| AZ5214E反转光刻胶的性能研究及其在剥离工艺中的应用 |
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| 引用本文： | 陈光红,于映,罗仲梓,吴清鑫.AZ5214E反转光刻胶的性能研究及其在剥离工艺中的应用[J].功能材料,2005,36(3):431-433,440. |
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| 作者姓名： | 陈光红 于映 罗仲梓 吴清鑫 |
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| 作者单位： | 1. 福州大学,电子系,福建,福州,350002
2. 厦门大学,萨本栋微机电中心,福建,厦门,361005 |
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| 基金项目： | 国家基金青年基金资助项目(60301006)，福建省自然科学基金资助项目(A0310012) |
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| 摘 要： | 研究了AZ5214E反转光刻胶的性能并选择适当的工艺可制得利于剥离的倒台面,并将其应用于射频MEMS开关的制作中剥离厚 2μm的金薄膜。用扫描电镜(SEM)测出胶的侧壁为倒台面。
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| 关 键 词： | AZ5214E 反转 剥离 |
| 文章编号： | 1001-9731(2005)03-0431-03 |
Study the performance of AZ5214E image-reversal photoresist and its uses in lift-off technics |
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| CHEN Guang-hong,YU Ying,LUO Zhong-zi,WU Qing-xin.Study the performance of AZ5214E image-reversal photoresist and its uses in lift-off technics[J].Journal of Functional Materials,2005,36(3):431-433,440. |
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| Authors: | CHEN Guang-hong YU Ying LUO Zhong-zi WU Qing-xin |
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| Affiliation: | CHEN Guang-hong~1,YU Ying~1,LUO Zhong-zi~2,WU Qing-xin~1 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | AZ5214E image-reversal lift-off |
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