| 反应磁控溅射制备的SiO2防护涂层抗原子氧侵蚀性能研究 |
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| 引用本文： | 多树旺,李美栓,刘庭芝.反应磁控溅射制备的SiO2防护涂层抗原子氧侵蚀性能研究[J].功能材料,2007,38(A07):2633-2636. |
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| 作者姓名： | 多树旺 李美栓 刘庭芝 |
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| 作者单位： | [1]江西科技师范学院江西省材料表面工程重点实验室,江西南昌330013 [2]中科院金属研究所沈阳材料科学国家（联合）实验室,辽宁沈阳110016 |
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| 基金项目： | 江西省自然科学基金资助项目（0650035）;江西省教育厅科技计划基金资助项目（赣教技字[2007]280号） |
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| 摘 要： | 在原子氧侵蚀地面模拟设备中对Kapton和利用反应磁控溅射制备的SiO2涂层进行了原子氧暴露实验，并采用XPS和SEM等分析手段对暴露前后试样表面的物理和化学变化进行了研究．结果表明，Kapton试样遭受了严重的侵蚀，质量损失较大；SiO2涂层质量变化很小，对基体提供了良好的保护作用．XPS分析结果表明，反应溅射的SiO2涂层是富Si的，初始暴露时由于氧化反应而质量有少许增加，随时间延长，涂层变得完全符合化学计量．SiO2涂层在原子氧暴露后涂层的太阳吸收率、辐射率和反射系数均没有发生明显的变化．SiO2涂层较脆，易产生裂纹，原子氧会通过缺陷位侵蚀下面的基体材料，严重影响飞行任务的正常进行。
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| 关 键 词： | SiO2涂层 原子氧 磁控溅射 防护涂层 |
| 文章编号： | 1001-9731（2007）增刊-2633-04 |
| 修稿时间： | 2007-04-05 |
Atomic oxygen erosion resistance of reactive magnetron sputtered SiO2 coatings on Kapton |
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| DUO Shu-wang, LI Mei-shuan, LIU Ting-zhi.Atomic oxygen erosion resistance of reactive magnetron sputtered SiO2 coatings on Kapton[J].Journal of Functional Materials,2007,38(A07):2633-2636. |
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| Authors: | DUO Shu-wang LI Mei-shuan LIU Ting-zhi |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | SiO2 coatings atomic oxygen magnetron sputtering protective coatings |
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