粗金粉中金的氯浸-控制电位还原精炼 |
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作者姓名: | 郭晓亮 邓丰卓 吕超飞 王青丽 张恩华 董文龙 |
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作者单位: | 潼关中金冶炼有限责任公司,陕西 潼关 714399,中国矿业大学 材料与物理学院,江苏 徐州 221116,国投金城冶金有限责任公司 河南省难处理金精矿冶炼工程技术研究中心 三门峡市黄金冶炼过程研究重点实验室,河南 灵宝 472500 |
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摘 要: | 某冶炼厂氰化金泥还原得到的粗金产品纯度较低,采用氯浸-还原工艺对粗金进行了精炼提纯。在生产工艺中采用盐酸+氯酸钠对粗金进行氯浸溶解,用焦亚硫酸钠控制电位选择性还原浸出液中的金。采用补水-冷却使银和铅从氯浸液充分沉淀析出,通过调整pH值、改变焦亚硫酸钠添加方式、精确控制还原电位等方法,产品金锭达到IC-Au99.99标准。两年的生产实践创造了明显的经济效益。
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关 键 词: | 粗金 氯浸 还原 控制电位 焦亚硫酸钠 |
收稿时间: | 2021-05-30 |
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