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用原子力显微镜4π旋转技术测量靶丸表面粗糙度
引用本文:高党忠,王明达.用原子力显微镜4π旋转技术测量靶丸表面粗糙度[J].强激光与粒子束,1999,11(3):321-324.
作者姓名:高党忠  王明达
作者单位:中国工程物理研究院核物理与化学研究所
基金项目:国家863惯性约束聚变领域资助课题
摘    要:原子力显微镜靶丸4π旋转装置,可以将靶丸在夹持状态下实现4π方向旋转,便于原子力显微镜对靶丸表面任一部分做扫描测量。应用该装置对各种靶丸的表面形貌进行了测量,测量结果表明,靶丸外表面粗糙度小于10nm,内表面粗糙度小于20nm。

关 键 词:原子力显微镜  靶丸4π旋转测量装置  ICF靶参数测量
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