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Fe/Mo多层膜的微观结构与应力研究
引用本文:李丹,贺汀,潘峰.Fe/Mo多层膜的微观结构与应力研究[J].真空科学与技术学报,2004,24(Z1):76-77.
作者姓名:李丹  贺汀  潘峰
作者单位:李丹(清华大学材料系先进材料教育部重点实验室,清华大学材料与工程系,北京,100084)       贺汀(清华大学材料系先进材料教育部重点实验室,清华大学材料与工程系,北京,100084)       潘峰(清华大学材料系先进材料教育部重点实验室,清华大学材料与工程系,北京,100084)
基金项目:国家自然科学基金,国家杰出青年科学基金
摘    要:本文采用电子束蒸镀技术制备了Fe/Mo金属多层膜,利用TEM等手段研究了Fe与Mo层厚度对薄膜微结构应力的影响.Fe与Mo层厚度相差较大而Fe单层膜厚薄到1.2 nm时,较薄的Fe在较厚的Mo层上外延生长.随着Mo厚度的变薄,Mo/Fe厚度比减少,Mo层没有足够的自由能约束Fe原子,Fe层形成稳定的bcc结构.当Fe外延生长在Mo层上时,晶格畸变导致铁钼层间产生很大的应力,使得薄膜出现均匀的细微裂纹.用胡克定律估算了其应力范围,约104MPa数量级.

关 键 词:Fe/Mo多层膜  微结构  应力
文章编号:1672-7126(2004)增-076-02

Microstructurs and Stress of Fe/Mo Multilayer Films
Abstract:
Keywords:
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