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| 激光在薄膜生成中的应用 | |
| 引用本文： | 强游.激光在薄膜生成中的应用[J].真空与低温,1986(3). |
| 作者姓名： | 强游 |
| 摘 要： | 1985年激光与电子光学会议(CLEO85)于5月21～24日在美国巴尔的摩市会议中心举行,会议报告了不少激光在薄膜中的应用。 Allied公司报告了准分子(ArF)激光器诱发的化学汽相淀积硅化钛膜。薄膜在450℃淀积,650～750℃老化,得到电阻率为20～25微欧·厘米的光谱TiSi_2膜。 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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