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| 离子束辅沉积技术 | |
| 引用本文： | 李文治.离子束辅沉积技术[J].中国表面工程,1991(3):10-16. |
| 作者姓名： | 李文治 |
| 摘 要： | 离子注入曾因在半导体产业中的巨大成功而名噪于世，但将此技术移植于一般材料(非半导体)的表面改性时却显得步履艰难。尽管早在l0年前，人们已经宣称离子注入使某些材料的耐磨损性提高了3～5倍，也使抗腐性能大为改观。但将实验研究的成果真正推广应用并转化为生产力者尚属少见。诚然，离子注入技术有许多独特的优点．例如，它所形成的材料改性层与基体材料完全溶于一体因而不存在界面；它可在室温下获得用常规技术难以得到的、具有优良性质的非平衡组织，它可保留基体材料的固有性能．而仅使其表层物质性能优化等． |
| 关 键 词： | 沉积技术 基体材料 离子束 离子注入技术 组织 耐磨损性 表面改性 巨大 移植 保留 |
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