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| 钨含量对磁控溅射铜钨合金薄膜结构和性能的影响 | |
| 引用本文： | 周铖,孙勇,彭明军,段永华,郭中正.钨含量对磁控溅射铜钨合金薄膜结构和性能的影响[J].机械工程材料,2011(4):20-24. |
| 作者姓名： | 周铖 孙勇 彭明军 段永华 郭中正 |
| 摘 要： | 用磁控溅射法制备铜钨合金薄膜,采用能谱仪、X射线衍射仪、透射和扫描电镜、电阻计和显微硬度仪等对合金薄膜的成分、结构和性能进行了表征,探讨了钨原子分数的影响.结果表明:含原子分数31.8%～54.8%钨的铜钨膜呈非晶态,表面较平整;含18%和60%钨的膜为晶态,且出现固溶度扩展,分别存在fcc Cu(W)亚稳过饱和固溶体... |
| 关 键 词： | 铜钨合金 薄膜 固溶度 电阻率 显微硬度 |
