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沉积温度对磁控溅射Ni3Al-Cr薄膜微观结构及性能的影响
引用本文:邢永燕,魏贤华,马拥军,代波.沉积温度对磁控溅射Ni3Al-Cr薄膜微观结构及性能的影响[J].功能材料,2013,44(4):483-487.
作者姓名:邢永燕  魏贤华  马拥军  代波
作者单位:西南科技大学材料科学与工程学院,四川省非金属复合与功能材料重点实验室,四川绵阳621010
基金项目:国家高技术研究发展计划(863计划)重点资助项目(2009AA035002);四川省非金属复合与功能材料重点实验室开放基金资助项目(11zxfk17);西南科技大学研究生创新基金资助项目(12ycjj07)
摘    要:通过磁控溅射分别在300、400、500和600℃下沉积了Ni3Al-Cr薄膜。采用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)表征了薄膜的晶体结构和表面形貌,通过方阻法检测了薄膜的抗腐蚀性能,采用纳米压痕表征了薄膜的硬度。结果表明,沉积温度对薄膜的微观结构、抗腐蚀及力学性能有重要影响。随着沉积温度的升高,薄膜晶粒及颗粒尺寸增大,300℃时形成尺寸均匀的立方体小颗粒,400和500℃时颗粒长大且致密堆积,600℃时部分颗粒过度长大。在400℃沉积的薄膜兼具最优的抗腐蚀性和力学性能。证明了方阻法表征薄膜抗腐蚀性能的可靠性。

关 键 词:薄膜  磁控溅射  微观结构  抗腐蚀性能  力学性能

The influence of depositing temperature on structure,corrosion resistance and mechanical properties of magnetron sputtered Ni3Al-Cr thin films
XING Yong-yan,WEI Xian-hua,MA Yong-jun,DAI Bo.The influence of depositing temperature on structure,corrosion resistance and mechanical properties of magnetron sputtered Ni3Al-Cr thin films[J].Journal of Functional Materials,2013,44(4):483-487.
Authors:XING Yong-yan  WEI Xian-hua  MA Yong-jun  DAI Bo
Affiliation:(State Key Laboratory Cultivation Base for Nonmetal Composites and Functional Materials,School of Materials Science and Engineering,Southwest University of Science and Technology,Mianyang 621010,China)
Abstract:
Keywords:
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