镀制方式对高衰减镍铬合金膜中性度的影响 |
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引用本文: | 王忠连,王瑞生,阴晓俊,张勇喜,金秀,马敬.镀制方式对高衰减镍铬合金膜中性度的影响[J].光电工程,2014,41(8):90. |
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作者姓名: | 王忠连 王瑞生 阴晓俊 张勇喜 金秀 马敬 |
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作者单位: | 王忠连:沈阳仪表科学研究院有限公司, 沈阳 110043 王瑞生:沈阳仪表科学研究院有限公司, 沈阳 110043 阴晓俊:沈阳仪表科学研究院有限公司, 沈阳 110043 张勇喜:沈阳仪表科学研究院有限公司, 沈阳 110043 金秀:沈阳仪表科学研究院有限公司, 沈阳 110043 马敬:沈阳仪表科学研究院有限公司, 沈阳 110043
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摘 要: | 对比了用不同镀制工艺方式镀制的Ni80Cr20膜中性密度滤光片的中性度特性,溅射工艺镀制的密度片中性度值3.7%,远好于电子枪蒸发和电阻蒸发镀制结果(15%)。采用相平衡理论,模拟计算了的热蒸发镀制的镍铬合金膜的蒸发速率,铬相比镍含量偏高2.8倍,导致了膜层中合金含量相对膜料出现较大差异,导致中性密度滤光片光谱中性度的下降。使用蔡司SUPRA35扫描电镜和牛津EDS能谱仪分别测试了溅射工艺和热蒸发工艺镀制的密度滤光片的镍铬含量,测试结果与模拟分析结论基本一致。
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关 键 词: | 中性密度滤光片 镀制方式 中性度 镍铬合金 |
收稿时间: | 2013/11/12 |
The Influence of Different Coating Process on Density Neutrality of Deep Attenuation Ni-Cr Film |
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Abstract: | |
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Keywords: | neutrality density filter (ND filter) coating process density neutrality Ni-Cr alloy |
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