| 磁控溅射B4C薄膜的制备与力学性能 |
| |
| 作者单位： | 韩增虎（上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030）;田家万（上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030）;李戈扬（上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030）;唐建毅（上海交通大学国家教育部高温材料及高温重点实验室,上海,200030） |
| |
| 摘 要： | 通过磁控溅射方法在不同基片温度下制备了B4C薄膜,利用傅立叶红外光谱、X射线衍射、透射电子显微镜表征了薄膜的微结构,并采用纳牛力学探针测量了薄膜的力学性能.结果表明,室温下制备的B4C薄膜具有很高的硬度(42.5
GPa)和杨氏模量(300 GPa),薄膜呈现非晶或纳米晶特征.随基片温度的提高,薄膜略有晶化,硬度与杨氏模量相应增加到50.4
GPa和420 GPa.
|
| 关 键 词： | B4C薄膜 微结构 力学性能 磁控溅射 |
| 文章编号： | 0253-9748(2002)01-0045-04 |
| 修稿时间： | 2001年3月27日 |
Preparation and Mechanical Properties of Magnetron Sputtered B4C Thin
Film |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
|
|
