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| 原位漫反射红外光谱研究NO和NH3在CuO/γ-Al2O3催化剂上的吸附行为 | |
| 作者姓名： | 孙路石 赵清森 向军 石金明 王乐乐 胡松 苏胜 |
| 作者单位： | 华中科技大学煤燃烧国家重点实验室 |
| 摘 要： | 利用原位漫反射红外光谱法在线研究NH3和NO在CuO/γ-Al2O3催化剂表面吸附和氧化的反应过程。NH3不仅能被吸附在L酸位，也能被吸附在B酸位。NH3氧化脱氢形成NH2物种是反应的中间步骤。NO和NO2以多种形态吸附在催化剂表面。O2存在条件下有利于吸附的NO物种被氧化成高价的NO2。暂态实验中，吸附NH3饱和的催化剂载体通入NO和O2后，共价吸附的NH3首先消失，而NH+4没有参加反应。吸附NO饱和的催化剂载体通入NH3和O2后，吸附态NO特征峰基本没有变化。选择性催化还原反应发生在吸附态NH3和气态NO之间，吸附态的NO及其氧化生成的亚硝基和硝基物种不参与SCR反应。 |
| 关 键 词： | 原位漫反射红外光谱 选择性催化还原 CuO/γ-Al2O3 NH3 NO 吸附 |
| 收稿时间： | 2008-07-25 |
| 修稿时间： | 2008-10-29 |
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