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| 低温原子层沉积氧化铝作为有机电致发光器件的封装薄膜 | |
| 引用本文： | 杨永强,段羽,陈平,赵毅.低温原子层沉积氧化铝作为有机电致发光器件的封装薄膜[J].发光学报,2014,35(9):1087. |
| 作者姓名： | 杨永强 段羽 陈平 赵毅 |
| 作者单位： | 杨永强:集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区 吉林大学电子科学与工程学院, 吉林 长春130012 段羽:集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区 吉林大学电子科学与工程学院, 吉林 长春130012 陈平:集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区 吉林大学电子科学与工程学院, 吉林 长春130012 赵毅:集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区 吉林大学电子科学与工程学院, 吉林 长春130012 |
| 基金项目： | 科技部国际科技合作项目(2014DFG12390); 国家高技术研究发展计划(2011AA03A110); 国家重点基础研究发展计划(2010CB327701,2013CB834802); 国家自然科学基金(61275024,61274002,61275033,61377206, 41001302); 吉林省科技发展计划(20140101204JC, 20130206020GX, 20140520071JH); 长春市科技发展计划 (13GH02)资助项目 |
| 摘 要： | 为了克服传统的原子层深沉积反应温度高于有机材料的玻璃化温度对有机电致发光器件性能产生破坏的缺点,使用低温原子层沉积的方法沉积了Al2O3薄膜,成功地实现了对OLED的薄膜封装。实验中为了抑制环境温度对ALD薄膜均匀性的影响,增加了每个反应周期的抽气时间,从而可以充分地排出反应副产物,抑制了空位的形成,使得薄膜具有较高的均匀性和致密性。微观形貌分析、钙测试以及寿命测试表明,通过增加ALD的PGT,低温制备的薄膜与高温制备的薄膜的均匀性差别较小,且制备过程对OLED器件的光电性能无明显影响。低温制备的薄膜水汽透过率(WVTR)可以达到8.6×10-4g/(m2·d),能够有效地提高有机电致发光器件的寿命。 |
| 关 键 词： | 原子层沉积 薄膜均匀 低温 |
| 收稿时间： | 2014/2/21 |
Deposition of Al2O3 Film Using Atomic Layer Deposition Method at Low Temperature as Encapsulation Layer for OLEDs |
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| Abstract: | |
| Keywords: | atomic layer deposition film uniformity low temperature |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
