| AP-CVD法制备的二氧化钛薄膜结构及亲水性研究 |
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| 引用本文： | 刘鹏,汪建勋,翁文剑,韩高荣.AP-CVD法制备的二氧化钛薄膜结构及亲水性研究[J].真空科学与技术学报,2004,24(Z1):60-62. |
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| 作者姓名： | 刘鹏 汪建勋 翁文剑 韩高荣 |
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| 作者单位： | 刘鹏（浙江大学材料系,硅材料国家重点实验室,杭州,310027）
汪建勋（浙江大学材料系,硅材料国家重点实验室,杭州,310027）
翁文剑（浙江大学材料系,硅材料国家重点实验室,杭州,310027）
韩高荣（浙江大学材料系,硅材料国家重点实验室,杭州,310027） |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 基于实现在线镀膜的目的,研究了以TiCl4为钛源,用AP-CVD法在玻璃基板上制备TiO2薄膜的工艺.利用扫描电子显微(SEM)技术和X射线衍射(XRD)技术,研究了不同基板反应温度下薄膜的表面形貌和晶体结构,分析了表面形貌和结构对亲水性的影响.结果表明通过改变反应温度可以控制锐钛矿和金红石的相对量,薄膜的亲水性和表面形貌、粗糙度有密切的关系.
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| 关 键 词： | 二氧化钛薄膜 亲水性 |
| 文章编号： | 1672-7126(2004)增-060-03 |
Structure and Hydrophilicity of Titanium Dioxide Film Prepared by Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | AP-CVD TiCl4 |
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