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微测辐射热计的非均匀性校正新方法
引用本文:孟丽娅,袁祥辉,吕果林,黄友恕.微测辐射热计的非均匀性校正新方法[J].光电工程,2005,32(12):78-81.
作者姓名:孟丽娅  袁祥辉  吕果林  黄友恕
作者单位:重庆大学,光电技术及系统教育部重点实验室,重庆,400044
摘    要:针对微测辐射热计的非均匀性校正对衬底温度要求较高的问题,从探测器的线性模型出发,提出了一种新型非均匀性校正方法。方法首先令阵列中不同探测单元的光响应率比和衬底温度响应率比分别相等,达到补偿衬底温度变化的目的;随后再执行传统的两点非均匀性校正。用数模转换器将存储在EPROM内的偏置电压输出到MOS管的栅极上,实现对偏置电流的控制,调节探测元及补偿元的响应率。仿真结果表明,该校正方法可以在变化范围约为4K的均匀衬底温度内达到良好校正效果。

关 键 词:微测辐射热计  非均匀性校正  衬底温度  响应率
文章编号:1003-501X(2005)12-0078-04
收稿时间:2005-01-05
修稿时间:2005-05-12

New nonuniformity correction method of microbolometer
MENG Li-ya,YUAN Xiang-hui,L Guo-lin,HUANG You-shu.New nonuniformity correction method of microbolometer[J].Opto-Electronic Engineering,2005,32(12):78-81.
Authors:MENG Li-ya  YUAN Xiang-hui  L Guo-lin  HUANG You-shu
Affiliation:Key Laboratory of Optoelectronic Technology and Systems of the Education Ministry, Chongqing University, Chongqing 400044, China
Abstract:
Keywords:Microbolometer  Nonuniformity correction  Substrate temperature  Responsivity
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