| 173 nm真空紫外光源的研制 |
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| 引用本文： | 卜忍安,金晶,左丰国,王文江,张劲涛.173 nm真空紫外光源的研制[J].真空科学与技术学报,2007,27(Z1):65-67. |
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| 作者姓名： | 卜忍安 金晶 左丰国 王文江 张劲涛 |
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| 作者单位： | 西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室,西安,710049 |
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| 摘 要： | 非相干紫外或真空紫外光源的应用已成为众多工业部门中一项基础性和关键性的技术.本文着重介绍了介质阻挡放电产生173 nm紫外光的原理,并设计制作了利用此方法获得173 nm真空紫外光的装置.试验结果表明,用石英玻璃作介质阻挡层,Xe气体作为放电气体,能够获得峰值波长为175 nm,半高宽为12 nm的窄带大面积真空紫外光,并对其输出光谱进行分析.
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| 关 键 词： | 介质阻挡放电 紫外光源 单沟道放电 |
| 文章编号： | 1672-7126(2007)增-0065-03 |
| 修稿时间： | 2006年11月11 |
Development of 173 nm Vacuum UV Light Sources |
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| Bu Renan,Jin Jing,Zuo Fengguo,Wang Wenjiang,Zhang Jintao.Development of 173 nm Vacuum UV Light Sources[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2007,27(Z1):65-67. |
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| Authors: | Bu Renan Jin Jing Zuo Fengguo Wang Wenjiang Zhang Jintao |
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