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金属过渡层增强金刚石薄膜场发射性能的机理研究
引用本文:张宇,杨武霖,符立才,朱家俊,李德意,周灵平.金属过渡层增强金刚石薄膜场发射性能的机理研究[J].稀有金属材料与工程,2018,47(11):3433-3438.
作者姓名:张宇  杨武霖  符立才  朱家俊  李德意  周灵平
作者单位:湖南大学材料科学与工程学院,湖南大学材料科学与工程学院,湖南大学材料科学与工程学院,湖南大学材料科学与工程学院,湖南大学材料科学与工程学院,湖南大学材料科学与工程学院
基金项目:国家自然科学基金项目(51675169)
摘    要:以金属钛和钨为过渡层,采用PE-HFCVD法在硅基上制备金刚石薄膜,并对薄膜的场发射特性分析研究。结果表明,金属过渡层对金刚石薄膜场发射性能有显著的增强作用。以金属钨为过渡层时,金刚石薄膜的场发射开启场强为5.4 V/μm,比无过渡层降低了44%;场发射电流密度在电场强度为8.9 V/μm时达到1.48 mA/cm2。通过对薄膜的结构表征知,场发射性能的增强主要与界面处电子运输势垒的降低及薄膜中sp2 C含量的增加有关,在界面处及金刚石膜内形成良好的导电通道,使电子更容易运输至薄膜表面,从而表现出优异的场发射性能。

关 键 词:金属过渡层  金刚石薄膜  导电通道  场发射性能
收稿时间:2017/2/21 0:00:00
修稿时间:2017/5/19 0:00:00

Study on the Mechanism of Improving Field Emission Properties of Diamond Films by Metal Transition Layers
Zhang Yu,Yang Wulin,Fu Licai,Zhu Jiajun,Li Deyi and Zhou Lingping.Study on the Mechanism of Improving Field Emission Properties of Diamond Films by Metal Transition Layers[J].Rare Metal Materials and Engineering,2018,47(11):3433-3438.
Authors:Zhang Yu  Yang Wulin  Fu Licai  Zhu Jiajun  Li Deyi and Zhou Lingping
Affiliation:College of Materials Science and Engineering,Hunan University,College of Materials Science and Engineering,Hunan University,College of Materials Science and Engineering,Hunan University,College of Materials Science and Engineering,Hunan University,College of Materials Science and Engineering,Hunan University,College of Materials Science and Engineering,Hunan University
Abstract:
Keywords:metal transition layers  diamond films  conductive channels  electron field emission properties
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