 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(51372044) |
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| 摘 要： | 利用自主研发的圆柱谐振腔式MPCVD设备,在工作气压28 kPa,微波功率5 kW的条件下成功制备金刚石单晶,并采用光学显微镜、激光拉曼谱(Raman)技术对样品进行表征.结果表明,在高气压高功率条件下单晶的沉积速率高达26 μm/h,且表面形貌平整.
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| 关 键 词： | 金刚石单晶 沉积速率 MPCVD |
Synthesis of Diamond Single Crystal by MPCVD at High Gas Pressure and High Microwave Power |
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| SHI Yu-fen,ZHOU Xue-qin,LI Kun,LIU Xiao-li.Synthesis of Diamond Single Crystal by MPCVD at High Gas Pressure and High Microwave Power[J].Journal of Synthetic Crystals,2015,44(4):967-971. |
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| Authors: | SHI Yu-fen ZHOU Xue-qin LI Kun LIU Xiao-li |
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