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Ce:YIG磁光薄膜电子结构的计算
引用本文:胡华安,王坚红,段志云,何华辉.Ce:YIG磁光薄膜电子结构的计算[J].功能材料,2000,31(5):488-490.
作者姓名:胡华安  王坚红  段志云  何华辉
作者单位:1. 军事经济学院,湖北,武汉,430035
2. 华中理工大学,湖北,武汉,430074
基金项目:中国科学院资助项目,5702006,
摘    要:采用DV-Xα方法计算了YIG、Bi-YIG及Ce-YIG磁光薄膜的电子结构,在能态密度的基础上,得出了导致磁光效庆的两种电转移跃迁。对Ce^3+的掺入,极大地增大了跃迁的振子强度;Ce5d、Ce4f与Fe3d形成具有较大自旋一轨道相互作用的耦合轨道;Ce^3+的掺入产生了新的跃迁;它们是Ce-YIG的磁光效应增大的原因。

关 键 词:DV-Xα方法  磁光薄膜  电子结构
文章编号:1001-9731(2000)05-0488-03
修稿时间:1999-10-13

The Calculation of Electronic Structure of Ce-YIG Magneto-Optic Thin Film
HU Huaan,WANG Jianhong,DUAN Zhiyun,HE Huahui.The Calculation of Electronic Structure of Ce-YIG Magneto-Optic Thin Film[J].Journal of Functional Materials,2000,31(5):488-490.
Authors:HU Huaan  WANG Jianhong  DUAN Zhiyun  HE Huahui
Affiliation:HU Huaan ,WANG Jianhong ,DUAN Zhiyun (Wuhan Institute of Economics,Wuhan,430035,China) HE Huahui (Huazhong University of Science and Technology,Wuhan,430074,China)
Abstract:
Keywords:
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