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| 合成C-BN膜之新方法——热钨丝辅助的等离子体CVD法 | |
| 引用本文： | H.Saitoh ,T.Ishiguro ,Y.Ichinose ,潘婉莲.合成C-BN膜之新方法——热钨丝辅助的等离子体CVD法[J].新型炭材料,1988(2). |
| 作者姓名： | H.Saitoh T.Ishiguro Y.Ichinose 潘婉莲 |
| 摘 要： | 引言合成金刚石膜有许多种工艺,如碳靶的离子束喷溅法,烃类用氢稀释的射频或微波等离子体CVD法以及烃类的热钨丝CVD法。世界上正致力于研究合成立方系氮化硼(C-BN)膜中的气体。然而,C-BN膜的合成,除离子束喷溅法外,在等离子体法和热CVD工艺中并没有得到成功。用离子束喷溅法,形成的C-BN结构部分为无定形的BN(α-BN)结构。如上所述,在合成C-BN和金刚石结构的工艺中似乎在气源上略有差异.从这一点出发,我们研究了等离 |
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