| 过渡层对铜基金刚石薄膜的影响 |
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| 引用本文： | 田孟昆,余志明,刘学璋,葛婧萱,王 玲,黄 臣.过渡层对铜基金刚石薄膜的影响[J].中国表面工程,2011,24(4):19-24. |
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| 作者姓名： | 田孟昆 余志明 刘学璋 葛婧萱 王 玲 黄 臣 |
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| 作者单位： | 1. 中南大学材料科学与工程学院,长沙,410083
2. 金瑞新材料科技股份有限公司,长沙,410083 |
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| 摘 要： | 采用热丝化学气相沉积(HFCVD)在纯铜基体及4种不同的过渡层(Ti、Nb、Ni、W)上制备金刚石薄膜。利用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)、拉曼光谱仪(Raman)以及维氏硬度计对金刚石薄膜进行检测分析,研究了不同过渡层对金刚石薄膜形貌质量和附着性能的影响。结果表明,在纯铜基体以及多种过渡层上都能制备高纯度的金刚石薄膜;在形核率较高的基体上金刚石颗粒的尺寸较小,在Ni过渡层上金刚石颗粒的尺寸较大;金刚石薄膜在Ti过渡层上结合性能最好,但是非金刚石相最多。在Nb、W过渡层上的结合性能最差。
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| 关 键 词： | 金刚石薄膜 铜 过渡层 化学气相沉积 附着性能 |
Diamond Films Deposited on Copper With Different Interlayers |
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| TIAN Meng-kun,YU Zhi-ming,LIU Xue-zhang,GE Jing-xuan,WANG Ling,HUANG Chen.Diamond Films Deposited on Copper With Different Interlayers[J].China Surface Engineering,2011,24(4):19-24. |
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| Authors: | TIAN Meng-kun YU Zhi-ming LIU Xue-zhang GE Jing-xuan WANG Ling HUANG Chen |
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| Affiliation: | 1.School of Materials Science and Engineering,Central South University,Changsha 410083;2.Kingray New Materials Science & Technology Co,Ltd,Changsha 410083) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | diamond films copper interlayers chemical vapor deposition adhesion |
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