| 基于复合靶制备Ti-DLC膜的结构和性能 |
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| 引用本文： | 徐均琪,刘衡平,李传志,樊慧庆.基于复合靶制备Ti-DLC膜的结构和性能[J].真空,2008,45(6). |
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| 作者姓名： | 徐均琪 刘衡平 李传志 樊慧庆 |
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| 摘 要： | 利用非平衡磁控溅射技术,以Ti-C复合靶为溅射靶材,在Si基底上制备了钛掺杂的类金刚石(Ti-DLC)薄膜,并对薄膜的表而形貌、电阻率、硬度、摩擦系数、附着力等性能进行了研究.借助微观结构测试结果,综合分析了薄膜在不同工艺参数下的宏观性能变化.实验表明:随着Ti掺杂含量从4at.%到35at.%,Ti-DLC膜电阻率下降了3个数量级;同时,薄膜的本征硬度从4771 kgf/mm2降低到3037 kgf/mm2,而Ti含量继续增加,硬度值反而会增加;XRD衍射图样表明薄膜的基质呈非晶特征,膜层中有TiC晶相生成;掺杂Ti元素能改善DIE薄膜的附着性能,Ti含量的增加有助于附着力的提升.
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| 关 键 词： | 类金刚石薄膜 钛掺杂 非平衡磁控溅射 复合靶 |
Structure and characteristics of Ti-DLC films based on composite targets |
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| XU Jun-qi,LIU Heng-ping,LI Chuan-zhi,FAN Hui-qing.Structure and characteristics of Ti-DLC films based on composite targets[J].Vacuum,2008,45(6). |
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| Authors: | XU Jun-qi LIU Heng-ping LI Chuan-zhi FAN Hui-qing |
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